In situ examination of tin oxide atomic layer deposition using quartz crystal microbalance and Fourier transform infrared techniques

Journal of Vacuum Science and Technology A: Vacuum, Surfaces and Films

Volumn 23, Issue 4, 2005, Pages 581-588

  Du, X ^a   Du, Y ^b   George, S M ^a,b  

^a UCB 450   (United States)

^b UNIVERSITY OF COLORADO   (United States)

Author keywords

[No Author keywords available]

Indexed keywords

INFRARED ABSORBANCE; QUARTZ CRYSTALS; SURFACE ANALYSIS; TIN OXIDE;

AUGER ELECTRON SPECTROSCOPY; CHEMICAL SENSORS; FOURIER TRANSFORM INFRARED SPECTROSCOPY; QUARTZ;

TIN COMPOUNDS;

EID: 31044432506     PISSN: 07342101     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.1116/1.1914810     Document Type: Article

References (44)

1. J. L. Vossen and E. S. Poliniak, Thin Solid Films 13, 281 (1972).
2. C. Kilic and A. Zunger, Phys. Rev. Lett. 88, 095501 (2002).
3. T. Brousse, R. Retoux, U. Herterich, and D. M. Schleich, J. Electrochem. Soc. 145, 1 (1998).
4. W. F. Liu, X. J. Huang, Z. X. Wang, H. Li, and L. Q. Chen, J. Electrochem. Soc. 145, 59 (1998).
5. K. Sekizawa, H. Widjaja, S. Maeda, Y. Ozawa, and K. Eguchi, Appl. Catal., A 200, 211 (2000).
6. M. M. Gadgil, R. Sasikala, and S. K. Kulshreshtha, J. Mol. Catal. 87, 297 (1994).
7. N. Yamazoe, Sens. Actuators B 5, 7 (1991).
8. W. Gopel and K. D. Schierbaum, Sens. Actuators B 26, 1 (1995).
9. D. E. Williams, Sens. Actuators B 57, 1 (1999).
10. M. I. Baraton and L. Merhari, Mater. Trans., JIM 42, 1616 (2001).
11. N. Barsan and U. Weimar, J. Electroceram. 7, 143 (2001).
12. C. Xu, J. Tamaki, N. Miura, and N. Yamazoe, Sens. Actuators B 3, 147 (1991).
13. J. Mizsei, Sens. Actuators B 23, 173 (1995).
14. H. Ogawa, M. Nishikawa, and A. Abe, J. Appl. Phys. 53, 4448 (1982).
15. Y. S. Choe, Sens. Actuators B 77, 200 (2001).
16. B. Alterkop, N. Parkansky, S. Goldsmith, and R. L. Boxman, J. Phys. D 36, 552 (2003).
17. R. Sanjines, C. Coluzza, D. Rosenfeld, F. Gozzo, P. Almeras, F. Levy, and G. Margaritondo, J. Appl. Phys. 73, 3997 (1993).
18. C. Nayral, E. Viala, P. Fau, F. Senocq, J. C. Jumas, A. Maisonnat, and B. Chaudret, Chem.-Eur. J. 6, 4082 (2000).
19. J. Calderer, P. Molinas, J. Sueiras, E. Llobet, X. Vilanova, X. Correig, F. Masana, and A. Rodriguez, Microelectron. Reliab. 40, 807 (2000).
20. S. M. George, A. W. Ott, and J. W. Klaus, J. Phys. Chem. 100, 13121 (1996).
21. T. Suntola, Thin Solid Films 216, 84 (1992).
22. M. Ritala and M. Leskela, in Handbook of Thin Film Materials, edited by, H. S. Nalwa, (Academic Press, San Diego, CA, 2001).
23. H. Viirola and L. Niinisto, Thin Solid Films 249, 144 (1994).
24. A. Tarre, A. Rosental, A. Aidla, J. Aarik, J. Sundqvist, and A. Harsta, Vacuum 67, 571 (2002).
25. M. Utriainen, H. Lattu, H. Viirola, L. Niinisto, R. Resch, and G. Friedbacher, Mikrochim. Acta 133, 119 (2000).
26. J. Lu, J. Sundqvist, M. Ottosson, A. Tarre, A. Rosental, J. Aarik, and A. Harsta, J. Cryst. Growth 260, 191 (2004).
27. C. Ducso, N. Q. Khanh, Z. Horvath, I. Barsony, M. Utriainen, S. Lehto, M. Nieminen, and L. Niinisto, J. Electrochem. Soc. 143, 683 (1996).
28. M. Utriainen, S. Lehto, L. Niinisto, C. Ducso, N. Q. Khanh, Z. E. Horvath, I. Barsony, and B. Pecz, Thin Solid Films 297, 39 (1997).
29. A. Rosenthal, A. Tarre, A. Gerst, J. Sundqvist, A. Harsta, A. Aidla, J. Aarik, V. Sammelselg, and T. Uustare, Sens. Actuators B 93, 552 (2003).
30. J. W. Elam, M. D. Groner, and S. M. George, Rev. Sci. Instrum. 73, 2981 (2002).
31. M. N. Rocklein and S. M. George, Anal. Chem. 75, 4975 (2003).
32. J. D. Ferguson, A. W. Weimer, and S. M. George, Thin Solid Films 371, 95 (2000).
33. J. D. Ferguson, A. W. Weimer, and S. M. George, Chem. Mater. 12, 3472 (2000).
34. T. H. Ballinger, J. C. S. Wong, and J. T. Yates, Langmuir 8, 1676 (1992).
35. N. L. Wu, L. F. Wu, I. A. Rusakova, A. Hamed, and A. P. Litvinchuk, J. Am. Chem. Soc. 82, 67 (1999).
36. A. W. Ott, J. W. Klaus, J. M. Johnson, and S. M. George, Thin Solid Films 292, 135 (1997).
37. A. Awaluddin, M. J. Pilling, P. L. Wincott, S. LeVent, M. Surman, M. E. Pemble, and P. Gardner, Surf. Sci. 502, 63 (2002).
38. A. H. Kahn, Phys. Rev. 97, 1647 (1955).
39. M. I. Baraton and L. Merhari, Scr. Mater. 44, 1643 (2001).
40. U. Kersen and M. R. Sundberg, J. Electrochem. Soc. 150, H129 (2003).
41. L. X. Cao, L. H. Huo, G. C. Ping, D. M. Wang, G. F. Zeng, and S. Q. Xi, Thin Solid Films 347, 258 (1999).
42. J. D. Ferguson, A. W. Weimer, and S. M. George, J. Vac. Sci. Technol. A 23, 118 (2005).
43. Y. Cui, Q. Wei, H. Park, and C. M. Lieber, Science 293, 1289 (2001).
44. K. M. Lee, D. J. Lee, and H. Ahn, Mater. Lett. 58, 3122 (2004).