Hydrophobicity of rare earth oxides grown by atomic layer deposition

Chemistry of Materials

Volumn 27, Issue 1, 2015, Pages 148-156

  Oh, Il Kwon ^a   Kim, Kangsik ^b   Lee, Zonghoon ^b   Ko, Kyung Yong ^a   Lee, Chang Wan ^a   Lee, Su Jeong ^a   Myung, Jae Min ^a   Lansalot Matras, Clement ^c   Noh, Wontae ^c   Dussarrat, Christian ^d   Kim, Hyungjun ^a   Lee, Han Bo Ram ^e  

^a Yonsei University   (South Korea)

^b Ulsan National Institute of Science and Technology   (South Korea)

^c AIR LIQUIDE   (France)

^d UNIVERSITY OF TOKYO   (Japan)

^e SolarLight Ltd   (South Korea)

Author keywords

[No Author keywords available]

Indexed keywords

COATINGS; CONTACT ANGLE; DEPOSITION; ERBIUM; HYDROPHOBICITY; NANOWIRES; RARE EARTHS; SILICON;

ALD GROWTH; ALD PRECURSOR; HYDROPHOBIC COATINGS; HYGROSCOPY; RARE EARTH OXIDE; SI NANOWIRE; SUPER-HYDROPHOBIC SURFACES; WATER CONTACT ANGLE;

ATOMIC LAYER DEPOSITION;

EID: 84921377493     PISSN: 08974756     EISSN: 15205002     Source Type: Journal    
DOI: 10.1021/cm503659d     Document Type: Article

References (56)

1. Boreyko, J. B.; Collier, C. P. ACS Nano 2013, 7, 1618
2. Padture, N. P.; Gell, M.; Jordan, E. H. Science 2002, 296, 280
3. Bewilogua, K.; Bräuer, G.; Dietz, A.; Gäbler, J.; Goch, G.; Karpuschewski, B.; Szyszka, B. CIRP Ann.-Manuf. Technol. 2009, 58, 608
4. Pan, Q.; Wang, M.; Wang, H. Appl. Surf. Sci. 2008, 254, 6002
5. Hakovirta, M.; Verda, R.; He, X. M.; Nastasi, M. Diamond Relat. Mater. 2001, 10, 1486
6. Nakajima, A. J. Ceram. Soc. Jpn. 2004, 112, 533
7. Nakajima, A.; Fujishima, A.; Hashimoto, K.; Watanabe, T. Adv. Mater. 1999, 11, 1365
8. Tsujii, K.; Yamamoto, T.; Onda, T.; Shibuchi, S. Angew. Chem., Int. Ed. Engl. 1997, 36, 1011
9. Tadanaga, K.; Katata, N.; Minami, T. J. Am. Ceram. Soc. 1997, 80, 3213
10. Chen, W.; Fadeev, A. Y.; Heieh, M. C.; Öner, D.; Youngblood, J.; McCarthy, T. J. Langmuir 1999, 15, 3395
11. Levkin, P. A.; Svec, F.; Fréchet, J. M. J. Adv. Funct. Mater. 2009, 19, 1993
12. Fredj, N.; Cohendoz, S.; Feaugas, X.; Touzain, S. Prog. Org. Coat. 2008, 63, 316
13. Hillborgl, H.; Gedde, U. W. IEEE Trans. Dielectr. Electr. Insul. 1999, 6, 703
14. Feng, X. J.; Feng, L.; Jin, M. H.; Zhai, J.; Jiang, L.; Zhu, D. B. J. Am. Chem. Soc. 2004, 126, 62
15. Yang, Y. H.; Li, Z. Y.; Wang, B.; Wang, C. X.; Chen, D. H.; Yang, G. W. J. Phys.: Condens. Matter 2005, 17, 5441
16. Feng, X. J.; Zhai, J.; Jiang, L. Angew. Chem., Int. Ed. 2005, 44, 5115
17. Azimi, G.; Dhiman, R.; Kwon, H.-M.; Paxson, A. T.; Varanasi, K. K. Nat. Mater. 2013, 12, 315
18. Zenkin, S.; Kos, S.; Musil, J. J. Am. Ceram. Soc. 2014, 97, 1
19. Doms, M.; Feindt, H.; Kuipers, W. J.; Shewtanasoontorn, D.; Matar, A. S.; Brinkhues, S.; Welton, R. H.; Mueller, J. J. Micromech. Microeng. 2008, 18, 055030
20. Torkkeli, A.; Saarilahti, J.; Haara, A.; Harma, H.; Soukka, T.; Tolonen, P. Proc. IEEE Conf. MEMS, Interlaken; IEEE: New York, 2001, 475.
21. Li, X.-M.; Reinhoudt, D.; Crego-Calama, M. Chem. Soc. Rev. 2007, 36, 1350
22. Cerio, F.; Drewery, J.; Huang, E.; Reynolds, G. J. Vac. Sci. Technol., A 1998, 16, 1863
23. Kim, H.; Lee, H.-B.-R.; Maeng, W.-J. Thin Solid Films 2009, 517, 2563
24. Leskela, M.; Ritala, M. J. Solid State Chem. 2003, 171, 170
25. Prokofiev, A. V.; Shelykh, A. I.; Melekh, B. T. J. Alloys Compd. 1996, 242, 41
26. Lee, J.-S.; Kim, W.-H.; Oh, I.-K.; Kim, M.-K.; Lee, G.; Lee, C.-W.; Park, J.; Lansalot-Matras, C.; Noh, W.; Kim, H. Appl. Surf. Sci. 2014, 297, 16
27. Kim, W.-H.; Maeng, W. J.; Moon, K.-J.; Myoung, J.-M.; Kim, H. Thin Solid Films 2010, 519, 362
28. Kim, W.-H.; Kim, M.-K.; Maeng, W. J.; Gatineau, J.; Pallem, V.; Dussarrat, C.; Noori, A.; Thompson, D.; Chu, S.; Kim, H. J. Electrochem. Soc. 2011, 158, G169
29. Xu, K.; Ranjith, R.; Laha, A.; Parala, H.; Milanov, A. P.; Fischer, R. A.; Bugiel, E.; Feydt, J.; Irsen, S.; Toader, T.; Bock, C.; Rogalla, D.; Osten, H.-J.; Kunze, U.; Devi, A. Chem. Mater. 2012, 24, 651
30. Dakhel, A. J. Alloys Compd. 2004, 365, 233
31. Ohmi, S.; Takeda, M.; Ishiwara, H.; Iwai, H. J. Electrochem. Soc. 2004, 151, G279
32. Hubbard, K. J.; Schlom, D. G. J. Mater. Res. 1996, 11, 2757
33. Ko, K. Y.; Kang, H.; Kim, J.; Lee, W.; Lee, H. S.; Im, S.; Kang, J.; Myoung, J.-M.; Kim, H. Mater. Sci. Semicond. Process. 2014, 27, 297
34. Puurunen, R. L. J. Appl. Phys. 2005, 97, 121301
35. George, S. M. Chem. Rev. 2010, 110, 111
36. Kim, H. J. Vac. Sci. Technol., B: Microelectron. Nanometer Struct. (1983-1990) 2003, 21, 2231
37. Gordon, R. G.; Hausmann, D.; Kim, E.; Shepard, J. Chem. Vap. Deposition 2003, 9, 73
38. Yim, S.-S.; Lee, D.-J.; Kim, K.-S.; Kim, S.-H.; Yoon, T.-S.; Kim, K.-B. J. Appl. Phys. 2008, 103, 113509
39. Hoex, B.; Heil, S. B. S.; Langereis, E.; van de Sanden, M. C. M.; Kessels, W. M. M. Appl. Phys. Lett. 2006, 89, 042112
40. Lie, M.; Fjellvag, H.; Kjekshus, A. Thin Solid Films 2005, 488, 74
41. Päiväsaari, J.; Putkonen, M.; Niinisto, L. J. Mater. Chem. 2002, 12, 1828
42. Gierałtowska, S.; Sztenkiel, D.; Guziewicz, E.; Godlewski, M.; łuka, G.; Witkowski, B. S.; Wachnicki, ł.; łusakowska, E.; Dietl, T.; Sawicki, M. Acta Phys. Pol., A 2011, 119, 692
43. Lintanf Salaün, A.; Mantoux, A.; Blanquet, E.; Djurado, E. J. Electrochem. Soc. 2009, 156, H311
44. Fryer, D. S.; Peters, R. D.; Kim, E. J.; Tomaszewski, J. E.; de Pablo, J. J.; Nealey, P. F. Macromolecules 2001, 34, 5627
45. Nanda, K. K.; Maisels, A.; Kruis, F. E.; Fissan, H.; Stappert, S. Phys. Rev. Lett. 2013, 91, 1061024
46. Nanda, K. K.; Maisels, A.; Kruis, F. E. J. Phys. Chem. C 2008, 112, 13488
47. Chernyshev, A. P. Physica B 2011, 406, 4124
48. Wexler, A. S.; Ge, Z. J. Geophys. Res. 1998, 103, 6083
49. Yasuda, H.; Shama, A. K.; Yasuda, T. J. Polym. Sci., Polym. Phys. Ed. 1981, 19, 1285
50. Rouffignac, P. D.; Park, J.-S.; Gordon, R. G. Chem. Mater. 2005, 17, 4808
51. Köck, E.-M.; Kogler, M.; Bielz, T.; Klötzer, B.; Penner, S. J. Phys. Chem. C 2013, 117, 17666
52. Jeon, S.; Hwang, H. J. Appl. Phys. 2003, 93, 6393
53. Baškys, E.; Bondarenk, V.; Grebinskij, S.; Senulis, M.; Sereika, R. Lith. J. Phys. 2014, 54, 120
54. Mickevičius, S.; Grebinskij, S.; Bondarenka, V.; Tvardauskas, H.; Senulis, M.; Lisauskas, V.; Šliužiene, K.; Vengalis, B.; Orlowski, B. A.; Baškys, E. Lith. J. Phys. 2010, 50, 317
55. Ma, M.; Hill, R. M.; Lowery, J. L.; Fridrikh, S. V.; Rutledge, G. C. Langmuir 2005, 21, 5549
56. Seo, J.; Lee, S.; Lee, J.; Lee, T. ACS Appl. Mater. Interfaces 2011, 3, 4722