Multifunctional nanocrystalline thin films of Er2O3: Interplay between nucleation kinetics and film characteristics

Advanced Functional Materials

Volumn 17, Issue 17, 2007, Pages 3607-3612

  Losurdo, Maria ^a   Giangregorio, Maria M ^a   Capezzuto, Pio ^a   Bruno, Giovanni ^a   Toro, Roberta G ^b   Malandrino, Graziella ^b   Fragalà, Ignazio L ^b   Barreca, Lidia ^c   Tondello, Eugenio ^c   Suvorova, Alexandra A ^d   Yang, Dongxing ^e   Irene, Eugene A ^e  

^a CNR   (Italy)

^b UNIVERSITY OF CATANIA   (Italy)

^c UNIVERSITY OF PADOVA   (Italy)

^d UNIVERSITY OF WESTERN AUSTRALIA   (Australia)

^e University of North Carolina at Chapel Hill   (United States)

Author keywords

[No Author keywords available]

Indexed keywords

CHEMICAL VAPOR DEPOSITION; ERBIUM; GATE DIELECTRICS; GLASS; NANOCRYSTALLINE MATERIALS; NUCLEATION; PERMITTIVITY;

ANTIREFLECTIVE AND PROTECTIVE COATING; INTERFACE TRAPS; NONHOMOGENEOUS NUCLEATION;

THIN FILMS;

EID: 36849000762     PISSN: 1616301X     EISSN: 16163028     Source Type: Journal    
DOI: 10.1002/adfm.200700524     Document Type: Article

References (34)

1. A. C. Jones, H. C. Aspinall, P. R. Chalker, R. J. Potter, K. Kukli, M. Ritala, M. Leskela, Mat. Sci. Eng. B 2005, 118, 97.
2. T. Wiktorczyk, Opt. Appl. 2001, 31, 5.
3. http://public.itrs.net for the latest edition of the ITRS roadmap.
4. R. Lo Nigro, R. G. Toro, G. Malandrino, G. G. Condorelli, V. Raineri, I. L. Fragalà, Adv. Funct. Mater. 2005, 15, 838.
5. H. Ono, T. Katsumata, Appl. Phys. Lett. 2001, 78, 1832.
6. V. Mikhelashvili, G. Eisentsein, F. Edelmann, J. Appl. Phys. 2001, 90, 5447.
7. J. Kwo, M. Hong, A. R. Kortan, K. L. Queeney, Y. J. Chabal, R. L. J. Opila, D. A. Müller, S. N. G. Chu, B. J. Sapjeta, T. S. Lay, J. P. Mannaerts, T. Boone, H. W. Krautter, J. J. Krajewski, J. M. Rosamilla, J. Appl. Phys. 2001, 89, 3920.
8. M. Miruello, R. Lo Savio, A. M. Piro, G. Franzò, F. Priolo, F. Iacona, C. Buongiorno, J. Appl. Phys. 2006, 100, 013 502.
9. S. Chen, Y. Y. Zhu, R. Xu, Y. Q. Wu, X. J. Yang, Y. F. Fan, F. Lu, Z. M. Jiang, J. Zou, Appl. Phys. Lett. 2006, 88, 222902.
10. V. A. Rozhkov, M. A. Rodionov, Tech. Phys. Lett. 2005, 31, 77.
11. K. M. Hubbard, B. F. Espinoza, Thin Solid Films 2000, 366, 175.
12. A. Sawada, A. Suzuki, H. Maier, F. Koch, T. Terai, T. Muroga, Fusion Eng. Des. 2005, 737, 75.
13. V. Mikhelashvili, G. Eisenstein, F. Edelman, R. Brener, N. Zakharov, P. Werner, J. Appl. Phys. 2004, 95, 613.
14. J. Paivasaari, J. Niinisto, K. Arstila, K. Kukli, M. Putkonen, L. Niinisto, Chem. Vap. Dep. 2005, 11, 415.
15. M. P. Singh, C. S. Thakur, K. Shalini, S. Banerjee, N. Bhat, S. A. Shivashankar, J. Appl. Phys. 2004, 96, 5631.
16. M. P. Singh, S. A. Shivashankar, J. Cryst. Growth 2005, 276, 148.
17. M. P. Singh, C. S. Thakur, K. Shalini, S. Banerjee, N. Bhat, S. A. Shivashankar, Appl. Phys. Lett. 2003, 83, 2889.
18. M. P. Singh, T. Shripathi, K. Shalini, S. A. Shivashankar, Mater. Chem. Phys. in press.
19. A. C. Jones, H. C. Aspinall, P. R. Chalker, R. J. Potter, T D. Manning, Y. F. Loo, R. O'Kane, J. M. Gaskell, L. M. Smith, Chem. Vap. Dep. 2006, 12, 83.
20. Y. K. Gunko, F. T. Edelmann, Comments Inorg. Chem. 1997, 19, 153.
21. J. Paivasaari, J. Niinisto, K. Arstila, K. Kukli, M. Putkonen, L. Niinisto, Chem. Vap. Dep. 2005, 11, 415.
22. M. M. Frank, Y. J. Chabal, M. L. Green, A. Delabie, B. Brijs, G. D. Wilk, M. Y. Ho, E. B. O. da Rosa, I. J. R. Baumvol, F. C. Stedile, Appl. Phys. Lett. 2003, 83, 740.
23. L. G. Gosset, J. F. Damlencourt, O. Renault, D. Rouchon, Ph. Holliger, A. Ermolieff, I. Trimaille, J. J. Ganem, F. Martin, M. N. Séméria, J. Non-Cryst. Solids 2002, 303, 17.
24. Y. J. Chabal, G. S. Higashi, K. Raghavachari, V. A. Burrows, J. Vac. Sci. Technol. A 1989, 7, 2104.
25. V. Le Thanh, M. Eddrief, C. A. Sebenne, P. Dumas, A. Taleb-Ibrahimi, R.Gunther, Y. J. Chabal, J. Derrien, Appl. Phys. Lett. 1994, 64, 3308.
26. M. L. Green, M.-Y. Ho, B. Busch, G. D. Wilk, T. Sorsch, T. Conard, B. Brijs, W. Vandervorst, P. I. Raisanen, D. Müller, M. Bude, J. Grazul, J. Appl. Phys. 2002, 92, 7168.
27. J. G. Yoon, H. K. Oh, S. J. Lee, Phys. Rev. B 1999, 60, 2839.
28. K. Shin, C. Yang, S. Y. Yang, H. Jeon, C. E. Park, Appl. Phys. Lett. 2006, 88, 072 109.
29. O. Medenbach, D. Dettmar, R. D. Shannon, R. X. Fischer, W. M. Yen, J. Opt. A 2001, 3, 174.
30. T.-M. Pan, C.-L. Chen, W. W. Yeh, S.-J. Hou, Appl Phys. Lett. 2006, 89, 222 912.
31. J. F. Malder, W. F. Stickel, P. E. Sobol, K. D. Bomben, Handbook of X-Ray Photoelectron Spectroscopy, Perkin-Elmer, Eden Proucie, MN 1992.
32. V. Mikhelashvili, G. Eisenstein, F. Edelman, R. Brener, N. Zakharov, P. Werner, J. Appl. Phys. 2004, 95, 613.
33. M. Losurdo, Thin Solid Films 2004, 455, 301.
34. M. Losurdo, M. M. Giangregorio, M. Luchena, P. Capezzuto, G. Bruno, R. G. Toro, G. Malandrino, I. L. Fragalà, R. Lo Nigro, Appl. Surf. Sci. 2006, 253, 322.