메뉴 건너뛰기




Volumn 5, Issue 1, 1999, Pages 7-9

Perfectly conformal TiN and Al2O3 films deposited by atomic layer deposition

Author keywords

[No Author keywords available]

Indexed keywords


EID: 0040218501     PISSN: 09481907     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.1002/(SICI)1521-3862(199901)5:1<7::AID-CVDE7>3.0.CO;2-J     Document Type: Article
Times cited : (338)

References (22)


* 이 정보는 Elsevier사의 SCOPUS DB에서 KISTI가 분석하여 추출한 것입니다.