Thermal chemistry of tetrakis(ethylmethylamido)titanium on Si(100) surfaces

Journal of Physical Chemistry A

Volumn 113, Issue 16, 2009, Pages 3946-3954

  Kan, Byung Chang ^a   Boo, Jin Hyo ^b   Lee, Ilkeun ^a   Zaera, Francisco ^a  

^a UNIVERSITY OF CALIFORNIA   (United States)

^b Sungkyunkwan University   (South Korea)

Author keywords

[No Author keywords available]

Indexed keywords

ADSORBED SPECIES; AMIDO GROUPS; DISSOCIATIVE ADSORPTION; HYDRIDE ELIMINATION; METAL NITRIDES; SI(100) SURFACE; TETRAKIS; THERMAL CHEMISTRY;

ABSORPTION SPECTROSCOPY; ADSORPTION; CHEMICAL REACTIONS; FILM GROWTH; INFRARED SPECTROSCOPY; NITRIDES; SEMICONDUCTING SILICON COMPOUNDS; TITANIUM; X RAY PHOTOELECTRON SPECTROSCOPY;

SILICON WAFERS;

EID: 65649130021     PISSN: 10895639     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.1021/jp8102172     Document Type: Article

References (76)

1. Elam, J. W.; Schuisky, M.; Ferguson, J. D.; George, S. M. Thin Solid Films 2003, 436, 145.
2. Becker, J. S.; Kim, E.; Gordon, R. G. Chem. Mater. 2004, 16, 3497.
3. Schaeffer, J.; Edwards, N. V.; Liu, R.; Roan, D.; Hradsky, B.; Gregory, R.; Kulik, J.; Duda, E.; Contreras, L.; Christiansen, J.; Zollner, S.; Tobin, P.; Nguyen, B. Y.; Nieh, R.; Ramon, M.; Rao, R.; Hegde, R.; Rai, R.; Baker, J.; Voight, S. J. Electrochem. Soc. 2003, 150, F67.
4. Jones, A. C.; Aspinall, H. C.; Chalker, P. R.; Potter, R. J.; Kukli, K.; Rahtu, A.; Ritala, M.; Leskela, M. J. Mater. Chem. 2004, 14, 3101.
5. Choy, K. L. Prog. Mater. Sci. 2003, 48, 57.
6. Crowell, J. E. J. Vac. Sci. Technol. A 2003, 21, S88.
7. Jones, A. C.; Aspinall, H. C.; Chalker, P. R.; Potter, R. J.; Manning, T. D.; Loo, Y. F.; O'Kane, R.; Gaskell, J. M.; Smith, L. M. Chem. Vap. Deposition 2006, 12, 83.
8. Hausmann, D. M.; Kim, E.; Becker, J.; Gordon, R. G. Chem. Mater. 2002, 14, 4350.
9. Kim, H. J. Vac. Sci. Technol. B 2003, 21, 2231.
10. Ritala, M. Atomic layer deposition. In High-k Gate Dielectrics; Houssa, M., Ed.; Institute of Physics: Philadelphia, PA, 2004; pp 17-64.
11. Xu, Y.; Musgrave, C. B. Surf. Sci. 2005, 591, L280.
12. Kukli, K.; Ritala, M.; Sajavaara, T.; Keinonen, J.; Leskela, M. Chem. Vap. Deposition 2002, 8, 199.
13. Hino, S.; Nakayama, M.; Takahashi, K.; Funakubo, H.; Tokumitsu, E. Jpn. J. Appl. Phys. 2003, 42, 6015.
14. Liu, X.; Ramanathan, S.; Longdergan, A.; Srivastava, A.; Lee, E.; Seidel, T. E.; Barton, J. T.; Pang, D.; Gordon, R. G. J. Electrochem. Soc. 2005, 152, G213.
15. Prybyla, J. A.; Chiang, C. M.; Dubois, L. H. J. Electrochem. Soc. 1993, 140, 2695.
16. Fix, R.; Gordon, R. G.; Hoffman, D. M. Chem. Mater. 1991, 3, 1138.
17. Lim, G. T.; Kim, D. H. Thin Solid Films 2006, 498, 254.
18. Maeng, W. J.; Kim, H. Electrochem. Solid State Lett. 2006, 9.
19. Xie, Q.; Jiang, Y. L.; Detavernier, C.; Deduytsche, D.; Van Meirhaeghe, R. L.; Ru, G. P.; Li, B. Z.; Qu, X. P. J. Appl. Phys. 2007, 102.
20. Hackley, J. C.; Demaree, J. D.; Gougousi, T. J. Vac. Sci. Technol. A 2008, 26, 1235. ∼ (21) Kim, J. Y.; Choi, G. H.; Kim, Y. D.; Kim, Y.; Jeon, H. Jpn. J. Appl. Phys. 1 2003, 42, 4245. (22) Ohshita, Y.; Ogura, A.; Ishikawa, M.; Kada, T.; Hoshino, A.; Suzuki, T.; Machida, H.; Soai, K. Chem^^^p^DepSsitiSn 2006, 12, 130.
21. Kim, J. Y.; Choi, G. H.; Kim, Y. D.; Kim, Y.; Jeon, H. Jpn. J. Appl. Phys. 1 2003, 42, 4245.
22. Ohshita, Y.; Ogura, A.; Ishikawa, M.; Kada, T.; Hoshino, A.; Suzuki, T.; Machida, H.; Soai, K.
23. Katamreddy, R.; Inman, R.; Jursich, G.; Soulet, A.; Takoudis, C. J. Mater. Res. 2007, 22, 3455.
24. Shin, H. K.; Shin, H. J.; Lee, J. G.; Kang, S. W.; Ahn, B. T. Chem. Mater. 1997, 9, 76.
25. Panda, S.; Kim, J.; Weiller, B. H.; Economou, D. J.; Hoffman, D. M. Thin Solid Films 1999, 357, 125.
26. Hackley, J. C.; Gougousi, T.; Demaree, J. D. J. Appl. Phys. 2007, 102, 034101.
27. McNeill, D. W.; Bhattacharya, S.; Wadsworth, H.; Ruddell, F. H.; Mitchell, S. J. N.; Armstrong, B. M.; Gamble, H. S. J. Mater. Sci.: Mater. Electron. 2008, 19, 119.
28. Dubois, L. H.; Zegarski, B. R.; Girolami, G. S. J. Electrochem. Soc. 1992, 139, 3603.
29. Dubois, L. H. Polyhedron 1994, 13, 1329.
30. Truong, C. M.; Chen, P. J.; Corneille, J. S.; Oh, W. S.; Goodman, D. W. J. Phys. Chem. 1995, 99, 8831.
31. Corneille, J. S.; Chen, P. J.; Truong, C. M.; Oh, W. S.; Goodman, D. W. J. Vac. Sci. Technol. A 1995, 13, 1116.
32. Driessen, J. P. A. M.; Schoonman, J.; Jensenc, K. F. J. Electrochem. Soc. 2001, 148, G178.
33. Ho, M. T.; Wang, Y.; Brewer, R. T.; Wielunski, L. S.; Chabal, Y. J.; Moumen, N.; Boleslawski, M. Appl. Phys. Lett. 2005, 87,1.
34. Wang, Y.; Ho, M. T.; Goncharova, L. V.; Wielunski, L. S.; Rivillon- Amy, S.; Chabal, Y. J.; Gustafsson, T.; Moumen, N.; Boleslawski, M. Chem. Mater. 2007, 19, 3127
35. Rodriguez-Reyes, J. C. F.; Teplyakov, A. V. J. Phys. Chem. C 2008, 112, 9695-9705.
36. Beaudoin, M.; Scott, S. L. Organometallics 2001, 20, 237.
37. Fix, R. M.; Gordon, R. G.; Hoffman, D. M. Chem. Mater. 1990, 2, 235.
38. Tiznado, H.; Zaera, F. J. Phys. Chem. B 2006, 110, 13491.
39. Xu, M.; Tiznado, H.; Kang, B.-C.; Bouman, M.; Lee, I.; Zaera, F. J. Korean Phys. Soc. 2007, 51, 1063.
40. Tiznado, H.; Bouman, M.; Kang, B.-C.; Lee, I.; Zaera, F. J. Mol. Catal. A 2007, 281, 35.
41. Fundamental Aspects of Silicon Oxidation; Chabal, Y. J., Ed.; Springer-Verlag: Berlin, Germany, 2001. (42) Roth, K. M.; Yasseri, A. A.; Liu, Z. M.; Dabke, R. B.; Malinovskii, V.; Schweikart, K. H.; Yu, L. H.; Tiznado, H.; Zaera, F.; Lindsey, J. S.; Kuhr, W. G.; Bocian, D. F. J. Am. Chem. Soc. 2003, 125, 505.
42. Roth, K. M.; Yasseri, A. A.; Liu, Z. M.; Dabke, R. B.; Malinovskii, V.; Schweikart, K. H.; Yu, L. H.; Tiznado, H.; Zaera, F.; Lindsey, J. S.; Kuhr, W. G.; Bocian, D. F
43. Handbook of X-Ray Photoelectron Spectroscopy; Wagner, C. D., Riggs, W. M., Davis, L. E., Moulder, J. F., Muilenberg, G. E., Eds.; Perkin- Elmer Corporation: Eden Prairie, MI, 1978.
44. Durig, J. R.; Cox, F. O. J. Mol. Struct. 1982, 95, 85.
45. Batista de Carvalho, L. A. E.; Teixeira-Dias, J. J. C. J. Raman Spectrosc. 1995, 26, 653.
46. Durig, J. R.; Zheng, C.; Herrebout, W. A.; van der Veken, B. J. J. Mol. Struct. 2002, 641, 207-224.
47. Chen, K.-H.; Lii, J.-H.; Fan, Y.; Allinger, N. L. J. Comput. Chem. 2007, 28, 2391.
48. Yoshida, H.; Ehara, A.; Matsuura, H. Chem. Phys. Lett. 2000, 325, 477-483.
49. Durig, J. R.; Li, Y. S. J. Chem. Phys. 1975, 63, 4110.
50. Hamada, Y.; Hashiguchi, K.; Hirakawa, A. Y.; Tsuboi, M.; Nakata, M.; Tasumi, M.; Kato, S.; Morokuma, K. J. Mol. Spectrosc. 1983, 102, 123.
51. Durig, J. R.; Beshir, W. B.; Godbey, S. E.; Hizer, T. J. J. Raman Spectrosc. 1989, 20, 311.
52. Buttler, M. J.; McKean, D. C. Spectrochim. Acta 1965, 21, 465.
53. Gamer, G.; Wolff, H. Spectrochim. Acta A 1973, 29, 129.
54. Murphy, W. F.; Zerbetto, F.; Duncan, J. L.; McKean, D. C. J. Phys. Chem. 1993, 97, 581.
55. Durig, J. R.; Lindsay, N. E.; Hizer, T. J.; Odom, J. D. J. Mol. Struct. 1988, 189, 251.
56. Burger, H.; Stammreich, H.; Teixeira Sans, T. Monatsh. Chem. 1966, 97, 1276.
57. van der Vis, M. G. M.; Konings, R. J. M.; Oskam, A.; Walter, R. J. Mol. Struct. 1994, 323, 93.
58. Yun, J. Y.; Park, M. Y.; Rhee, S. W. J. Electrochem. Soc. 1998, 145, 2453.
59. Rodriguez-Reyes, J. C. F.; Teplyakov, A. V. J. Phys. Chem. C 2007, 111, 4800.
60. Kim, I.-W.; Kim, S.-J.; Kim, D.-H.; Woo, H.; Park, M.-Y.; Rhee, S.-W. Korean J. Chem. Eng. 2004, 21, 1256.
61. Yun, J. Y.; Park, M. Y.; Rhee, S. W. J. Electrochem. Soc. 1999, 146, 1804.
62. Kim, S. J.; Kim, B.-H.; Woo, H.-G.; Kim, S.-K.; Kim, D.-H. Bull. Korean Chem. Soc. 2006, 27, 219.
63. Maslar, J. E.; Hurst, W. S.; Burgess, D. R., Jr.; Kimes, W. A.; Nguyen, N. V. ECS Trans. 2007, 2, 133.
64. Bradley, D. C.; Gitlitz, M. H. J. Chem. Soc. A 1969, 980.
65. Socrates, G. Infrared Characteristic Group Frequencies: Tables and Charts, 2nd ed.; Wiley: Chichester, UK, 1994. (66) Spectral Database for Organic Compounds, SDBS, National Institute of Advanced Industrial Science and Technology (AIST), Japan, http:// riodb01.ibase.aist.go.jp/sdbs/, 2008.
66. Spectral Database for Organic Compounds, SDBS,National Institute of Advanced Industrial Science and Technology (AIST), Japan,http:// riodb01.ibase.aist.go.jp/sdbs/, 2008.
67. Chabal, Y. J. Surf. Sci. Rev. 1988, 8, 211.
68. Zaera, F. Int. Rev. Phys. Chem. 2002, 21, 433.
69. Wurrey, C. J.; Bucy, W. E.; Durig, J. R. J. Phys. Chem. 1976, 80, 1129.
70. Nielsen, C. J.; Kosa, K.; Priebe, H.; Sj0gren, C. E. Spectrochim. Acta A 1988, 44, 409.
71. Hollenstein, H.; Giinthard, H. H. Chem. Phys. Lett. 1974, 4, 368.
72. Zaera, F. Chem. Rev. 1995, 95, 2651.
73. Tjandra, S.; Zaera, F. J. Am. Chem. Soc. 1995, 117, 9749.
74. Jenks, C. J.; Bent, B. E.; Zaera, F. J. Phys. Chem. B 2000, 104, 3017.
75. Ma, Z.; Zaera, F. Surf. Sci. Rep. 2006, 61, 229.
76. Louette, P.; Bodino, F.; Pireaux, J.-J. SurfJScLJtwectra 2005, 12, 54.