Combinatorial chemical vapor deposition. Achieving compositional spreads of titanium, tin, and hafnium oxides by balancing reactor fluid dynamics and deposition kinetics

Chemistry of Materials

Volumn 15, Issue 1, 2003, Pages 292-298

  Smith, Ryan C ^a   Hoilien, Noel ^a   Chien, Jimmy ^a   Campbell, Stephen A ^a   Roberts, Jeffrey T ^a   Gladfelter, Wayne L ^a  

^a University of Minnesota   (United States)

Author keywords

[No Author keywords available]

Indexed keywords

HAFNIUM; METAL OXIDE; NITRATE; SILICON; TIN DERIVATIVE; TITANIUM DIOXIDE;

ARTICLE; CHEMICAL COMPOSITION; COMBINATORIAL CHEMISTRY; CONCENTRATION (PARAMETERS); DIELECTRIC CONSTANT; FILM; FLUID FLOW; HYPOBARISM; PRECURSOR; REACTOR; SPECTROMETRY; TEMPERATURE; VAPOR; X RAY PHOTOELECTRON SPECTROSCOPY;

EID: 0037435629     PISSN: 08974756     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.1021/cm020900+     Document Type: Article

References (33)

1. Wilk, G. D.; Wallace, R. M.; Anthony, J. M. J. Appl. Phys. 2001, 89, 5243-5275.
2. Buchanan, D. A. IBM J. Res. Dev. 1999, 43, 245-264.
3. Wilk, G. D.; Wallace, R. M.; Anthony, J. M. J. Appl. Phys. 2000, 87, 484-492.
4. van Dover, R. B.; Schneemeyer, L. F.; Fleming, R. M.; Huggins, H. A. Biotechnol. Bioeng. 1999, 61, 217-225.
5. van Dover, R. B.; Schneemeyer, L. F.; Fleming, R. M. Nature 1998, 392, 162-164.
6. van Dover, R. B.; Schneemeyer, L. F. IEEE Electron Device Lett. 1998, 19, 329-331.
7. Schneemeyer, L. F.; van Dover, R. B.; Fleming, R. M. Appl. Phys. Lett. 1999, 75, 1967-1969.
8. Aiyer, H. N.; Nishioka, D.; Maruyama, R.; Shinno, H.; Matsuki, N.; Miyazaki, K.; Fujioka, H.; Koinuma, H. Jpn. J. Appl. Phys., Part 2 2001, 40, L81-L83.
9. Wang, Q.; Yue, G.; Li, J.; Han, D. Solid State Commun. 1999, 113, 175-178.
10. Gilmer, D. C.; Colombo, D. G.; Taylor, C. J.; Roberts, J.; Haugstad, G.; Campbell, S. A.; Kim, H.-S.; Wilk, G. D.; Gribelyuk, M. A.; Gladfelter, W. L. Chem. Vap. Deposition 1998, 4, 9-11.
11. Colombo, D. G.; Gilmer, D. C.; Young, J. V. G.; Campbell, S. A.; Gladfelter, W. L. Chem. Vap. Deposition 1998, 4, 220-222.
12. Smith, R. C.; Hoilien, N.; Taylor, C. J.; Ma, T.; Campbell, S. A.; Roberts, J.; Copel, M.; Buchanan, D. A.; Gribelyuk, M.; Gladfelter, W. L. J. Electrochem. Soc. 2000, 147, 3472-3476.
13. Smith, R. C.; Ma, T.; Hoilien, N.; Tsung, L. Y.; Bevan, M. J.; Colombo, L.; Roberts, J.; Campbell, S. A.; Gladfelter, W. L. Adv. Mater. Opt. Electron. 2000, 10, 105-114.
14. Taylor, C. J.; Gilmer, D. C.; Colombo, D. G.; Wilk, G. D.; Campbell, S. A.; Roberts, J.; Gladfelter, W. L. J. Am. Chem. Soc. 1999, 121, 5220-5229.
15. Smith, R. C.; Hoilien, N.; Roberts, J.; Campbell, S. A.; Gladfelter, W. L. Chem. Mater. 2002, 14, 474-476.
16. Schmeisser, M. Angew. Chem. 1955, 67, 493-501.
17. Field, B. O.; Hardy, C. J. Proc. Chem. Soc. 1962, 76-77.
18. Yoon, Y. S.; Kang, W. N.; Yom, S. S.; Kim, T. W.; Jung, M.; Park, T. H.; Seo, K. Y.; Lee, J. Y. Thin Solid Films 1994, 238, 12-14.
19. Son, K.-A.; Mao, A. Y.; Kim, B. Y.; Liu, F.; Pylant, E. D.; Hess, D. A.; White, J. M.; Kwong, D. L.; Roberts, D. A.; Vrtis, R. N. J. Vac. Sci. Technol. A 1998, 16, 1670-1675.
20. Rausch, N.; Burte, E. P. Microelectron. Eng. 1992, 19, 725-728.
21. Klein, T. M.; Niu, D.; Epling, W. S.; Li, W.; Maher, D. M.; Hobbs, C. C.; Hedge, R. I.; Baumvol, I. J. R.; Parsons, G. N. Appl. Phys. Lett. 1999, 75, 4001-4003.
22. Alers, G. B.; Werder, D. J.; Chabal, Y.; Lu, H. C.; Gusev, E. P.; Garfunkel, E.; Gustafsson, T.; Urdahl, R. S. Appl. Phys. Lett. 1998, 73, 1517-1519.
23. Mackay, R.; Sleight, A. W.; Subramanian, M. A. J. Solid State Chem. 1996, 121, 437-442.
24. Wolfram, G.; Gobel, H. E. Mater. Res. Bull. 1981, 16, 1455-1464.
25. Wakino, K.; Minai, K.; Tamura, H. J. Am. Ceram. Soc. 1984, 67, 278-281.
26. McHale, A. E.; Roth, R. S. J. Am. Ceram. Soc. 1986, 69, 827-832.
27. Kudesia, R.; McHale, A. E.; Condrate, R. A., Sr.; Snyder, R. L. J. Mater. Sci. 1993, 28, 5569-5575.
28. Kudesia, R.; Snyder, R. L.; Condrate, R. A., Sr.; McHale, A. E. J. Phys. Chem. Solids 1993, 54, 671-684.
29. Campbell, S. A.; Gilmer, D. C.; Wang, X.; Hsieh, M.; Kim, H.-S.; Gladfelter, W. L.; Yan, J. IEEE Trans. Electron. Dev. 1997, 44, 104-109.
30. Van Daal, H. J. J. Appl. Phys. 1968, 39, 4467-4469.
31. Ma, T.; Campbell, S. A.; Smith, R.; Hoilien, N.; He, B.; Gladfelter, W. L.; Hobbs, C.; Buchanan, D.; Taylor, C.; Gribelyuk, M.; Tiner, M.; Copel, M.; Lee, J. J. IEEE Trans. Electron. Dev. 2001, 48, 2348-2356.
32. Huber, F. IEEE Trans. Parts, Hybrids, Packag. 1971, 7, 141-147.
33. Devine, R. A. B.; Revesz, A. G. J. Appl. Phys. 2001, 90, 389-393.