Global model and scaling laws for inductively coupled oxygen discharge plasmas

Journal of Applied Physics

Volumn 86, Issue 7, 1999, Pages 3536-3542

  Chung, T H ^a   Yoon, H J ^a   Seo, D C ^a  

^a Dong A University   (South Korea)

Author keywords

[No Author keywords available]

Indexed keywords

EID: 0000814907     PISSN: 00218979     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.1063/1.371255     Document Type: Article

References (22)

1. C. Lee and M. A. Lieberman, J. Vac. Sci. Technol. A 13, 368 (1995).
2. C. Lee, D. B. Graves, M. A. Lieberman, and D. W. Hess, J. Electrochem. Soc. 141, 1546 (1994).
3. S. K. Park and D. J. Economou, J. Appl. Phys. 68, 3904 (1990).
4. T. J. Sommerer and M. J. Kushner, J. Vac. Sci. Technol. B 10, 2179 (1992).
5. Y. T. Lee, M. A. Lieberman, A. J. Lichtenberg, F. Bose, H. Baltes, and R. Patrick, J. Vac. Sci. Technol. A 15, 113 (1997).
6. M. A. Lieberman and S. Ashida, Plasma Sources Sci. Technol. 5, 145 (1996).
7. A. J. Lichtenberg, V. Vahedi, M. A. Lieberman, and T. Rognlien, J. Appl. Phys. 75, 2339 (1994).
8. I. G. Kouznetsov, A. J. Lichtenberg, and M. A. Lieberman, Plasma Sources Sci. Technol. 5, 662 (1996).
9. T. H. Chung, L. Meng, H. J. Yoon, and J. K. Lee, Jpn, J. Appl. Phys., Part 1 36, 2874 (1997).
10. A. J. Lichtenberg, M. A. Lieberman, I. G. Kouznetsov, and T. H. Chung, Plasma Sources Sci. Technol. (submitted).
11. S. Ashida and M. A. Lieberman, Jpn. J. Appl. Phys., Part 1 36, 854 (1997).
12. M. Meyyapan, J. Vac. Sci. Technol. A 14, 2122 (1996).
13. A. Granier, F. Nicolazo, C. Vallee, A. Goullet, G. Turban, and B. Grolleau, Plasma Sources Sci. Technol. 6, 147 (1997).
14. H. Amemiya, J. Phys. Soc. Jpn. 57, 887 (1988).
15. H. Amemiya, Jpn. J. Appl. Phys., Part 2 27, 2423 (1988).
16. M. Tuszewski, J. Appl. Phys. 79, 8967 (1996).
17. J. T. Gudmundsson, Ph.D thesis, University of California at Berkeley, 1996.
18. J. H. Keller, J. C. Forster, and M. S. Barns, J. Vac. Sci. Technol. A 11, 2487 (1993).
19. Y. Ra and C. H. Chen, J. Vac. Sci. Technol. A 11, 2158 (1996).
20. M. S. Barnes, J. C. Forster, and J. H. Keller, Appl. Phys. Lett. 62, 2622 (1993).
21. T. H. Chung, J. Korean Phys. Soc. 34, 24 (1999).
22. H. J. Yoon and T. H. Chung, J. Korean Phys. Soc. 34, 29 (1999).