-
2
-
-
0032092947
-
-
M. P. Mack, A. C. Abare, M. Hansen, P. Kozodoy, S. Keller, U. Mishra, L. A. Coldren, and S. P. DenBaars, J. Cryst. Growth 189/190, 837 (1998).
-
(1998)
J. Cryst. Growth
, vol.189-190
, pp. 837
-
-
Mack, M.P.1
Abare, A.C.2
Hansen, M.3
Kozodoy, P.4
Keller, S.5
Mishra, U.6
Coldren, L.A.7
Denbaars, S.P.8
-
3
-
-
0000347988
-
-
S. Nakamura, M. Senoh, N. Iwasa, S. I. Ngahama, T. Yamada, T. Matsushita, Y. Sugimto, and H. Kiyoku, Appl. Phys. Lett. 70, 1417 (1997).
-
(1997)
Appl. Phys. Lett.
, vol.70
, pp. 1417
-
-
Nakamura, S.1
Senoh, M.2
Iwasa, N.3
Ngahama, S.I.4
Yamada, T.5
Matsushita, T.6
Sugimto, Y.7
Kiyoku, H.8
-
4
-
-
0001137412
-
-
N. Sharma, P. Thomas, D. Tricker, and C. Humphreys, Appl. Phys. Lett. 77, 1274 (2000).
-
(2000)
Appl. Phys. Lett.
, vol.77
, pp. 1274
-
-
Sharma, N.1
Thomas, P.2
Tricker, D.3
Humphreys, C.4
-
5
-
-
21544482023
-
-
X. W. Wu, C. R. Elsass, A. Abare, M. Mach, S. Keller, P. M. Petroff, S. P. Denbaars, J. S. Speck, and S. J. Rosner, Appl. Phys. Lett. 72, 692 (1998).
-
(1998)
Appl. Phys. Lett.
, vol.72
, pp. 692
-
-
Wu, X.W.1
Elsass, C.R.2
Abare, A.3
Mach, M.4
Keller, S.5
Petroff, P.M.6
Denbaars, S.P.7
Speck, J.S.8
Rosner, S.J.9
-
6
-
-
0035502174
-
-
H. K. Cho, J. Y. Lee, C. S. Kim, G. M. Yang, N. Sharma, and C. Humphreys, J. Cryst. Growth 231, 466 (2001).
-
(2001)
J. Cryst. Growth
, vol.231
, pp. 466
-
-
Cho, H.K.1
Lee, J.Y.2
Kim, C.S.3
Yang, G.M.4
Sharma, N.5
Humphreys, C.6
-
8
-
-
0038448071
-
-
P. Q. Miraglia, E. A. Preble, A. M. Roskowski, S. Einfeldt, S. H. Lim, Z. Liliental-Weber, and R. F. Davis, Thin Solid Films 437, 140 (2003).
-
(2003)
Thin Solid Films
, vol.437
, pp. 140
-
-
Miraglia, P.Q.1
Preble, E.A.2
Roskowski, A.M.3
Einfeldt, S.4
Lim, S.H.5
Liliental-Weber, Z.6
Davis, R.F.7
-
9
-
-
0032477116
-
-
S. Keller, S. F. Chichibu, M. S. Minsiky, E. Hu, U. K. Mishra, and S. P. DenBaars, J. Cryst. Growth 195, 258 (1998).
-
(1998)
J. Cryst. Growth
, vol.195
, pp. 258
-
-
Keller, S.1
Chichibu, S.F.2
Minsiky, M.S.3
Hu, E.4
Mishra, U.K.5
Denbaars, S.P.6
-
10
-
-
27144482123
-
-
A. Hangleiter, F. Hitzel, C. Netzel, D. Fuhrmann, U. Rossow, G. Ade, and P. Hinze, Phys. Rev. Lett. 95, 127402 (2005).
-
(2005)
Phys. Rev. Lett.
, vol.95
, pp. 127402
-
-
Hangleiter, A.1
Hitzel, F.2
Netzel, C.3
Fuhrmann, D.4
Rossow, U.5
Ade, G.6
Hinze, P.7
-
11
-
-
33847755895
-
-
H. L. Tsai, T. Y. Wang, J. R. Yang, C. C. Chuo, J. T. Hsu, M. Ceh, and M. Shiojiri, J. Appl. Phys. 101, 023521 (2007).
-
(2007)
J. Appl. Phys.
, vol.101
, pp. 023521
-
-
Tsai, H.L.1
Wang, T.Y.2
Yang, J.R.3
Chuo, C.C.4
Hsu, J.T.5
Ceh, M.6
Shiojiri, M.7
-
12
-
-
79955997004
-
-
H. M. Wang, J. P. Zhang, C. Q. Chen, Q. Fareed, J. W. Yang, and M. A. Khan, Appl. Phys. Lett. 81, 604 (2002)
-
(2002)
Appl. Phys. Lett.
, vol.81
, pp. 604
-
-
Wang, H.M.1
Zhang, J.P.2
Chen, C.Q.3
Fareed, Q.4
Yang, J.W.5
Khan, M.A.6
-
13
-
-
0242496476
-
-
J. R. Gong, C. W. Huang, S. F. Tseng, T. Y. Lin, K. M. Lin, W. T. Liao, Y. L. Tsai, B. H. Shi, and C. L. Wang, J. Cryst. Growth 260, 73 (2004).
-
(2004)
J. Cryst. Growth
, vol.260
, pp. 73
-
-
Gong, J.R.1
Huang, C.W.2
Tseng, S.F.3
Lin, T.Y.4
Lin, K.M.5
Liao, W.T.6
Tsai, Y.L.7
Shi, B.H.8
Wang, C.L.9
-
14
-
-
0036661965
-
-
S. J. Chang, C. H. Kuo, Y. K. Su, L. W. Wu, J. K. Sheu, T. C. Wen, W. C. Lai, J. F. Chen, and J. M. Tsai, IEEE J. Select. Top. Quantum Electron. 8, 744 (2002).
-
(2002)
IEEE J. Select. Top. Quantum Electron.
, vol.8
, pp. 744
-
-
Chang, S.J.1
Kuo, C.H.2
Su, Y.K.3
Wu, L.W.4
Sheu, J.K.5
Wen, T.C.6
Lai, W.C.7
Chen, J.F.8
Tsai, J.M.9
-
15
-
-
0036493177
-
-
S. J. Chang, W. C. Lai, Y. K. Su, J. F. Chen, C. H. Liu, and U. H. Liaw, IEEE J. Select. Top. Quantum Electron. 8, 278 (2002).
-
(2002)
IEEE J. Select. Top. Quantum Electron.
, vol.8
, pp. 278
-
-
Chang, S.J.1
Lai, W.C.2
Su, Y.K.3
Chen, J.F.4
Liu, C.H.5
Liaw, U.H.6
-
16
-
-
0242696158
-
-
S. J. Chang, C. S. Chang, Y. K. Su, R. W. Chuang, Y. C. Lin, S. C. Shei, H. M. Lo, H. Y. Lin, and J. C. Ke, IEEE J. Quantum Electron. 39, 1439 (2003).
-
(2003)
IEEE J. Quantum Electron.
, vol.39
, pp. 1439
-
-
Chang, S.J.1
Chang, C.S.2
Su, Y.K.3
Chuang, R.W.4
Lin, Y.C.5
Shei, S.C.6
Lo, H.M.7
Lin, H.Y.8
Ke, J.C.9
-
17
-
-
1542315187
-
-
T. Fujii, Y. Gao, R. Sharma, E. L. Hu, S. P. DenBaars, and S. Nakamura, Appl. Phys. Lett. 84, 855 (2004).
-
(2004)
Appl. Phys. Lett.
, vol.84
, pp. 855
-
-
Fujii, T.1
Gao, Y.2
Sharma, R.3
Hu, E.L.4
Denbaars, S.P.5
Nakamura, S.6
-
18
-
-
0038311836
-
-
C. Huh, K. S. Lee, E. J. Kang, and S. J. Park, J. Appl. Phys. 93, 9383 (2003).
-
(2003)
J. Appl. Phys.
, vol.93
, pp. 9383
-
-
Huh, C.1
Lee, K.S.2
Kang, E.J.3
Park, S.J.4
-
19
-
-
2942708198
-
-
S. J. Chang, L. W. Wu, Y. K. Su, Y. P. Hsu, W. C. Lai, J. M. Tsai, J. K. Sheu, and C. T. Lee, IEEE Photon. Technol. Lett. 16, 1447 (2004).
-
(2004)
IEEE Photon. Technol. Lett.
, vol.16
, pp. 1447
-
-
Chang, S.J.1
Wu, L.W.2
Su, Y.K.3
Hsu, Y.P.4
Lai, W.C.5
Tsai, J.M.6
Sheu, J.K.7
Lee, C.T.8
|