Spectroellipsometric analysis of CHF3 plasma-polymerized fluorocarbon films

Journal of Vacuum Science and Technology A: Vacuum, Surfaces and Films

Volumn 24, Issue 4, 2006, Pages 1036-1043

  Easwarakhanthan, T ^a   Beyssen, D ^a   Le Brizoual, L ^a   Bougdira, J ^a  

^a INSTITUT JEAN LAMOUR   (France)

Author keywords

[No Author keywords available]

Indexed keywords

ATOMIC FORCE MICROSCOPY; ELLIPSOMETRY; FLUOROCARBONS; OPTICAL PROPERTIES; PLASMAS; POLYMERIZATION; REACTIVE ION ETCHING; REFRACTIVE INDEX; SILICON; THICK FILMS;

FILM REFRACTIVE INDEX; FLUOROCARBON FILMS; REACTIVE ION ETCHERS;

THIN FILMS;

EID: 33745505743     PISSN: 07342101     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.1116/1.2209654     Document Type: Article

References (38)

1. J. A. Theil, J. Vac. Sci. Technol. B 17, 2397 (1999).
2. L. S. Hung, L. R. Zheng, and M. G. Mason, Appl. Phys. Lett. 78, 673 (2001).
3. E. Ruckenstein and S. V. Gourisankar, Biomaterials 7, 403 (1986).
4. D. Koshel, H. Ji, B. Terreault, A. Côtá, G. G. Ross, G. Abel, and M. Bolduc, Surf. Coat. Technol. 173, 161 (2003).
5. N. Cioffi, Thin Solid Films 449, 25 (2004).
6. K. P. Gritsenko, O. P. Dimitriev, V. V. Kislyk, O. M. Getsko, S. Schrader, and L. Brehmer, Colloids Surf., A 198-200, 625 (2002).
7. H. Biederman and D. Slavinska, Surf. Coat. Technol. 125, 371 (2000).
8. J. J. Senkevich, M. J. Tutor, and D. W. Sherrer II, Chem. Vap. Deposition 6, 13 (2000).
9. S. V. Nguyen, IBM J. Res. Dev. 43, 109 (1999).
10. C. B. Labelle and K. Gleason, J. Vac. Sci. Technol. A 17, 445 (1999).
11. E. J. Winder and K. K. Gleason, J. Appl. Polym. Sci. 78, 842 (2000).
12. C. B. Labelle, R. Opila, and A. Kornblit, J. Vac. Sci. Technol. A 23, 190 (2005).
13. Ch. Cardinaud and G. Turban, Appl. Surf. Sci. 45, 109 (1990).
14. T. E. F. M. Standaert, M. Schaepkens, N. R. Rueger, P. G. M. Sebel, G. S. Oehrlein, and J. M. Cook, J. Vac. Sci. Technol. A 16, 239 (1998).
15. T. E. F. M. Standaert, C. Hedlund, E. A. Joseph, G. S. Oehrlein, and T. J. Dalton, J. Vac. Sci. Technol. A 22, 53 (2004).
16. H. Jiang, J. T. Grant, S. Tullis, K. Eyink, P. Fleitz, and T. J. Bunning, Polymer 45, 8475 (2004).
17. D. Dalacu and L. Martinu, J. Vac. Sci. Technol. A 17, 877 (1999).
18. H. Kim, M. D. Foster, H. Jiang, S. Tullis, T. J. Bunning, and C. F. Majkrzak, Polymer 45, 3175 (2004).
19. A. Weber, R. Pöckelmann, and C.-P. Klages, J. Vac. Sci. Technol. A 16, 2120 (1998).
20. J. W. Yi, Y. H. Lee, and B. Farouk, Thin Solid Films 374, 103 (2000).
21. K. P. Huang, P. Lin, and H. C. Shih, J. Appl. Phys. 96, 354 (2004).
22. N. R. Rueger, M. F. Doemling, M. Schaepkens, J. J. Beulens, T. E. F. M. Standaert, and G. S. Oehrlein, J. Vac. Sci. Technol. A 17, 2492 (1999).
23. K. K. S. Lau, J. A. Caulfield, and K. K. Gleason, J. Vac. Sci. Technol. A 18, 2404 (2000).
24. L. Sandrin, M. S. Silverstein, and E. Sacher, Polymer 42, 3761 (2001).
25. K. K. Lee, J. G. Park, and H. J. Shin, in Optical Microstructural Characterization of Semiconductors, MRS Symposia Proceedings No. 588, edited by, J. Piqueras, T. Sekiguchi, M. S. Unlu, and, N. M. Kalkhoran, (Materials Research Society, Warrendale, PA, 2000), p. 297.
26. G. E. Jellison, Thin Solid Films 313-314, 33 (1998).
27. H. G. Tompkins and W. A. McGahan, Spectroscopic Ellipsometry and Reflectometry: A Users Guide (Wiley, New York, 1999).
28. C. M. Ramsdale and N. C. Greenham, J. Phys. D 36, L29 (2003).
29. E. Gogolides, P. Vauvert, G. Kokkoris, G. Turban, and A. G. Boudouvis, J. Appl. Phys. 88, 5570 (2000).
30. T. W. Mountsier and J. A. Samuels, Thin Solid Films 332, 362 (1998).
31. S. Agraharam, D. W. Hess, P. A. Kohl, and S. A. B. Allen, J. Vac. Sci. Technol. A 17, 3265 (1999).
32. S. A. Visser, C. E. Hewitt, J. Fornalik, G. Braunstein, C. Srividya, and S. V. Babu, Surf. Coat. Technol. 96, 210 (1997).
33. Y. Ma, H. Yang, J. Guo, C. Sathe, A. Agui, and J. Nordgen, Appl. Phys. Lett. 72, 3353 (1998).
34. K. Endo, K. Shinoda, and T. Tatsumi, J. Appl. Phys. 86, 2739 (1999).
35. C. L. Bungay, T. E. Tiwald, M. J. Devries, B. J. Dworak, and J. A. Woolam, Polym. Eng. Sci. 40, 300 (2000).
36. Y. Jin, P. K. Ajmera, G. S. Lee, and V. Singh, J. Electron. Mater. 34, 1193 (2005).
37. J. Hong, S. Lee, C. Cardinaud, and G. Turban, J. Non-Cryst. Solids 265, 125 (2000).
38. V. Yanev, S. Krischok, A. Opitz, H. Wurmus, J. A. Schefer, N. Schwesinger, and S.-I.-U. Ahmed, Surf. Sci. 566-568, 1229 (2004).