Micropatterning of alkyl- and fluoroalkylsilane self-assembled monolayers using vacuum ultraviolet light

Langmuir

Volumn 16, Issue 3, 2000, Pages 885-888

  Sugimura, Hiroyuki ^a   Ushiyama, Kazuya ^a   Hozumi, Atsushi ^a   Takai, Osamu ^a  

^a NAGOYA UNIVERSITY   (Japan)

Author keywords

[No Author keywords available]

Indexed keywords

ATOMIC FORCE MICROSCOPY; CHEMICAL BONDS; CHEMICAL VAPOR DEPOSITION; DECOMPOSITION; ETCHING; MOLECULES; ORGANIC COMPOUNDS; PHOTOLITHOGRAPHY; SILICON; THIN FILMS; ULTRAVIOLET RADIATION; X RAY PHOTOELECTRON SPECTROSCOPY;

FLUOROALKYLSILANE; OCTADECYLTRIMETHOXYSILANE; SELF ASSEMBLED MONOLAYERS; VACUUM ULTRAVIOLET LIGHT;

MONOLAYERS;

EID: 0034620411     PISSN: 07437463     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.1021/la990953e     Document Type: Article

References (46)

1. Plueddemann, E. P. Silane Coupling Reagents; Plenum Press: New York, 1991.
2. Sagiv, J. J. Am. Chem. Soc. 1980, 102, 92.
3. Wasserman, S. R.; Tao, Y.-T.; Whitesides, G. M. Langmuir 1989, 5, 1074.
4. Dressick, W. J.; Calvert, J. M Jpn. J. Appl. Phys. 1993, 32, 5829.
5. Lercel, M. J.; Craighead, H. G.; Parikh, A. N.; Seshadri, K.; Allara, D. L. J. Vac. Sci. Technol., B 1996, 14, 1844.
6. Sugimura, H.; Nakagiri, N. Jpn. J. Appl. Phys. 1997, 36, L968.
7. Wang, D. W.; Thomas, S. G.; Wang, K. L.; Xia, Y.; Whitesides, G. M. Appl. Phys. Lett. 1997, 60, 1593.
8. Fodor, S. P. A.; Read, J. L.; Pirrung, M. C.; Stryer, L.; Lu, A. T.; Solas, D. Science 1991, 251, 767.
9. Connolly, P.; Cooper, J.; Moores, G. R.; Shen, J.; Thompson, G. Nanotechnology 1991, 2, 160.
10. Britland, S.; Perez-Arnaud, E.; Clark, P.; McGinn, B.; Connolly, P.; Moores, G. Biotechnol. Prog. 1992, 8, 155.
11. Takahara, A.; Koiji, K.; Ge, S.-R.; Kajiyama, T. J. Vac. Sci. Technol., A 1996, 14, 1747.
12. Turner, D. C.; Chang, C.; Fang, K.; Brandow, S. L.; Murphy. D. B. Biophys. J. 1995, 69, 2782.
13. Sugimura, H.; Nakagiri, N. J. Am. Chem. Soc. 1997, 119, 9226.
14. Kleinfeld, D.; Kahler, K. H.; Hockberger, P. E. J. Neurosci. 1988, 8, 4098.
15. Matsuzawa, M.; Tokumitsu, S.; Knoll, W.; Sasabe H. Langmuir 1998, 14, 5133.
16. Calvert, J. M.; Chen, M.-S.; Dulcey, C. S.; Georger, J. H.; Peckearar, M. C.; Schnur, J. M.; Schoen, P. E. J. Vac. Sci. Technol., B 1991, 9, 3447.
17. Dressick, W. J.; Dulcey, C. S.; Georger, J. H.; Calvert, J. M. Chem. Mater. 1993, 5, 148.
18. Jeon, N. L.; Nuzzo, R. G.; Xia, Y.; Mrksich, M.; Whitesides, G. M. Langmuir 1995, 8, 3024.
19. Sugimura, H.; Nakagiri, N. Thin Solid Films 1996, 281, 572.
20. Jeon, N. L.; Clem, P. G.; Payne, D. A.; Nuzzo, R. G Langmuir 1996, 12, 5350.
21. Rieke, P. C.; Tarasevich, B. J.; Wood, L. L.; Engelhard, M. H.; Baer, D. R.; Fryxell, G. E.; John, C. M.; Laken, D. A.; Jaehnig, M. C. Langmuir 1994, 10, 619.
22. Collins, R. J.; Shin, H.; DeGuire, M. R.; Heuer, A. H.; Sukenik, C. N. Appl. Phys. Lett. 1996, 69, 860.
23. Huang, Z.; Wang, P.-C.; MacDiarmid, A. G.; Xia, X.; Whiteisides, G. M. Langmuir 1997, 13, 6480.
24. Sato, T.; Hasko, D. G.; Ahmed, H. J. Vac. Sci. Technol., B 1997, 15, 45.
25. Xia, Y.; Mrksich, M.; Kim, E.; Whitesides, G. M. J. Am. Chem. Soc. 1995, 117, 9576.
26. Lercel, M. J.; Tiberio, R. C.; Chapman, P. F.; Craighead, H. G.; Sheen, C. W.; Parikh, A. N.; Allara, D. L. J. Vac. Sci. Technol., B 1993, 11, 2823.
27. Mino, N.; Ozaki, S.; Ogawa K.; Hatada, M. Thin Solid Films 1994, 243, 374.
28. Hild, R.; David, C.; Muller, H. U.; Volkel, B.; Kayser, D. R.; Grunze, M. Langmuir 1998, 14, 342.
29. Youkin, R.; Berggren, K. K.; Johnson, K. S.; Prentiss, M.; Ralph, D. C.; Whitesides, G. M. Appl. Phys. Lett. 1997, 71, 1261.
30. Marrian, C. R. K.; Perkins, F. K.; Brandow, S. L.; Koloski, T. S.; Dobisz, E. A.; Calvert, J. M. Appl. Phys. Lett. 1994, 64, 390.
31. Perkins, F. K.; Dobisz, E. A.; Brandow, S. L.; Koloski, T. S.; Calvert, J. M.; Rhee, K. W.; Kosakowski, J. E.; Marrian, C. R. K. J. Vac. Sci. Technol., B 1994, 12, 3725.
32. Sugimura, H.; Nakagiri, N. Langmuir 1995, 11, 3623.
33. Sugimura, H.; Okiguchi, K.; Nakagiri, N.; Miyashita, M. J. Vac. Sci. Technol., B 1996, 14, 4140.
34. Brandow, S. L.; Calvert, J. M.; Snow, E. S.; Campbell, P. M. J. Vac. Sci. Technol., B 1997, 15, 1455.
35. Dulcey, C. S.; Georger Jr., J. H.; Krauthamer, V.; Stenger, D. A.; Fare, T. L.; Calvert, J. M Science 1991 252, 551.
36. Ichinose, N.; Sugimura, H.; Uchida, T.; Shimo, N.; Masuhara, H. Chem. Lett. 1993, 1961.
37. Brandow, S. L.; Chen, M.-S.; Aggarwal, R.; Dulcey, C. S.; Calvert, J. M.; Dressick, W. J Langmuir 1999, 15, 5429.
38. Lee, B.; Clark, N. A. Langmuir 1998, 14, 5498.
39. Bloomstein, T. M.; Horn, M. W.; Rothschild, M.; Kunz, R. R.; Palmacci, S. T.; Goodman, R. B. J. Vac. Sci. Technol., B 1997, 15, 2112.
40. Sugimura, H.; Nakagiri, N. Appl. Phys. A 1998, 66, S427.
41. Sugimura, H.; Nakagiri, N. J. Photopolym. Sci. Technol. 1997, 10, 661.
42. Hozumi A.; Ushiyama K.; Sugimura, H.; Takai, O. Langmuir 1999, 15, 7600.
43. Beamson, G.; Briggs, D. High-Resolution XPS of Organic Polymers; John Wiley & Sons: Chichester, 1992.
44. Holländer, A.; Klemberg-Sapieha, J. E.; Wertheimer, M. R. Macromolecules 1994, 27, 2893.
45. Suzuki, Y.; Shin-Ogi, M. Jpn. J. Appl. Phys. 1990, 29, L1517.
46. Brunner, H.; Vallant, T.; Mayer, U.; Hoffmann, H Langmuir 1996, 12, 4614.