Comparison of Ti/Al/Pt/Au and Ti/Au Ohmic contacts on n-type ZnCdO

Applied Physics Letters

Volumn 88, Issue 1, 2006, Pages

  Chen, Jau Jiun ^b   Jang, Soohwan ^b   Ren, F ^b   Rawal, S ^a   Li, Yuanjie ^a   Kim, Hyun Sik ^a   Norton, D P ^a   Pearton, S J ^a   Osinsky, A ^a  

^a SVT ASSOCIATES   (United States)

^b NONE

Author keywords

[No Author keywords available]

Indexed keywords

ANNEAL TEMPERATURE; CONTACT SCHEMES; MINIMUM CONTACT RESISTIVITY; ZNO BUFFER LAYERS;

AUGER ELECTRON SPECTROSCOPY; ELECTRIC CONDUCTIVITY; GALLIUM NITRIDE; MORPHOLOGY; SAPPHIRE; THERMODYNAMIC STABILITY;

ZINC COMPOUNDS;

EID: 33645549214     PISSN: 00036951     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.1063/1.2161927     Document Type: Article

References (34)

1. D. C. Look, B. Claflin, Ya. I. Alivov, and S. J. Park, Phys. Status Solidi A 201, 2203 (2004).
2. R. L. Hoffman, B. J. Norris, and J. F. Wager, Appl. Phys. Lett. 82, 733 (2003).
3. S. J. Pearton, D. P. Norton, K. Ip, Y. W. Heo, and T. Steiner, Prog. Mater. Sci. 50, 293 (2005).
4. Y. R. Ryu, T. S. Lee, J. H. Leem, and H. W. White, Appl. Phys. Lett. 83, 4032 (2003).
5. T. Aoki and Y. Hatanaka, Appl. Phys. Lett. 76, 3257 (2000).
6. Y. I. Alivov, J. E. Van Nostrand, D. C. Look, M. V. Chukichev, and B. M. Ataev, Appl. Phys. Lett. 83, 2943 (2003).
7. Y. I. Alivov, E. V. Kalinina, A. E. Cherenkov, D. C. Look, B. M. Ataev, A. K. Omaev, M. V. Chukichev, and D. M. Bagnall, Appl. Phys. Lett. 83, 4719 (2003).
8. H. Hosono, H. Ohta, K. Hayashi, M. Orita, and M. Hirano, J. Cryst. Growth 237-239, 496 (2001).
9. A. Osinsky, J. W. Dong, M. Z. Kauser, B. Hertog, A. M. Dabiran, P. P. Chow, S. J. Pearton, O. Lopatiuk, and L. Chernyak, Appl. Phys. Lett. 85, 4272 (2004).
10. J. W. Dong, A. Osinsky, B. Hertog, A. M. Dabiran, P. P. Chow, Y. W. Heo, D. P. Norton, and S. J. Pearton, J. Electron. Mater. 34, 416 (2005).
11. Dae-Kue Hwang, Soon-Hyung Kang, Jae-Hong Lim, Eun-Jeong Yang, Jin-Yong Oh, Jin-Ho Yang, and Seong-Ju Park, Appl. Phys. Lett. 86, 222101 (2005).
12. A. Tsukazaki, A. Ohtomo, T. Onuma, M. Ohtani, T. Makino, M. Sumiya, K. Ohtani, S. F. Chichibu, S. Fuke, Y. Segawa, H. Ohno, H. Koinuma, and M. Kawasaki, Nat. Mater. 4, 42 (2005).
13. A. Tsukazaki, M. Kubota, A. Ohtomo, T. Onuma, K. Ohtani, H. Ohno, S. F. Chichibu, and M. Kawasaki, Jpn. J. Appl. Phys., Part 2 44, L643 (2005).
14. A. Ohtomo, M. Kawasaki, I. Ohkubo, H. Koinuma, T. Yasuda, and Y. Segawa, Appl. Phys. Lett. 75, 980 (1999).
15. Th. Gruber, C. Kirchner, R. Kling, F. Reuss, A. Waag, F. Bertram, D. Forster, J. Christen, and M. Schreck, Appl. Phys. Lett. 83, 3290 (2003).
16. S.-H. Kim, H.-K. Kim, and T.-Y. Seong, Appl. Phys. Lett. 86, 112101 (2005).
17. T. Akane, K. Sugioka, and K. Midorikawa, J. Vac. Sci. Technol. B 18, 1406 (2000).
18. H.-K. Kim, J. W. Bae, K.-K. Kim, S.-J. Park, T.-Y. Seong, and I. Adesida, Thin Solid Films 447, 90 (2004).
19. A. A. Iliadis, R. D. Vispute, T. Venkatesan, and K. A. Jones, Thin Solid Films 420, 478 (2002).
20. A. Inumpudi, A. A. Iliadis, S. Krishnamoorthy, S. Choopun, R. D. Vispute, and T. Venkatesan, Solid-State Electron. 46, 1665 (2002).
21. H.-K. Kim, S.-H. Han, T.-Y. Seong, and W.-K. Choi, Appl. Phys. Lett. 77, 1647 (2000).
22. S.-H. Kim, K.-K. Kim, S.-J. Park, and T.-Y. Seong, J. Electrochem. Soc. 152, G169 (2005).
23. H.-K. Kim, I. Adesida, K.-K. Kim, and T.-Y. Seong, J. Electrochem. Soc. 151, G223 (2004).
24. H.-K. Kim, K.-K. Kim, S.-J. Park, T.-Y. Seong, and I. Adesida, J. Appl. Phys. 94, 4225 (2003).
25. H.-K. Kim, T.-Y. Seong, K.-K. Kim, S.-J. Park, Y. S. Yoon, and I. Adesida, Jpn. J. Appl. Phys., Part 1 43, 976 (2004).
26. S.-H. Kim, J.-T. Maeng, C.-J. Choi, J. H. Leem, M. S. Han, and T.-Y. Seong, Electrochem. Solid-State Lett. 8, G167 (2005).
27. S. Kim, B. S. Kang, F. Ren, Y. W. Heo, K. Ip, D. P. Norton, and S. J. Pearton, Appl. Phys. Lett. 84, 1904 (2004).
28. H. S. Yang, Y. Li, D. P. Norton, K. Ip, S. J. Pearton, S. Jang, and F. Ren, Appl. Phys. Lett. 86, 192103 (2005).
29. Y. R. Ryu, T. S. Lee, J. H. Leem, and H. W. White, Appl. Phys. Lett. 83, 4032 (2003).
30. H. Sheng, N. W. Emanetoglu, S. Muthukumar, S. Feng, and Y. Lu, J. Electron. Mater. 31, 811 (2002).
31. H. Sheng, N. W. Emanetoglu, S. Muthukumar, B. V. Yakshinskiy, S. Feng, and Y. Lu, J. Electron. Mater. 32, 935 (2003).
32. S. Y. Kim, H. W. Jang, J. K. Kim, C. M. Jeon, W. I. Park, G. C. Yi, and J.-L. Lee, J. Electron. Mater. 31, 868 (2002).
33. D. R. Lide, CRC Handbook of Chemistry and Physics, 76th ed. (Chemical Rubber, Boca Raton, 1995).
34. K. Ip, Y. W. Heo, K. H. Baik, D. P. Norton, S. J. Pearton, and F. Ren, Appl. Phys. Lett. 84, 544 (2004).