메뉴 건너뛰기




Volumn 15, Issue 2, 2008, Pages

Electron/ion energy loss to discharge walls revised: A case study in low-temperature, thermally nonequilibrium plasmas

Author keywords

[No Author keywords available]

Indexed keywords

COMPUTER SIMULATION; DISTRIBUTION FUNCTIONS; ELECTRON BEAMS; GLOW DISCHARGES; INDUCTIVELY COUPLED PLASMA; ION BEAMS;

EID: 40149104670     PISSN: 1070664X     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.1063/1.2839035     Document Type: Article
Times cited : (8)

References (32)
  • 1
    • 26244451229 scopus 로고    scopus 로고
    • RMPHAT 0034-6861 10.1103/RevModPhys.77.489.
    • K. Ostrikov, Rev. Mod. Phys. RMPHAT 0034-6861 10.1103/RevModPhys.77.489 77, 489 (2005).
    • (2005) Rev. Mod. Phys. , vol.77 , pp. 489
    • Ostrikov, K.1
  • 2
    • 34248993658 scopus 로고    scopus 로고
    • JPAPBE 0022-3727 10.1088/0022-3727/40/8/S09.
    • U. Cvelbar and M. Mozetic, J. Phys. D JPAPBE 0022-3727 10.1088/0022-3727/40/8/S09 40, 2300 (2007).
    • (2007) J. Phys. D , vol.40 , pp. 2300
    • Cvelbar, U.1    Mozetic, M.2
  • 3
    • 33748081438 scopus 로고    scopus 로고
    • VACUAV 0042-207X 10.1016/j.vacuum.2006.01.025.
    • K. Ostrikov, J. D. Long, P. P. Rutkevych, and S. Xu, Vacuum VACUAV 0042-207X 10.1016/j.vacuum.2006.01.025 80, 1126 (2006).
    • (2006) Vacuum , vol.80 , pp. 1126
    • Ostrikov, K.1    Long, J.D.2    Rutkevych, P.P.3    Xu, S.4
  • 4
    • 34249003417 scopus 로고    scopus 로고
    • JPAPBE 0022-3727 10.1088/0022-3727/40/8/S18.
    • M. Keidar, J. Phys. D JPAPBE 0022-3727 10.1088/0022-3727/40/8/S18 40, 2388 (2007).
    • (2007) J. Phys. D , vol.40 , pp. 2388
    • Keidar, M.1
  • 5
    • 0035476923 scopus 로고    scopus 로고
    • JAPIAU 0021-8979 10.1063/1.1398600.
    • K. Takechi and M. A. Lieberman, J. Appl. Phys. JAPIAU 0021-8979 10.1063/1.1398600 90, 3205 (2001).
    • (2001) J. Appl. Phys. , vol.90 , pp. 3205
    • Takechi, K.1    Lieberman, M.A.2
  • 6
  • 7
    • 0037350284 scopus 로고    scopus 로고
    • PHPAEN 1070-664X 10.1063/1.1542613.
    • S. Cho and M. A. Lieberman, Phys. Plasmas PHPAEN 1070-664X 10.1063/1.1542613 10, 882 (2003).
    • (2003) Phys. Plasmas , vol.10 , pp. 882
    • Cho, S.1    Lieberman, M.A.2
  • 9
    • 0036137198 scopus 로고    scopus 로고
    • JAPIAU 0021-8979 10.1063/1.1421038.
    • S. F. Yoon, K. H. Tan, Rusli, and J. Ahn, J. Appl. Phys. JAPIAU 0021-8979 10.1063/1.1421038 91, 40 (2002).
    • (2002) J. Appl. Phys. , vol.91 , pp. 40
    • Yoon, S.F.1    Tan, K.H.2    Rusli3    Ahn, J.4
  • 10
    • 0035929750 scopus 로고    scopus 로고
    • JPAPBE 0022-3727 10.1088/0022-3727/34/20/201.
    • A. B. Murphy, J. Phys. D JPAPBE 0022-3727 10.1088/0022-3727/34/20/201 34, R151 (2001).
    • (2001) J. Phys. D , vol.34 , pp. 151
    • Murphy, A.B.1
  • 13
    • 0035248792 scopus 로고    scopus 로고
    • PSTEEU 0963-0252 10.1088/0963-0252/10/1/310.
    • J. T. Gudmundsson, Plasma Sources Sci. Technol. PSTEEU 0963-0252 10.1088/0963-0252/10/1/310 10, 76 (2001).
    • (2001) Plasma Sources Sci. Technol. , vol.10 , pp. 76
    • Gudmundsson, J.T.1
  • 14
    • 0013193561 scopus 로고    scopus 로고
    • JAPIAU 0021-8979 10.1063/1.371071, ();, Phys. Rev. E PLEEE8 1063-651X 10.1103/PhysRevE.67.036406 67, 036406 (2003).
    • K. N. Ostrikov, M. Y. Yu, and H. Sugai, J. Appl. Phys. JAPIAU 0021-8979 10.1063/1.371071 86, 2425 (1999); S. V. Vladimirov, K. Ostrikov, M. Y. Yu, and G. E. Morfill, Phys. Rev. E PLEEE8 1063-651X 10.1103/PhysRevE.67.036406 67, 036406 (2003).
    • (1999) J. Appl. Phys. , vol.86 , pp. 2425
    • Ostrikov, K.N.1    Yu, M.Y.2    Sugai, H.3    Vladimirov, S.V.4    Ostrikov, K.5    Yu, M.Y.6    Morfill, G.E.7
  • 15
    • 0000814907 scopus 로고    scopus 로고
    • JAPIAU 0021-8979 10.1063/1.371255.
    • H. J. Yoon, T. H. Chung, and D. C. Seo, J. Appl. Phys. JAPIAU 0021-8979 10.1063/1.371255 86, 3536 (1999).
    • (1999) J. Appl. Phys. , vol.86 , pp. 3536
    • Yoon, H.J.1    Chung, T.H.2    Seo, D.C.3
  • 16
    • 40149098464 scopus 로고
    • Principles of Plasma Discharges and Materials Processing (Wiley, New York),.
    • M. A. Lieberman and A. J. Lichtenberg, Principles of Plasma Discharges and Materials Processing (Wiley, New York, 1994), p. 306.
    • (1994) , pp. 306
    • Lieberman, M.A.1    Lichtenberg, A.J.2
  • 20
    • 20844438708 scopus 로고    scopus 로고
    • PHPAEN 1070-664X 10.1063/1.1888325.
    • H. C. Kim and J. K. Lee, Phys. Plasmas PHPAEN 1070-664X 10.1063/1.1888325 12, 053501 (2005).
    • (2005) Phys. Plasmas , vol.12 , pp. 053501
    • Kim, H.C.1    Lee, J.K.2
  • 22
    • 0032136550 scopus 로고    scopus 로고
    • PSTEEU 0963-0252 10.1088/0963-0252/7/3/011.
    • J. T. Gudmundsson, Plasma Sources Sci. Technol. PSTEEU 0963-0252 10.1088/0963-0252/7/3/011 7, 330 (1998).
    • (1998) Plasma Sources Sci. Technol. , vol.7 , pp. 330
    • Gudmundsson, J.T.1
  • 23
    • 33845400616 scopus 로고
    • RMPHAT 0034-6861 10.1103/RevModPhys.12.87.
    • M. J. Druyvesteyn and F. M. Penning, Rev. Mod. Phys. RMPHAT 0034-6861 10.1103/RevModPhys.12.87 12, 87 (1940).
    • (1940) Rev. Mod. Phys. , vol.12 , pp. 87
    • Druyvesteyn, M.J.1    Penning, F.M.2
  • 24
    • 0034301294 scopus 로고    scopus 로고
    • JPAPBE 0022-3727 10.1088/0022-3727/33/19/101.
    • R. J. Carman and R. P. Mildren, J. Phys. D JPAPBE 0022-3727 10.1088/0022-3727/33/19/101 33, L99 (2000).
    • (2000) J. Phys. D , vol.33 , pp. 99
    • Carman, R.J.1    Mildren, R.P.2
  • 25
    • 34547591540 scopus 로고    scopus 로고
    • PHPAEN 1070-664X 10.1063/1.2749235.
    • Y. Ren, J. D. Long, and S. Xu, Phys. Plasmas PHPAEN 1070-664X 10.1063/1.2749235 14, 073301 (2007).
    • (2007) Phys. Plasmas , vol.14 , pp. 073301
    • Ren, Y.1    Long, J.D.2    Xu, S.3
  • 27
    • 32844460931 scopus 로고    scopus 로고
    • VACUAV 0042-207X 10.1016/j.vacuum.2005.07.010.
    • S. Xu, K. Ostrikov, J. D. Long, and S. Y. Huang, Vacuum VACUAV 0042-207X 10.1016/j.vacuum.2005.07.010 80, 621 (2006).
    • (2006) Vacuum , vol.80 , pp. 621
    • Xu, S.1    Ostrikov, K.2    Long, J.D.3    Huang, S.Y.4
  • 29
    • 0031478108 scopus 로고    scopus 로고
    • JUPSAU 0031-9015 10.1143/JPSJ.66.1335.
    • H. Amemiya, J. Phys. Soc. Jpn. JUPSAU 0031-9015 10.1143/JPSJ.66.1335 66, 1335 (1997).
    • (1997) J. Phys. Soc. Jpn. , vol.66 , pp. 1335
    • Amemiya, H.1
  • 32
    • 33751558978 scopus 로고    scopus 로고
    • APPLAB 0003-6951 10.1063/1.2388941, ();, J. Appl. Phys. JAPIAU 0021-8979 10.1063/1.2040000 98, 064304 (2005).
    • I. Levchenko, K. Ostrikov, and E. Tam, Appl. Phys. Lett. APPLAB 0003-6951 10.1063/1.2388941 89, 223108 (2006); I. Levchenko, K. Ostrikov, M. Keidar, and S. Xu, J. Appl. Phys. JAPIAU 0021-8979 10.1063/1.2040000 98, 064304 (2005).
    • (2006) Appl. Phys. Lett. , vol.89 , pp. 223108
    • Levchenko, I.1    Ostrikov, K.2    Tam, E.3    Levchenko, I.4    Ostrikov, K.5    Keidar, M.6    Xu, S.7


* 이 정보는 Elsevier사의 SCOPUS DB에서 KISTI가 분석하여 추출한 것입니다.