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Volumn 40, Issue 3, 2006, Pages 319-326

Origination of misfit dislocations at the surface during the growth of GeSi/Si(001) films by low-temperature (300-400°C) molecular-beam epitaxy

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EID: 33645682528     PISSN: 10637826     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.1134/S1063782606030122     Document Type: Article
Times cited : (5)

References (32)
  • 2
    • 0038179519 scopus 로고    scopus 로고
    • [Semiconductors 37, 493 (2003)].
    • (2003) Semiconductors , vol.37 , pp. 493
  • 31
    • 33749678180 scopus 로고    scopus 로고
    • [Phys. Usp. 44, 655 (2001)].
    • (2001) Phys. Usp. , vol.44 , pp. 655


* 이 정보는 Elsevier사의 SCOPUS DB에서 KISTI가 분석하여 추출한 것입니다.