Influences of Pr and Mn co-substitution on crystallinity and electric properties of BiFeO3 thin films

Journal of the Ceramic Society of Japan

Volumn 118, Issue 1380, 2010, Pages 652-655

  Kawae, Takeshi ^a   Terauchi, Yuki ^a   Nakajima, Takashi ^a,b   Okamura, Soichiro ^a,b   Morimoto, Akiharu ^a  

^a KANAZAWA UNIVERSITY   (Japan)

^b TOKYO UNIVERSITY OF SCIENCE   (Japan)

Author keywords

BiFeO3; Cosubstitution; Mn; Pb free materials; PLD; Pr; Thin films

Indexed keywords

DEPOSITION; ELECTRIC FIELDS; FILMS; LEAD; MANGANESE; POLARIZATION; PRASEODYMIUM; PULSED LASER DEPOSITION; X RAY DIFFRACTION;

BIFEO3; COSUBSTITUTION; ELECTRIC FIELD CURVES; MAXIMUM ELECTRIC FIELD; MEASUREMENT FREQUENCY; PB-FREE MATERIALS; REMNANT POLARIZATIONS; SATURATED HYSTERESIS LOOPS;

THIN FILMS;

EID: 77956931052     PISSN: 18820743     EISSN: 13486535     Source Type: Journal    
DOI: 10.2109/jcersj2.118.652     Document Type: Article

References (33)

1. J. Wang, J. B. Neaton, H. Zheng, V. Nagarajan, S. B. Ogale, B. Liu, D. Viehland, V. Vaithyanathan, D. G. Schlom, U. V. Waghmare, N. A. Spaldin, K. M. Rabe, M. Wuttig and R. Ramesh, Science, 299, 1719 (2003).
2. J. Wang, H. Zheng, Z. Ma, S. Prasertchoug, M. Wuttig, R. Droopad, J. Yu, K. Eisenbeiser and R. Ramesh, Appl. Phys. Lett., 85, 2574 (2004).
3. K. Y. Yun, D. Ricinschi, T. Kanashima and M. Okuyama, Appl. Phys. Lett., 89, 192902 (2006).
4. F. Kubel and H. Schmid, J. Cryst. Growth, 129, 515 (1993).
5. J. Li, J. Wang, M. Wuttig, R. Ramesh, N. Wang, B. Ruette, A. P. Pyatakov, A. K. Zvezdin and D. Viehland, Appl. Phys. Lett., 84, 5261 (2004).
6. S. Y. Yang, F. Zavaliche, L. M. Ardabili, V. Vaithyanathan, D. G. Schlom, Y. J. Lee, Y. H. Chu, M. P. Cruz, Q. Zhan, T. Zhao and R. Ramesh, Appl. Phys. Lett., 87, 102903 (2005).
7. H. Naganuma and S. Okamura, J. Appl. Phys., 101, 09M103 (2007).
8. S. K. Singh and H. Ishiwara, Jpn. J. Appl. Phys., 44, L734 (2005).
9. K. Y. Yun, M. Noda, M. Okuyama, H. Saeki, H. Tabata and K. Saito, J. Appl. Phys., 96, 3399 (2004).
10. H. Y. Go, N. Wakiya, H. Funakubo, K. Satoh, M. Kondo, J. S. Cross, K. Maruyama, N. Mizutani and K. Shiosaki, Jpn. J. Appl. Phys., 46, 3491 (2007).
11. H. Bae, M. Bibes, A. Barthelemy, K. Bouzehouane, E. Jacquet, A. Khoda, J.-P. Contour, S. Fushi, F. Wyczisk, A. Forget, D. Lebeugle, D. Colson and M. Viret, Appl. Phys. Lett., 87, 072508 (2005).
12. T. Kawae, Y. Teauchi, H. Tsuda, M. Kumeda and A. Morimoto, Appl. Phys. Lett., 94, 112904 (2009).
13. S. Yasui, H. Uchida, H. Nakaki, K. Nishida, H. Funakubo and S. Koda, Appl. Phys. Lett., 91, 022906 (2007).
14. S. K. Singh, H. Ishiwara and K. Maruyama, Appl. Phys. Lett., 88, 262908 (2006).
15. H. Uchida, R. Ueno, H. Funakubo and S. Koda, Jpn. J. Appl. Phys., 44, L561 (2005).
16. H. Uchida, R. Ueno, H. Funakubo and S. Koda, J. Appl. Phys., 100, 014106 (2006).
17. G. D. Hu, X. Cheng, W. B. Wu and C. H. Yang, Appl. Phys. Lett., 91, 232909 (2007).
18. Y. H. Lee, J. M. Wu and C. H. Lai, Appl. Phys. Lett., 88, 042903 (2006).
19. Y. P. Liu and J. M. Wu, Electrochem. Solid-State Lett., 10, G39 (2007).
20. F. Huang, X. Lu, W. Lin, X. Wu, Y. Kan and J. Zhu, Appl. Phys. Lett., 89, 242914 (2006).
21. J. K. Kim, S. S. Kim, W. J. Kim, A. Bhalla and R. Guo, Appl. Phys. Lett., 88, 132901 (2006).
22. X. Qi, J. Dho, R. Tomov, M. Blamire and J. L. MacManus-Driscoll, Appl. Phys. Lett., 86, 062903 (2005).
23. T. Kawae, H. Tsuda and A. Morimoto, Appl. Phys. Express, 1, 051601 (2008).
24. T. Kawae, H. Tsuda, H. Naganuma, S. Yamada, M. Kumeda, S. Okamura and A. Morimoto, Jpn. J. Appl. Phys., 47, 7586 (2008).
25. S. K. Singh, K. Maruyama and H. Ishiwara, Appl. Phys. Lett., 91, 112913 (2007).
26. C. C. Lee and J. M. Wu, Electrochem. Solid-State Lett., 10, G58 (2007).
27. Z. Cheng, X. Wang, S. X. Dou, H. Kimura and K. Ozawa, Phys. Rev. B, 77, 092101 (2008).
28. S. K. Singh, H. Ishiwara, K. Sato and K. Maruyama, J. Appl. Phys., 102, 094109 (2007).
29. Z. X. Cheng, X. L. Wang, S. X. Dou, H. Kimura and K. Ozawa, J. Appl. Phys., 104, 116109 (2008).
30. Z. Quan, W. Liu, H. Hu, S. Xu, B. Sebo, G. Fang, M. Li and X. Zhao, J. Appl. Phys., 104, 084106 (2008).
31. H. Naganuma, J. Miura and S. Okamura, Appl. Phys. Lett., 93, 052901 (2008).
32. M. Azuma, H. Kanda, A. A. Belik, Y. Shimakawa and M. Takano, J. Magn. Magn. Mater., 310, 1177 (2007).
33. B. Yu, M. Li, Z. Hu, L. Pei, D. Guo, X. Zhao and S. Dong, Appl. Phys. Lett., 93, 182909 (2008).