Synthesis of oxide thin films and overlayers by atomic layer epitaxy for advanced applications

Materials Science and Engineering B

Volumn 41, Issue 1, 1996, Pages 23-29

  Niinistö, Lauri ^a   Ritala, Mikko ^b   Leskelä, Markku ^b  

^a AALTO UNIVERSITY   (Finland)

^b UNIVERSITY OF HELSINKI   (Finland)

Author keywords

Atomic layer epitaxy; Organometallics; Oxide thin films

Indexed keywords

EPITAXIAL GROWTH; ORGANOMETALLICS; OXIDES; OXYGEN; OZONE;

ATOMIC LAYER EPITAXY; OXIDE THIN FILMS;

THIN FILMS;

EID: 0041822817     PISSN: 09215107     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.1016/S0921-5107(96)01617-0     Document Type: Article

References (61)

1. H.O. Pierson, Handbook of Chemical Vapor Deposition (CVD), Noyes Publications, Park Ridge, N.J. 1992, p. 226.
2. M. Leskelä and M. Ritala, J. Phys IV, 5 (1995) C5 937.
3. T. Venkatesan, Thin Solid Films, 216 (1992) 52.
4. H. Koinuma and M. Yoshimoto, Appl. Surf. Sci., 75 (1994) 308.
5. H. Koinuma, H. Nagata, T. Tsukahara, S. Gonda and M. Yoshimoto, Appl. Phys. Lett., 58 (1991) 2027.
6. M. Yoshimoto, H. Ohkubo, N. Kanda, H. Koinuma, K. Horiguchi, M. Kumagai and K. Hirai, Appl. Phys. Lett., 61 (1992) 2659.
7. S. Oda, H. Zama and S. Yamamoto, J. Cryst. Growth. 145 (1994) 232.
8. S. Oda, S. Yamamoto and A. Kawaguchi, J. Phys. IV, 5 (1995) C5-379.
9. X. Li, M. Kanai, T. Kawai and S. Kawai, Jpn. J. Appl. Phys., 31 (1992) L217.
10. H. Tabata and T. Kawai, Thin Solid Films, 225 (1993) 275.
11. M. Leskelä and L. Niinistö, in T. Suntola and M. Simpson (eds.). Atomic Layer Epitaxy, Blackie and Son, Glasgow, 1990, p. 1.
12. T. Suntola, Mater. Sci. Rep., 4 (1989) 261.
13. L. Niinistö and M. Leskelä, Appl. Surf. Sci., 82/83 (1994) 454.
14. T. Suntola and J. Antson. US Pat. 4,058,430 (1977).
15. S.M. Bedair, in T. Suntola and M. Simpson (eds.). Atomic Layer Epitaxy, Blackie and Son, Glasgow, 1990, p. 142.
16. T. Suntola, in D.T.J. Hurle (ed.). Handbook of Crystal Growth 3b, Elsevier, Amsterdam, 1994, p. 601.
17. J. Skarp, Finnish Pat. 64,878 (1983).
18. G. Oya, M. Yoshida and Y. Sawada, Appl. Phys. Lett., 51 (1987) 1143.
19. M. Leskelä, L. Niinistö, E. Nykänen, P. Soininen and M. Tiitta, Acta Polytech. Scand. Chem. Technol. Metall. Ser., 195 (1990) 193.
20. J. Aarik, A. Aidla, A. Jaek, A.-A. Kiisler and A.-A. Tammik, Acta Polytech. Scand. Chem. Technol. Metall. Ser., 195 (1990) 201.
21. L. Hiltunen, H. Kattelus, M. Leskelä, M. Mäkelä, L. Niinistö, E. Nykänen, P. Soininen and M. Tiitta, Mater. Chem. Phys., 28 (1991) 379.
22. H. Kattelus, M. Ylilammi, J. Saarilahti, J. Antson and S. Lindfors, Thin Solid Films, 225 (1993) 296.
23. K. Kattelus, M. Ylilammi, J. Salmi, T. Ranta-abo, E. Nykänen and I. Suni, Mater. Res. Soc. Symp. Proc., 284 (1993) 511.
24. M. Ritala, H. Saloniemi, M. Leskelä, T. Prohaska, G. Friedbacher and M. Grasserbauer, Thin Solid Films, in press.
25. G.S. Higashi and C.G. Flemming, Appl. Phys. Lett., 55 (1989) 1963.
26. J.-F. Fan, K. Sugioka and K. Toyoda, Mater. Res. Soc. Symp. Proc., 222 (1991) 327.
27. H. Kumagai, K. Toyoda, M. Matsumoto and M. Obara, Jpn. J. Appl. Phys. 32 (1993) 6137.
28. K. Kukli, J. Ihanus, M. Ritala and M. Leskelä, J. Electrochem. Soc., submitted for publication.
29. S.B. Desu, Mater. Sci. Eng., B13 (1992) 299.
30. M. Ritala, M. Leskelä, E. Nykänen, P. Soininen and L. Niinistö, Thin Solid Films, 225 (1993) 288.
31. M. Ritala, Ann. Acad. Sci. Fenn., Ser. A2, 257 (1994) 1.
32. J. Aarik, A. Aidla, T. Uustare and V. Sammelselg, J. Cryst. Growth. 148 (1995) 268.
33. H. Kumagai, M. Matsumoto, K. Toyoda, M. Obara and M. Suzuki, Thin Solid Films, 263 (1995) 47.
34. M. Ritala, M. Leskelä and E. Rauhala, Chem. Mater., 6 (1994) 556.
35. H. Döring, K. Hashimoto and A. Fujishima, Ber. Bunsenges. Phys. Chem., 96 (1992) 620.
36. M. Ritala, M. Leskelä, L. Niinistö and P. Haussalo, Chem. Mater., 5 (1993) 1174.
37. J. Aarik, A. Aidla, K. Kukli and T. Uustare, J. Cryst. Growth, 144 (1994) 116.
38. K. Kukli, J. Aarik, A. Aidla, O. Kohan, T. Uustare and V. Sammelselg, Thin Solid Films, 260 (1995) 135.
39. K. Kukli, M. Ritala and M. Leskelä, J. Electrochem. Soc., 142 (1995) 1671.
40. T. Asikainen, M. Ritala and M. Leskelä, J. Electrochem. Soc., 141 (1994) 3210.
41. T. Asikainen, M. Ritala and M. Leskelä, J. Electrochem. Soc., 142 (1995) 3538.
42. H. Viirola and L. Niinistö, Thin Solid Films, 249 (1994) 144.
43. H. Viirola and L. Niinistö, Thin Solid Films, 251 (1994) 127.
44. M. Tammenmaa, T. Koskinen, L. Hiltunen, L. Niinistö and M. Leskelä, Thin Solid Films, 124 (1985) 125.
45. V. Lujala, J. Skarp, M. Tammenmaa and T. Suntola, Appl. Surf. Sci., 82/83 (1994) 34.
46. R. Huang and A.H. Kitai, J. Mater. Sci. Lett., 12 (1993) 1444.
47. R. Huang and A.H. Kitai, Appl. Phys. Lett., 61 (1992) 1450.
48. M. Ritala and M. Leskelä, Appl. Surf. Sci., 75 (1994) 333.
49. M. Ritala, M. Leskelä, L. Niinistö, T. Prohaska, G. Friedbacher and M. Grasserbauer, Thin Solid Films, 250 (1994) 72.
50. H. Mölsä and L. Niinistö, Mater. Res. Soc. Symp. Proc., 335 (1994) 341.
51. H. Mölsä, L. Niinistö and M. Utriainen, Adv. Mater. Opt. Electron., 4 (1994) 389.
52. M. Nieminen, L. Niinistö and E. Rauhala, J. Mater. Chem., 6 (1996) 27.
53. K.-E. Elers, M. Ritala, M. Leskelä and E. Rauhala, Appl. Surf. Sci., 82/83 (1994) 468.
54. G.D. Parfitt, Prog. Surf. Membr. Sci., 11 (1976) 181.
55. C. Dücsö, N.Q. Khanh, Z. Horváth, I. Barsony, M. Utriainen, S. Lehto, M. Nieminen and L. Niinistö, J. Electrochem. Soc., 143 (1996) 683.
56. G. Härkönen, M. Leppänen, E. Soininen, R. Törnqvist and J. Viljanen, J. Alloys Comp., 225 (1995) 552.
57. D. Riihelä, M. Ritala, R. Matero and M. Leskelä, Thin Solid Films, in press.
58. S. Lehto, R. Lappalainen, H. Viirola and L. Niinistö, Fresenius Z. Anal. Chem., 355 (1996) 129.
59. H. Seim, H. Mölsä, H. Fjellvåg, M. Nieminen and L. Niinistö, to be published.
60. H. Mölsä, M. Sc. Thesis, Helsinki University of Technology, Espoo. 1991.
61. M. Leskelä, H. Mölsä and L. Niinistö, Supercond. Sci. Technol., 6 (1993) 627.