Structural characteristics and annealing effect of ZnO epitaxial films grown by atomic layer deposition

Crystal Growth and Design

Volumn 9, Issue 12, 2009, Pages 5184-5189

  Yang, S ^a   Lin, B H ^a,b   Liu, W R ^a,b   Lin, J H ^a   Chang, C S ^a   Hsu, C H ^a,b   Hsieh, W F ^a,c  

^a NATIONAL CHIAO TUNG UNIVERSITY   (Taiwan)

^b NATIONAL SYNCHROTRON RADIATION RESEARCH CENTER   (Taiwan)

^c NATIONAL CHENG KUNG UNIVERSITY   (Taiwan)

Author keywords

[No Author keywords available]

Indexed keywords

EID: 75249107683     PISSN: 15287483     EISSN: 15287505     Source Type: Journal    
DOI: 10.1021/cg900580r     Document Type: Article

References (36)

1. Tsukazaki, A.; Ohtomo, A.; Onuma, T.; Ohtani, M.; Makino, T.; Sumiya, M.; Ohtani, K.; Chichibu, S. F.; Fuke, S.; Segawa, Y.; Ohno, H.; Koinuma, H.; Kawasaki, M. Nat. Mater. 2005, 4, 42.
2. Lim, J. H.; Kang, C. K.; Kim, K. K.; Park, I. K.; Hwang, D. K.; Park, S. J. Adv. Mater. 2006, 18, 2720.
3. Smith, A. Thin Solid Films 2000, 376, 47-55.
4. Hao, X. T.; Tan, L. W.; Ong, K. S.; Zhu, F. R. J. Cryst. Growth 2006, 287, 44.
5. Shukla, R. K.; Srivastava, A.; Srivastava, A.; Dubey, K. C. J. Cryst. Growth 2006, 294, 427.
6. Jo, J.; Seo, O.; Choi, H.; Lee, B. Appl. Phys. Express 2008, 1, 041202.
7. Tang, I. T.; Wang, Y. C.; Hwang, W. C.; Hwang, C. C.; Wu, N. C.; Houng, M. P.; Wang, Y. H. J. Cryst. Growth 2003, 252,190.
8. Tena-Zaera, R.; Katty, A.; Bastide, S.; Levy-Clement, C. Chem. Mater. 2007, 19, 1626.
9. Platzer-Björkman, C.; Törndahl, I.; Hultqvist, A.; Kessler, J.; Edoff, M. Thin Solid Films 2007, 515, 6024.
10. Zhang, B. P.; Wakatsuki, K.; Binh, N. T.; Usami, N.; Segawa, Y. Thin Solid Films 2004, 449, 12.
11. Ohkubo, I.; Matsumoto, Y.; Ohtomo, A.; Ohnishi, T.; Tsukazaki, A.; Lippmaa, M.; Koinuma, H.; Kawasaki, M. Appl. Surf. Sci. 2000, 159, 514.
12. Liu, W. R.; Hsieh, W. F.; Hsu, C. H.; Liang, K. S.; Chien, F. S. S. J. Appl. Crystallogr. 2007, 40, 924.
13. Liu, W. R.; Li, Y. H.; Hsieh, W. F.; Hsu, C. H.; Lee, W. C.; Lee, Y. J.; Hong, M.; Kwo, J. Cryst. Growth Des. 2009, 9, 239.
14. Lin, C. W.; Ke, D. J.; Chao, Y. C.; Chang, L.; Liang, M. H.; Ho, Y. T. J. Cryst. Growth 2007, 298, 472.
15. Kowalik, I. A.; Guziewicz, E.; Kopalko, K.; Yatsunenko, S.; Wójcik-Głodowska, A.; Godlewski, M.; Dłuzewski, P.; Lłusakowska, E.; Paszkowicz, W. J. Cryst. Growth 2009, 311, 1096.
16. Pung, S. Y.; Choy, K. L.; Hou, X.; Shan, C. Nanotechnology 2008, 19, 435609.
17. Lin, P. Y.; Gong, J. R.; Li, P. C.; Lin, T. Y.; Lyu, D. Y.; Lin, D. Y.; Lin, H. J.; Li, T. C.; Chang, K. J.; Lin, W. J. J. Cryst. Growth 2008, 310, 3024.
18. Lim, J.; Lee, C. Thin Solid Films 2007, 515, 3335.
19. Wójcik, A.; Godlewski, M.; Guziewicz, E.; Minikayev, R.; Paszkowicz, W. J. Cryst. Growth 2008, 310, 284.
20. Alessandri, I.; Zueca, M.; Ferroni, M.; Bontempi, E.; Depero, L. E. Cryst. Growth Des. 2009, 9, 1258.
21. King, D. M.; Li, J.; Liang, X.; Johnson, S. I.; Channel, M. M.; Weimer, A. W. Cryst. Growth Des. 2009, 9, 2828.
22. Puurunen, R. L. J. Appl. Phys. 2005, 97,121301.
23. Duniop, L.; Kursumovic, A.; MacManus-Driscoll, J. L. Appl. Phys. Lett. 2008,93, 172111.
24. Koyama, T.; Chichibu, S. F. J. Appl. Phys. 2004, 95, 7856.
25. Wang, X. Q.; Iwaki, H.; Murakami, M.; Du, X. L.; Ishitani, Y.; Yoshikawa, A. Jpn. J. Appl. Phys. 2003, 42, L99.
26. Chen, Y. F.; Bagnall, D. M.; Koh, H. J.; Park, K. T.; Hiraga, K.; Zhu, Z. Q.; Yao, T. J. Appl. Phys. 1998, 84, 3912.
27. Ohkubo, I.; Ohtomo, A.; Ohnishi, T.; Mastumoto, Y.; Koinuma, H.; Kawasaki, M. Surf. Sci. 1999, 443, L1043.
28. Vispute, R. D.; Talyansky, V.; Trajanovic, Z.; Choopun, S.; Downes, M.; Sharma, R. P.; Venkatesan, T.; Woods, M. C.; Lareau, R. T.; Jones, K. A.; Iliadis, A. A. Appl. Phys. Lett. 1991, 70, 2735.
29. Vinnichenko, M.; Shevchenko, N.; Rogozin, A.; Grötzschel, R.; Mücklich, A.; Kolitsch, A.; Möller, W. J. Appl. Phys. 2007, 102, 113505.
30. Abouzaid, A.; Ruterana, P.; Liu, C.; Morkoc, H. Superlattices Microstruct. 2007, 42, 110.
31. D. Kohla, M. H.; G. Heilanda Surf. Sci. 1973, 41,403.
32. Hass, K. C.; Schneider, W. F.; Curioni, A.; Andreoni, W. Science 1998, 282, 882.
33. Stampfl, C.; Van de Walle, C. G. Phys. Rev. B 1998, 57, R15052.
34. Gerthsen, D.; Litvinov, D.; Gruber, T.; Kirchner, C.; Waag, A. Appl. Phys. Lett. 2002, 81, 3972.
35. Vennegues, P.; Chauveau, J. M.; Korytov, M.; Departs, C.; Zuniga-Perez, J.; Morhain, C. J. Appl. Phys. 2008, 103, 083525.
36. Kawasaki, M.; Ohtomo, A.; Ohkubo, I.; Koinuma, H.; Tang, Z. K.; Yu, P.; Wong, G. K. L.; Zhang, B. P.; Segawa, Y. Mater. Sci. Eng., B 1998, 56, 239.