Infrared spectroscopy as analysing tool for materials used in microelectronics 2. Thin films

Informacije MIDEM

Volumn 27, Issue 2, 1997, Pages 120-130

  Gunde, Marta Klanjšek ^a,b  

^a NATIONAL INSTITUTE OF CHEMISTRY   (Slovenia)

^b Kemijski In titut   (Slovenia)

Author keywords

ATR; Attenuated Total Reflection; Berreman effect; Infrared beams; Infrared spectroscopy; Internal Reflection Element; IR beams; IRE; LO modes; Longitudinal optical modes; Materials for modern technologies; Microelectronics; MNOS; Thin films

Indexed keywords

EID: 3042980385     PISSN: 03529045     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: None     Document Type: Article

References (69)

1. M. Klanjšek Gunde, Informacije MIDEM. 27 (1997), 23-30
2. S. Wolf and R. N. Taubner: Silicon Processing for the VLSI Era, volume 1: Process Technology, Lattice press Sunset Beach, California (1986)
3. M. H. Ludwig, Crit. Rev. Sol. St. Mater. Sci. 21 (1996), 265-351
4. U. Techner and K. Hübner, Phys. Stat. Sol. (b), 159 (1990), 917-926
5. P. Grosse, Microchim. Acta, 11 (1991), 309-323
6. J. E. Franke and T. M. Niemczyk, and D. M. Haaland, Spectrochim. Acta 50A (1994), 1687-1723
7. A. Sassella, Adv. Mater. 8 (1996), 349-352
8. M. Klanjšek Gunde, B. Aleksandrov, Appl. Opt. 30 (1991), 3186-3196
9. M. Klanjšek Gunde, Appl. Spectrosc. 46 (1992), 365-372
10. M. Milosevic and S. L. Berets, Appl. Spectrosc. 47 (1993), 566-574
11. K. Yamamoto, H. Ishida, Vib. Spectrosc. 8 (1994), 1-36
12. K. Yamamoto, H. Ishida, Appl. Opt. 34 (1995), 4177-4185
13. B. R. Davidson, L Hart, R. C. Newman, T. B. Joyce, T. J. Bullough, C. C. Button, J. Mater. Sci: Mater. Electron.7 (1996), 355-360
14. W. Hilber, M. Helm, K. Alavi, R. N. Pathak, Appl. Phys. Lett. 69 (1996), 2528-2530
15. R. G. Greenler, J. Chem. Phys. 44 (1966), 310-315
16. H. Brunner, U. Mayer, H. Hoffmann, Appl. Spectrosc. 51 (1997), 209-217
17. D. W. Berreman, Phys. Rev. 130 (1963), 2193-2198
18. M. Klanjšek Gunde, disertacija, Univerza v Ljubljani, Fakulteta za matematiko in fiziko, Oddelek za fiziko (1996)
19. A. N. Parikh, D. L Allara, J. Chem. Phys. 96 (1992), 927-945
20. J. A. Mielczarski, J. Phys. Chem. 97 (1993), 2649-2663
21. K. Yamamoto, H. Ishida, Appl. Spectrosc. 48 (1994), 775-787
22. R. Brendel, Appl. Phys. A 50 (1990), 587-593
23. P. Grosse, V. Offermann, Vib. Spectrosc. 8 (1995), 121-133
24. W. Offermann, P. Grosse, M. Feuerbacher, G. Dittmar, Vib. Spectrosc. 8 (1995), 135-140
25. K. Yamamoto, A. Masui, H. Ishida, Vib. Spectrosc. 13 (1997), 119-132
26. S. Ekgasit, H. Ishida, Appl. Spectrosc. 50 (1996), 1187-1195
27. K. Krishnan, P. J. Stout, M. Watanabe, in Practical Fourier Transform Infrared Spectroscopy p. 285-349, Academic Press (1990)
28. W. G. Spitzer, M. Tanenbaum, J. Appl. Phys. 32 (1961), 744-745
29. M. Klanjšek Gunde, Informacije MIDEM 20 (1990), 83-86
30. M. Klanjšek Gunde, B. Aleksandrov, Informacije MIDEM 20 (1990), 138-141
31. Y. Uchida, S. Takei, M. Matsumura, Jpn. J. Appl. Phys. 35 (1996), 1460-1463
32. W. Bensch, W. Bergholz, Semicond. Sci. Technol. 5 (1990), 421-426
33. K. B. Clark, J. A. Bardwell, J. M. Baribeau, J. Appl. Phys. 76 (1994), 3114-3122
34. O. Sneh, M. L. Wise, A. W. Ott, L A. Okada, S. M. George, Surf. Sci. 334 (1995), 135-152
35. A. Kučírková, K. Navrátil, Appl. Spectrosc. 48 (1994), 113-120
36. R. Ossikovski, B. Drévillon, M. Firon, J. Opt. Soc. Am. A 12 (1995), 1797-1804
37. M. Klanjšek Gunde, B. Aleksandrov, Appl. Spectrosc. 44 (1990), 970-974
38. M. Klanjšek Gunde, B. Aleksandrov, Informacije MIDEM 20 (1990), 201-204
39. J. E. Olsen, F. Shimura, J. Appl. Phys. 66 (1989), 1353-1358
40. H. Shirai, Jpn. J. Appl. Phys. 33 (1994), L94-L97
41. R. A. B. Devine, Appl. Phys. Lett 68 (1996), 3108-3110
42. J. Okuno, K. Park, Appl. Phys. Lett. 69 (1996), 541-543
43. T. Kanashima, Y. Kurioka, T. Imai, H. Yamamoto, M. Okuyama, Jpn. J. Appl. Phys. 36 (1997), 2460-2463
44. M. Gupta, V. K. Rathi, R. Thangaraj, O. P. Agnihotri, Thin Soi. Films 204 (1991), 77-106
45. T. S. Chao, W. H. Chen, T. F. Lei, Jpn. J. Appl. Phys. 34 (1995), 2370-2373
46. T. Balz, R. Brendel, R. Hezel, J. Appl. Phys. 76 (1994), 4811-4816
47. R. Yamanaka, T. Hattori, T. Mine, T. Tanaka, Jpn. J. Appl. Phys. 34 (1995), 6794-6799
48. H. G. Tompkins, M. Dydyk, P. W. Deal, J. Electrochem. Soc. 137 (1990), 2003-2004
49. K. Yamamoto, A. Masui. Appl. Spectrosc. 6 (1996), 759-763
50. M. Firon, C. Bonnelle, A. Mayeux, J. Vac. Sci. Technol. 14 (1996), 2488-2492
51. D. M. Back, in Advances in Physics (1990), p. 265-312
52. J. Knobloch, P. Hess, Appl. Phys. Lett. 69 (1996), 4041-4043
53. D. M. Haaland, Anal. Chem. 60 (1988), 1208-1217
54. J. E. Franke, L. Zhang, T. Niemczyk, D. M. Haaland, J. H. Linn, J. Electrochem. Soc. 140 (1993), 1425-1429
55. L. Zhang, J. E. Franke, T. M. Niemczyk, D. M. Haaland, Appl. Spectrosc. 51 (1997), 259-264
56. C. W. Uu, B. T. Dai, C. F. Yah, Thin Sol. Films 270 (1995), 607-611
57. R. Ossikovski, N. Blayo, B. Drévilion, M. Firon, B. Delahaye, A. Mayeux, Appl. Phys. Lett. 65 (1994), 1236-1238
58. R. Swope, W. S. Yoo, J. Vac. Sci. Technol. B 14 (1996), 1702-1705
59. S. Lomardo, S. U. Campisano, Mater. Sci. Engn. R17 (1996) 281-336
60. Y. C. Kim, H. H. Park, J. S. Chun, W. J. Lee, Thin Sol. Films 237 (1994), 57-65
61. J. H. Edgar, C. A. Carosella, C. R. Eddy, Jr., D. T. Smith, J. Mat. Sci.: Mater. Electron. 7 (1996), 274-253
62. K. Matsui, M. Taga, T. Kobayashi, Jpn. J. Appl. Phys. 32 (1993), L796-L798
63. W. Götz, N. M. Johnson, P. D. Bour, M. D. McCloskey, E. E. Haller, Appl. Phys. lett. 69 (1996), 3725-3727
64. Z. I. Alferov, Phys. Scripta T68 (1996), 32-45
65. P. Grosse, B. Harbecke, B. Heinz, W. Jantz, M. Maier, Appl. Phys. A 50 (1990), 7-12
66. B. Harbecke, Appl. Phys. B 39 (1986), 165-170
67. K. Ohta, H. Ishida, Appl. Opt. 29 (1990), 2466-2473
68. C. Schwartz, L. F. DeSandre, Appl. Opt. 26 (1987), 3140-3144
69. A. A. Hamilton, T. Dumelow, T. J. Parker, S. R. P. Smith, J. Phys. Condens. Mater. 8 (1996), 8027-8039