Does chemistry really matter in the chemical vapor deposition of titanium dioxide? Precursor and kinetic effects on the microstructure of polycrystalline films

Journal of the American Chemical Society

Volumn 121, Issue 22, 1999, Pages 5220-5229

  Taylor, Charles J ^a   Gilmer, David C ^a   Colombo, Daniel G ^a   Wilk, G D ^b   Campbell, Stephen A ^a   Roberts, Jeff ^a   Gladfelter, Wayne L ^a  

^a University of Minnesota   (United States)

^b TEXAS INSTRUMENTS   (United States)

Author keywords

[No Author keywords available]

Indexed keywords

TITANIUM DERIVATIVE; TITANIUM DIOXIDE;

ARTICLE; CHEMICAL REACTION KINETICS; CHEMICAL STRUCTURE; CRYSTAL STRUCTURE; MATHEMATICAL ANALYSIS; NONHUMAN; SCANNING ELECTRON MICROSCOPY; TEMPERATURE; VAPOR; X RAY DIFFRACTION;

EID: 0033538273     PISSN: 00027863     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.1021/ja984446f     Document Type: Article

References (48)

1. Yan, J.; Gilmer, D. C.; Campbell, S. A.; Gladfelter, W. L.; Schmid, P. G. J. Vac. Sci. Technol., B 1996, 14, 1706.
2. Campbell, S. A.; Gilmer, D. C.; Wang, X.-C.; Hsieh, M.-T.; Kim, H.-S.; Gladfelter, W. L.; Yan, J. IEEE Trans. Electron Devices 1997, 44, 104.
3. Gilmer, D. C.; Colombo, D. G.; Taylor, C. J.; Roberts, J.; Haugstad, G.; Campbell, S. A.; Kim, H.-S.; Wilk, G. D.; Gribelyuk, M. A.; Gladfelter, W. L. Chem. Vap. Deposition 1998, 4, 9.
4. Treichel, H.; Mitwalsky, A.; Tempel, G.; Zorn, G.; Bohling, D. A.; Coyle, K. R.; Felker, B. S.; George, M.; Kern, W.; Lane, A. P.; Sandler, N. P. Adv. Mater. Opt. Electron. 1995, 5, 163.
5. Son, K.-A.; Mao, A. Y.; Kim, B. Y.; Liu, F.; Pylant, E. D.; Hess, D. A.; White, J. M.; Kwong, D. L.; Roberts, D. A.; Vrtis, R. N. J. Vac. Sci. Technol., A 1998, 16, 1670.
6. Arita, K.; Fujii, E.; Shimada, Y.; Uemoto, Y.; Nasu, T.; Inoue, A.; Matsuda, A.; Otsuki, T.; Suzuoka, N. Jpn. J. Appl. Phys. 1994, 33, 5397.
7. Gilbert, S. R.; Wessels, B. W.; Neumayer, D. A.; Marks, T. J.; Schindler, J. L.; Kannewurf, C. R. In Metal-Organic Chemical Vapor Deposition of Electronic Ceramics; Desu, S. B., Beach, D. B., Wessels, B. W., Gokoglu, S., Eds.; Materials Research Society: Pittsburgh, 1994; Vol. 41.
8. Kawahara, T.; Yamamuka, M.; Makita, T.; Naka, J.; Yuuki, A.; Mikami, N.; Ono, K. Jpn. J. Appl. Phys. 1994, 33, 5129.
9. Kuroiya, T.; Tsunemine, Y.; Horikawa, T.; Makita, T.; Tanimura, J.; Mikami, N.; Sato, K. Jpn. J. Appl. Phys. 1994, 33, 5187.
10. van Dover: R. B.; Schneemeyer, L. F.; Fleming, R. M. Nature 1998, 392, 162.
11. Hass, G. Vacuum 1952, 2, 331.
12. Feuersanger, A. E. Proc. IEEE 1964, 52, 1463.
13. Ghoshtagore, R. N.; Norieka, A. J. J. Electrochem. Soc. 1970, 117, 1310.
14. Ghoshtagore, R. N. J. Electrochem. Soc. 1970, 117, 529.
15. Fitzgibbons, E. T.; Sladek, K. J.; Hartwig, W. H. J. Electrochem. Soc. 1972, 119, 735.
16. Balog, M.; Schieber, M.; Patai, S.; Michman, M. J. Cryst. Growth 1972, 17, 298.
17. Takahashi, Y.; Tsuda, K.; Sugiyama, K.; Minoura, H.; Makino, D.; Tsuiki, M. J. Chem. Soc., Faraday Trans. 1 1981, 77, 1051.
18. Fuyuki, T.; Matsunami, H. Jpn. J. Appl. Phys. 1986, 25, 1288.
19. Fuyuki, T.; Kobayashi, T.; Matsnami, H. J. Electrochem. Soc. 1988, 135, 248.
20. Kamata, K.; Maruyama, K.; Amano, S.; Fukazawa, H. J. Mater. Sci. Lett. 1990, 9, 316.
21. Lu, J.; Raj, R. J. Mater. Res. 1991, 6, 1913.
22. Chang, H. L. M.; You, H.; Guo, J.; Lam, D. J. Appl. Surf. Sci. 1991, 48/49, 12.
23. Lakomaa, E.-L.; Haukka, S.; Suntola, T. Appl. Surf. Sci. 1992, 60/ 61, 742.
24. Won, T.; Yoon, S.; Kim, H. J. Electrochem. Soc. 1992, 139, 3284.
25. Chang, H. L. M.; You, H.; Gao, Y.; Guo, J.; Foster, C. M.; Chiarello, R. P.; Zhang, T. J.; Lam, D. J. J. Mater. Res. 1992, 7, 2495.
26. Ritala, M.; Leskelä, M.; Nykänen, E.; Soininen, P.; Niinistö, L. Thin Solid Films 1993, 225, 288.
27. Wu, Y.; Bradley, D. C.; Nix, R. M. Appl. Surf. Sci. 1993, 64, 21.
28. Ritala, M.; Leskelä, M.; Niinistö, L.; Haussalo, P. Chem. Mater. 1993, 5, 1174.
29. Rausch, N.; Burte, E. P. J. Electrochem. Soc. 1993, 140, 145.
30. Chen, S.; Masen, M. G.; Gysling, H. J.; Paz-Pujalt, G. R.; Blanton, T. N.; Castro, T.; Chen, K. M.; Fictorie, C. P.; Gladfelter, W. L.; Franciosi, A.; Cohen, P. I.; Evans, J. F. J. Vac. Sci. Technol., A 1993, 11, 2419.
31. Chang, H. L. M.; Zhang, T. J.; Zhang, H.; Guo, J.; Kim, H. K.; Lam, D. J. J. Mater. Res. 1993, 8, 2634.
32. Yoon, Y. S.; Kang, W. N.; Yom, S. S.; Kim, T. W.; Jung, M.; Park, T. H.; Seo, K. Y.; Lee, J. Y. Thin Solid Films 1994, 238, 12.
33. Kim, T. W.; Jung, M.; Kim, H. J.; Park, T. H.; Yoon, Y. S.; Kang, W. N.; Yom, S. S.; Na, H. K. Appl. Phys. Lett. 1994, 64, 1407.
34. Fictorie, C. P.; Evans, J. F.; Gladfelter, W. L. J. Vac. Sci. Technol., A 1994, 12, 1108.
35. Aarik, J.; Aidla, A.; Uustare, T.; Sammelselg, V. J. Cryst. Growth 1995, 148, 268.
36. Versteeg, V. A.; Avedisian, T. C.; Raj, R. J. Am. Ceram. Soc. 1995, 78, 2763.
37. Zhang, Q.; Griffin, G. L. Thin Solid Films 1995, 263, 65.
38. Gamer, C. D.; Wallwork, S. C. J. Chem. Soc. A 1966, 1496.
39. Karpov, I.; Gladfelter, W. L.; Franciosi, A. Appl. Phys. Lett. 1996, 69, 4191.
40. Kim, H.-S.; Gilmer, D. C.; Campbell, S. A.; Polla, D. L. Appl. Phys. Lett. 1996, 69, 3860.
41. Kodas, T. T.; Hampden-Smith, M. J. In The Chemistry of Metal CVD; Kodas, T. T., Hampden-Smith, M. J., Eds.; VCH Publishers: New York, 1994; Vol. 429.
42. Wetterer, S. M.; Lavrich, D. J.; Cummings, T.; Bemasek, S. L.; Scoles, G. J. Phys. Chem. B 1998, 102, 9266.
43. Bent, B. E.; Nuzzo, R. G.; Dubois, L. H. J. Am. Chem. Soc. 1989, 111, 1634.
44. Brown, D. E.; George, S. M.; Huang, C.; Wong, E. K. L.; Rider, K. S.; Smith, R. S.; Kay, B. D. J. Phys. Chem. 1996, 100, 4988.
45. Seebauer, E. G.; Allen, C. E. Prog. Surf. Sci. 1995, 49, 265.
46. Zhang, H. Z.; Banfield, J. F. J. Mater. Chem. 1998, 8, 2073.
47. Gribb, A. A.; Banfield, J. F. Am. Mineral. 1997, 82, 717.
48. Penn, R. L.; Banfield, J. F. Am. Mineral. 1998, 83, 1077.