Atomic layer deposition of SrTiO3 films with cyclopentadienyl-based precursors for metal-insulator-metal capacitors

Chemistry of Materials

Volumn 25, Issue 6, 2013, Pages 953-961

  Lee, Woongkyu ^a   Han, Jeong Hwan ^a   Jeon, Woojin ^a   Yoo, Yeon Woo ^a   Lee, Sang Woon ^a   Kim, Seong Keun ^a,c   Ko, Chang Hee ^b   Lansalot Matras, Clement ^b   Hwang, Cheol Seong ^a  

^a Seoul National University   (South Korea)

^b AIR LIQUIDE   (France)

^c Korea Institute of Science and Technology   (South Korea)

Author keywords

atomic layer deposition; capacitor; DRAM; Ru; RuO2; SrTiO3

Indexed keywords

CAPACITANCE DENSITY; ENHANCED REACTIVITY; EQUIVALENT OXIDE THICKNESS; METAL INSULATOR METAL CAPACITOR (MIM); POSSIBLE MECHANISMS; REACTION BARRIERS; RUO2; SRTIO;

CAPACITORS; DEPOSITION; DYNAMIC RANDOM ACCESS STORAGE; MIM DEVICES; RUTHENIUM; STRONTIUM TITANATES;

ATOMIC LAYER DEPOSITION;

EID: 84875581622     PISSN: 08974756     EISSN: 15205002     Source Type: Journal    
DOI: 10.1021/cm304125e     Document Type: Article

References (20)

1. Kim, S. K.; Lee, S. W.; Han, J. H.; Lee, B.; Han, S.; Hwang, C. S. Adv. Funct. Mater. 2010, 20, 2989
2. Kil, D.-S.; Song, H.-S.; Lee, K.-J.; Hong, K.; Kim, J.-H.; Park, K.-S.; Yeom, S.-J.; Roh, J.-S.; Kwak, N.-J.; Sohn, H.-C.; Kim, J.-W.; Park, S.-W. VLSI Symp. Technol. Dig. 2006, 38
3. Cho, H. J.; Kim, Y. D.; Park, D. S.; Lee, E.; Park, C. H.; Jang, J. S.; Lee, K. B.; Kim, H. W.; Ki, Y. J.; Han, I. K.; Song, Y. W. Solid-State Electron. 2007, 51, 1529
4. Han, J. H.; Lee, W.; Jeon, W.; Lee, S. W.; Ko, C.; Gatineau, J.; Hwang, C. S. Chem. Mater. 2012, 24, 4686
5. Vehkamäki, M.; Hänninen, T.; Ritala, M.; Leskelä, M.; Sajavaara, T.; Rauhala, E.; Keinonen, J. Chem. Vap. Deposition 2001, 7, 75
6. Menou, N.; Popovici, M.; Clima, S.; Opsomer, K.; Polspoel, W.; Kaczer, B.; Rampelberg, G.; Tomida, K.; Pawlak, M. A.; Detavernier, C.; Pierreux, D.; Swerts, J.; Maes, J. W.; Manger, D.; Badylevich, M.; Afanasiev, V.; Conard, T.; Favia, P.; Bender, H.; Brijs, B.; Vandervorst, W.; Van Elshocht, S.; Pourtois, G.; Wouters, D. J.; Biesemans, S.; Kittl, J. A. J. Appl. Phys. 2009, 106, 094101
7. Pawlak, M. A.; Kaczer, B.; Kim, M.-S.; Popovici, M.; Tomida, K.; Swerts, J.; Opsomer, K.; Polspoel, W.; Favia, P.; Vrancken, C.; Demeurisse, C.; Wang, W.-C.; Afanas'ev, V. V.; Vandervorst, W.; Bender, H.; Debusschere, I.; Altimime, L.; Kittl, J. A. Appl. Phys. Lett. 2010, 97, 162906
8. Pawlak, M. A.; Kaczer, B.; Kim, M.-S.; Popovici, M.; Swerts, J.; Wang, W.-C.; Opsomer, K.; Favia, P.; Tomida, K.; Belmonte, A.; Govoreanu, B.; Vrancken, C.; Demeurisse, C.; Bender, H.; Afanas'ev, V. V.; Debusschere, I.; Altimime, L.; Kittl, J. A. Appl. Phys. Lett. 2011, 98, 182902
9. Pawlak, M. A.; Swerts, J.; Popovici, M.; Kaczer, B.; Kim, M.-S.; Wang, W.-C.; Tomida, K.; Govoreanu, B.; Delmotte, J.; Afanas'ev, V. V.; Schaekers, M.; Vandervorst, W.; Kittl, J. A. Appl. Phys. Lett. 2012, 101, 042901
10. Kwon, O. S.; Kim, S. K.; Cho, M.; Hwang, C. S.; Jeong, J. J. Electrochem. Soc. 2005, 152, C229
11. Lee, W.; Han, J. H.; Lee, S. W.; Han, S.; Jeon, W. J.; Hwang, C. S. J. Mater. Chem. 2012, 22, 15037
12. Lee, S. W.; Kwon, O. S.; Han, J. H.; Hwang, C. S. Appl. Phys. Lett. 2008, 92, 222903
13. Lee, S. W.; Han, J. H.; Han, S.; Lee, W.; Jang, J. H.; Seo, M.; Kim, S. K.; Dussarrat, C.; Gatineau, J.; Min, Y.-S.; Hwang, C. S. Chem. Mater. 2011, 23, 2227
14. Lee, S. W.; Han, J. H.; Kim, S. K.; Han, S.; Lee, W.; Hwang, C. S. Chem. Mater. 2011, 23, 976
15. Holme, T. P.; Prinz, F. B. J. Phys. Chem. A 2007, 111, 8147
16. NIST. X-ray Photoelectron Spectroscopy Database; http://srdata.nist.gov/ xps/.
17. Hwang, C. S. J. Appl. Phys. 2002, 92, 432
18. Jelenkovic, E. V.; Tong, K. Y. J. Vac. Sci. Technol. B 2004, 22, 2319
19. Kim, S. K.; Han, S.; Jeon, W.; Yoon, J. H; Han, J. H.; Lee, W.; Hwang, C. S. ACS Appl. Mater. Interfaces 2012, 4, 4726
20. Han, J. H.; Han, S.; Lee, W.; Lee, S. W.; Kim, S. K.; Gatineau, J.; Dussarrat, C.; Hwang, C. S. Appl. Phys. Lett. 2011, 99, 0229