Scanning probe lithography using a trimethylsilyl organosilane monolayer resist

Japanese Journal of Applied Physics, Part 1: Regular Papers and Short Notes and Review Papers

Volumn 35, Issue 6 SUPPL. B, 1996, Pages 3749-3753

  Sugimura, Hiroyuki ^a   Okiguchi, Keiko ^a   Nakagiri, Nobuyuki ^a  

^a NIKON CORPORATION   (Japan)

Author keywords

Anodic oxidation; Atomic force microscope; Humidity effects; Nanolithography; Organosilane monolayer; Scanning tunneling microscope

Indexed keywords

ANODIC OXIDATION; ATOMIC FORCE MICROSCOPY; CHEMICAL VAPOR DEPOSITION; DEGRADATION; ETCHING; MONOLAYERS; ORGANIC COMPOUNDS; PROBES; SCANNING; SCANNING TUNNELING MICROSCOPY; SEMICONDUCTING SILICON; SILANES;

CONDUCTIVE PROBE; DEGRADATION RATE; HUMIDITY EFFECT; PATTERNING MECHANISM; SCANNING PROBE LITHOGRAPHY; TRIMETHYLSILYL ORGANOSILANE MONOLAYER;

LITHOGRAPHY;

EID: 0030169989     PISSN: 00214922     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.1143/jjap.35.3749     Document Type: Article

References (36)

1. C. F. Quate: Highlights in Condensed Matter Physics and Future Prospects (NATO ASI Series B: Physics 285) ed. L. Esaki (New York: Plenum, 1991) p. 573.
2. M. A. McCord and R. F. W. Pease: J. Vac. Sci. & Technol. B 4 (1986) 86.
3. M. A. McCord and R. F. W. Pease: J. Vac. Sci. & Technol. B 5 (1987) 430.
4. M. A. McCord and R. F. W. Pease: J. Vac. Sci. & Technol. B 6 (1988) 293.
5. C. R. K. Marrian and R. J. Colton: Appl. Phys. Lett. 56 (1990) 755.
6. C. R. K. Marrian, E. A. Dobisz and J. A. Dagata: J. Vac. Sci. & Technol. B 10 (1992) 2877.
7. H. C. Day, D. R. Allee, R. George and V. A. Burrows: Appl. Phys. Lett. 62 (1993) 1629.
8. L. Stockman, G. Neuttiens, C. Van Haesendonck and Y. Bruynseraede: Appl. Phys. Lett. 62 (1993) 2935.
9. S. Yamamoto, H. Yamada and H. Tokumoto: Jpn. J. Appl. Phys. 34 (1995) 3396.
10. E. S. Snow, P. M. Campbell and B. V. Shanabrook: Appl. Phys. Lett. 63 (1993) 3488.
11. H. Sugimura, T. Uchida, X. Kitamura and H. Masuhara: J. Vac. Sci. & Technol. B 12 (1994) 2884.
12. N. Kramer, J. Jorritsma, H. Birk and C. Schönenberger: J. Vac. Sci. & Technol. B 13 (1995) 805.
13. J. A. Dagata, J. Schneir, H. H. Harary, C. J. Evans, M. T. Postek and J. Bennett: Appl. Phys. Lett. 56 (1990) 2001.
14. H. Sugimura, T. Uchida, N. Kitamura and H. Masuhara: J. Phys. Chem. 94 (1994) 4352.
15. C. S. Dulcey, J. H. Georger Jr., V. Krauthamer, D. A. Stenger, T. L. Fare and J. M. Calvert: Science 252 (1991) 551.
16. J. M. Calvert, M.-S. Chen, C. S. Dulcey, J. H. Georger, M. C. Peckerar, J. M. Schnur and P. E. Schoen: J. Vac. Sci. & Technol. B 9 (1991) 3447.
17. J. M. Calvert, M.-S. Chen, C. S. Dulcey, J. H. Georger, M. C. Peckerar, J. M. Schnur and P. E. Schoen: J. Electrochem. Soc. 139 (1992) 1677.
18. N. Ichinose, H. Sugimura, T. Uchida, X. Shimo and H. Masuhara: Chem. Lett. (1993) 1961.
19. R. C. Tiberio, H. G. Craighead, M. J. Lercel, T. Lau, C. W. Sheen and D. L. Allara: Appl. Phys. Lett. 62 (1993) 476.
20. M. J. Lercel, R. C. Tiberio, P. F. Chapman, H. G. Craighead, C. W. Sheen, A. N. Parikh and D. L. Allara: J. Vac. Sci. & Technol. B 11 (1993) 2823.
21. P. C. Rieke, B. J. Tarasevich, L. L. Wood, M. H. Engelhard, D. R. Baer, G. E. Fryxell, C. M. John, D. A. Laken and M. C. Jaehnig: Langmuir 10 (1994) 619.
22. G. Gillen, S. Wight, J. Bennett and M. J. Tarlov: Appl. Phys. Lett. 65 (1994) 534.
23. C. R. K. Marrian, F. K. Perkins, S. L. Brandow, T. S. Koloski, E. A. Dobisz and J. M. Calvert: Appl. Phys. Lett. 64 (1994) 390.
24. F. K. Perkins, E. A. Dobisz, S. L. Brandow, T. S. Koloski, J. M. Calvert, K. W. Rhee, J. E. Kosalowski and C. R. K. Marrian: J. Vac. Sci. & Technol. B 12 (1994) 3725.
25. Y.-T. Kim and A. J. Bard: Langmuir 8 (1992) 1096.
26. C. B. Ross, L. Sun and R. M. Crooks: Langmuir 9 (1993) 632.
27. M. J. Lercel, G. F. Redinbo, F. D. Pardo, M. Rooks, R. C. Tiberio, P. Simpson, H. G. Craighead, C. W. Sheen, A. N. Parikh and D. L. Allara: J. Vac. Sci. £Technol. B 12 (1994) 3663.
28. H. Sugimura and N. Nakagiri: Langmuir 11 (1995) 3623.
29. H. Sugimura and N. Nakagiri: to be published in Thin Solid Films.
30. H. Sugimura and N. Nakagiri: to be published in J. Vac. Sci. Technol. A.
31. W. Hertl and M. L. Hair: J. Phys. Chem. 75 (1971) 2181.
32. M. Suzuki, T. Fujii, T. Onuki, M. Miyashita and M. Matsushiro: Ultramicroscopy 42-44 (1992) 1553.
33. H. Sugimura and N. Nakagiri: Nanotechnology 6 (1995) 29.
34. H. Sugimura, T. Uchida, N. Kitamura and H. Masuhara: Appl. Phys. Lett. 63 (1993) 1288.
35. H. Sugimura, T. Yamamoto, N. Nakagiri, M. Miyashita and T. Onuki: Appl. Phys. Lett. 65 (1994) 1569.
36. L. J. M. Schlangen, L. K. Koopal, M. A. Cohen Stuart, J. Lyklema, M. Robin and H. Toulhoat: Langmuir 11 (1995) 1701.