Thickness-dependent dielectric constants of (Ba,Sr)TiO 3 thin films with Pt or conducting oxide electrodes

Journal of Applied Physics

Volumn 92, Issue 1, 2002, Pages 432-437

  Hwang, Cheol Seong ^a  

^a Seoul National University   (South Korea)

Author keywords

[No Author keywords available]

Indexed keywords

CAPACITANCE VALUES; CONDUCTING OXIDE ELECTRODES; DIELECTRIC SURFACE; HIGH DIELECTRIC CONSTANTS; METAL ELECTRODES; OXIDE ELECTRODES; PT ELECTRODE; TIO;

CAPACITANCE; DIELECTRIC FILMS; ELECTROCHEMICAL ELECTRODES; PLATINUM;

THIN FILMS;

EID: 0036640583     PISSN: 00218979     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.1063/1.1483105     Document Type: Article

References (24)

1. C. Basceri, S. K. Streifer, A. I. Kingon, R. Waser, J. Appl. Phys. 82, 2497 (1997). jap JAPIAU 0021-8979
2. R. Waser, Integr. Ferroelectr. 15, 39 (1997). itf IFEREU 1058-4587
3. S. Dey, J.-J. Lee, P. Alluri, Jpn. J. Appl. Phys., Part 1 34, 3142 (1996). jjb JAPNDE 0021-4922
4. C. S. Hwang, B. T. Lee, K. H. Lee, H. J. Cho, H. Horii, C. S. Kang, W. D. Kim, S. I. Lee, M. Y. Lee, J. Appl. Phys. 85, 287 (1999). jap JAPIAU 0021-8979
5. K. Hieda et al., Proceedings of the International Electron Devices Meeting (IEEE, New York, 1998), p. 807.
6. C. T. Black and J. J. Welser, IEEE Trans. Electron Devices 46, 776 (1999). etd IETDAI 0018-9383
7. K. Natori, D. Otani, N. Sano, Appl. Phys. Lett. 73, 632 (1998). apl APPLAB 0003-6951
8. B. T. Lee and C. S. Hwang, Appl. Phys. Lett. 77, 124 (2000). apl APPLAB 0003-6951
9. O. G. Vendik, S. P. Zubko, T. T. Ter-Martirosayn, Appl. Phys. Lett. 73, 37 (1998). apl APPLAB 0003-6951
10. R. R. Mehta, B. D. Silverman, J. T. Jacobs, J. Appl. Phys. 44, 3379 (1973). jap JAPIAU 0021-8979
11. Ku and Ullman, J. Appl. Phys. 35, 265 (1964). jap JAPIAU 0021-8979
12. J. G. Simmons, Appl. Phys. Lett. 6, 54 (1965). apl APPLAB 0003-6951
13. J. F. Scott and M. Dawber, J. Phys. IV 11, 9 (2001). jpv JPICEI 1155-4339
14. N. A. Pertsev, A. G. Zembilgotov, A. K. Tagantsev, Phys. Rev. Lett. 80, 1988 (1998). prl PRLTAO 0031-9007
15. T. Schimizu, Solid State Commun. 102, 523 (1997). ssc SSCOA4 0038-1098
16. J. C. Shin, J. Park, C. S. Hwang, H. J. Kim, J. Appl. Phys. 86, 506 (1999). jap JAPIAU 0021-8979
17. J. D. Baniecki, R. B. Laibowitz, T. M. Shaw, J. Lian, H. Xu, Q. Y. Ma, J. Appl. Phys. 89, 2873 (2001). jap JAPIAU 0021-8979
18. C. S. Hwang, S. O. Park, H.-J. Cho, C. S. Kang, H. K. Kang, S. I. Lee, M. Y. Lee, Appl. Phys. Lett. 67, 2819 (1995). apl APPLAB 0003-6951
19. H. J. Cho, C. S. Kang, C. S. Hwang, J. W. Kim, H. Horii, B. T. Lee, S. I. Lee, M. Y. Lee, Jpn. J. Appl. Phys., Part 2 36, L874 (1997). jjc JAPLD8 0021-4922
20. C. Kittel, Introduction to Solid State Physics, 5th ed. (Wiley, New York, 1976), p. 154.
21. C. S. Hwang, M. D. Vaudin, P. K. Schenk, J. Mater. Res. 13, 368 (1998). jmr JMREEE 0884-2914
22. B. R. Chalamala, Y. Wei, R. H. Reuss, S. Aggarwal, B. E. Gnade, R. Ramesh, J. M. Edward, D. Sosa, D. E. Golden, Appl. Phys. Lett. 74, 1394 (1999). apl APPLAB 0003-6951
23. B. Jaffe, W. R. Cook, H. Jaffe, Piezoelectric Ceramics (Academic, London, 1971), p. 72.
24. J. Zhang, Z. Yin, M.-S. Zhang, J. F. Scott, Solid State Commun. 118, 241 (2001). ssc SSCOA4 0038-1098