Impact of bimetal electrodes on dielectric properties of TiO 2 and Al-doped TiO 2 films

ACS Applied Materials and Interfaces

Volumn 4, Issue 9, 2012, Pages 4726-4730

  Kim, Seong Keun ^a,b   Han, Sora ^a   Jeon, Woojin ^a   Yoon, Jung Ho ^a   Han, Jeong Hwan ^a   Lee, Woongkyu ^a   Hwang, Cheol Seong ^a  

^a Seoul National University   (South Korea)

^b Korea Institute of Science and Technology   (South Korea)

Author keywords

bimetal layer electrode; TiO 2; work function

Indexed keywords

BIMETAL ELECTRODES; BOTTOM ELECTRODES; CURRENT PROPERTIES; HIGH WORK FUNCTION; SCHOTTKY BARRIER HEIGHTS; TIO;

WORK FUNCTION;

ALUMINUM; PLATINUM; RUTHENIUM; TITANIUM; TITANIUM DIOXIDE; TITANIUM NITRIDE;

ARTICLE; CHEMISTRY; ELECTRICITY; ELECTRODE;

ALUMINUM; ELECTRICITY; ELECTRODES; PLATINUM; RUTHENIUM; TITANIUM;

EID: 84867462977     PISSN: 19448244     EISSN: 19448252     Source Type: Journal    
DOI: 10.1021/am301094t     Document Type: Article

References (15)

1. Kim, S. K.; Kim, W.-D.; Kim, K.-M.; Hwang, C. S.; Jeong, J. Appl. Phys. Lett. 2004, 85, 4112
2. Kim, S. K.; Choi, G.-J.; Lee, S. Y.; Seo, M.; Lee, S. W.; Han, J. H.; Ahn, H.-S.; Han, S.; Hwang, C. S. Adv. Mater. 2008, 20, 1429
3. Kim, S. K.; Lee, S. W.; Han, J. H.; Lee, B.; Han, S.; Hwang, C. S. Adv. Func. Mater. 2010, 20, 2989
4. Choi, G.-J.; Kim, S. K.; Won, S. J.; Kim, H. J.; Hwang, C. S. J. Electrochem. Soc. 2009, 156, G138
5. Kim, S. K.; Hwang, G. W.; Kim, W.-D.; Hwang, C. S. Electrochem. Solid-State Lett. 2006, 9, F5
6. Kim, S. K.; Lee, S. Y.; Seo, M.; Choi, G.-J.; Hwang, C. S. J. Appl. Phys. 2007, 102, 024109
7. Fröhlich, K.; Ťapajna, M.; Rosová, A.; Dobročka, E.; Hušeková, K.; Aarik, J.; Aidla, A. Electrochem. Solid-State Lett. 2008, 11, G19
8. Fröhlich, K.; Aarik, J.; Ťapajna, M.; Rosová, A.; Aidla, A.; Dobročka, E.; Hušková, K. J. Vac. Sci. Technol. B 2009, 27, 266
9. Han, J. H.; Han, S.; Lee, W.; Lee, S. W.; Kim, S. K.; Gatineau, J.; Dussarrat, C.; Hwang, C. S. Appl. Phys. Lett. 2011, 99, 022901
10. Han, J. H.; Lee, S. W.; Choi, G.-J.; Lee, S. Y.; Hwang, C. S.; Dussarrat, C.; Gatineau, J. Chem. Mater. 2009, 21, 207
11. Kim, S. K.; Lee, S. Y.; Lee, S. W.; Hwang, C. S.; Lee, J. W.; Jeong, J. J. Electrochem. Soc. 2007, 154, D95
12. Kim, S. K.; Han, S.; Han, J. H.; Lee, W.; Hwang, C. S. Phys. Status Solidi RRL 2011, 5, 262
13. Kim, S. K.; Han, J. H.; Kim, G. H.; Hwang, C. S. Chem. Mater. 2010, 22, 2850
14. Kim, S. K.; Han, S.; Kim, G. H.; Jang, J. H.; Han, J. H.; Hwang, C. S. J. Electrochem. Soc. 2011, 158, D477
15. Han, J. H.; Lee, S. W.; Kim, S. K.; Han, S.; Lee, W.; Hwang, C. S.; Dussarat, D.; Gatineau, J. Chem. Mater. 2012, 24, 1407