Silicon etching in NF3/O2 remote microwave plasmas

Journal of Vacuum Science and Technology A: Vacuum, Surfaces and Films

Volumn 17, Issue 5, 1999, Pages 2431-2437

  Matsuo, P J ^a   Kastenmeier, B E E ^a   Oehrlein, G S ^a   Langan, J G ^b  

^a STATE UNIVERSITY OF NEW YORK   (United States)

^b AIR PRODUCTS AND CHEMICALS INC   (United States)

Author keywords

[No Author keywords available]

Indexed keywords

EID: 0033435624     PISSN: 07342101     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.1116/1.581979     Document Type: Article

References (17)

1. P. J. Matsuo, B. E. E. Kastenmeier, J. J. Beulens, and G. S. Oehrlein, J. Vac. Sci. Technol. A 15, 1801 (1997).
2. B. E. E. Kastenmeier, P. J. Matsuo, J. J. Beulens, and G. S. Oehrlein, J. Vac. Sci. Technol. A 14, 2802 (1996).
3. K. E. Greenberg and J. T. Verdeyen, J. Appl. Phys. 57, 1596 (1985).
4. G. Bruno, P. Capezzuto, G. Cicala, and P. Manodoro, J. Vac. Sci. Technol. A 12, 690 (1994).
5. B. A. Huling, G. M. Engle, C. A. Schneider, R. J. Gibson, and R. G. Ridgeway, Solid State Technol. 37, 73 (1994).
6. C. J. Mogab, A. C. Adams, and D. L. Flamm, J. Appl. Phys. 49, 3796 (1978).
7. L. M. Lowenstein, J. Vac. Sci. Technol. A 6, 1984 (1988).
8. K. J. Nordheden and J. T. Verdeyen, J. Electrochem. Soc. 133, 2168 (1986).
9. A. Nagata, H. Ichihashi, Y. Kusunoki, and Y. Horiike, Jpn. J. Appl. Phys., Part 1 28, 2368 (1989).
10. B. E. E. Kastenmeier, P. J. Matsuo, G. S. Oehrlein, and J. G. Langan, J. Vac. Sci. Technol. A 16, 2047 (1998).
11. M. G. Blain, T. L. Meisenheimer, and J. E. Stevens, J. Vac. Sci. Technol. A 14, 2151 (1996).
12. M. G. Blain, J. Vac. Sci. Technol. A 17, 665 (1999).
13. M. G. Blain, R. L. Jarecki, and R. J. Simonson, J. Vac. Sci. Technol. A 16, 2115 (1998).
14. I. L. Alberts, N. C. Handy, and P. Palmiere, Chem. Phys. Lett. 129, 176 (1986).
15. D. Briggs and M. P. Seah, Practical Surface Analysis (Wiley, New York, 1990), p. 202.
16. G. S. Oehrlein, J. Vac. Sci. Technol. A 11, 34 (1993).
17. B. E. E. Kastenmeier, P. J. Matsuo, G. S. Oehrlein, R. E. Ellefson, and L. C. Frees, Appl. Phys. Lett, (submitted).