Nanoscale patterning of an organosilane monolayer on the basis of tip-induced electrochemistry in atomic force microscopy

Journal of Vacuum Science and Technology B: Microelectronics and Nanometer Structures

Volumn 14, Issue 6, 1996, Pages 4140-4143

  Sugimura, Hiroyuki ^a   Okiguchi, Keiko ^a   Nakagiri, Nobuyuki ^a   Miyashita, Masayuki ^a  

^a NIKON CORPORATION   (Japan)

Author keywords

[No Author keywords available]

Indexed keywords

EID: 0000516541     PISSN: 10711023     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.1116/1.588607     Document Type: Article

References (24)

1. C. S. Dulcey, J. H. Georger, Jr., V. Krauthamer, D. A. Stenger, T. L. Fare, and J. M. Calvert, Science 552, 551 (1991).
2. J. M. Calvert, M.-S. Chen, C. S. Dulcey, J. H. Georger, M. C. Peckerar, J. M. Schnur, and P. E. Schoen, J. Electrochem. Soc. 139, 1677 (1992).
3. N. Ichinose, H. Sugimura, T. Uchida, N. Shimo, and H. Masuhara, Chem. Lett. 1961 (1993).
4. M. J. Lercel, R. C. Tiberio, P. F. Chapman, H. G. Craighead, C. W. Sheen, A. N. Parikh, and D. L. Allara, J. Vac. Sci. Technol. B 11, 2823 (1993).
5. P. C. Rieke, B. J. Tarasevich, L. L. Wood, M. H. Engelhard, D. R. Baer, G. E. Fryxell, C. M. John, D. A. Laken, and M. C. Jaehnig, Langmuir 10, 619 (1994).
6. C. R. K. Marrian, F. K. Perkins, S. L. Brandow, T. S. Koloski, E. A. Dobisz, and J. M. Calvert, Appl. Phys. Lett. 64, 390 (1994).
7. F. K. Perkins, E. A. Dobisz, S. L. Brandow, T. S. Koloski, J. M. Calvert, K. W. Rhee, J. E. Kosakowski, and C. R. K. Marrian, J. Vac. Sci. Technol. B 12, 3725 (1994).
8. H. Sugimura and N. Nakagiri, Langmuir 11, 3623 (1995).
9. H. Sugimura and N. Nakagiri, J. Vac. Sci. Technol. A 14, 1223 (1996).
10. H. Sugimura, K. Okiguchi, and N. Nakagiri, Jpn. J. Appl. Phys. 35, 3749 (1996).
11. M. A. McCord and R. F. W. Pease, J. Vac. Sci. Technol. B 4, 86 (1986).
12. M. A. McCord and R. F. W. Pease, J. Vac. Sci. Technol. B 6, 293 (1988).
13. E. A. Dobisz and C. R. K. Marrian, Appl. Phys. Lett. 58, 2526 (1991).
14. H. C. Day, D. R. Allee, R. George, and V. A. Burrows, Appl. Phys. Lett. 62, 1629 (1993).
15. L. Stockman, G. Neuttiens, C. Van Haesendonck, and Y. Bruynseraede, Appl. Phys. Lett. 62, 2935 (1993).
16. S. Yamamoto, H. Yamada, and H. Tokumoto, Jpn. J. Appl. Phys. 34, 3396 (1995).
17. C. B. Ross, L. Sun, and R. M. Crooks, Langmuir 9, 632 (1993).
18. M. J. Lercel, G. F. Redinbo, F. D. Pardo, M. Rooks, R. C. Tiberio, P. Simpson, H. G. Craighead, C. W. Sheen, A. N. Parikh, and D. L. Allara, J. Vac. Sci. Technol. B 12, 3663 (1994).
19. S. R. Wasserman, Y.-T. Tao, and G. M. Whitesides, Langmuir 5, 1074 (1989).
20. L. T. Zhuravlev, Langmuir 3, 316 (1987).
21. A. Haran, D. H. Waldeck, R. Naamen, E. Moons, and D. Cahen, Science 263, 948 (1994).
22. R. Guckenberger, M. Heim, G. Cevc, H. F. Knapp, W. Wiegräbe, and A. Hillebrand, Science 266, 1538 (1994).
23. H. Sugimura, T. Uchida, N. Kitamura, and H. Masuhara, Jpn. J. Appl. Phys. 32, L553 (1993).
24. H. Sugimura, T. Uchida, N. Kitamura, and H. Masuhara, J. Phys. Chem. 94, 4352 (1994).