MOCVD of lanthanum oxides from La(tmhd)3 and La(tmod) 3 precursors: A thermal and kinetic investigation

Chemical Vapor Deposition

Volumn 12, Issue 1, 2006, Pages 46-53

  Bedoya, Cedric ^a   Condorelli, Guiglielmo G ^a   Finocchiaro, Sebastiana T ^a   Di Mauro, Alessandro ^a   Atanasio, Dario ^a   Fragalà, Ignazio L ^a   Cattaneo, Lorena ^b   Carella, Sergio ^b  

^a UNIVERSITY OF CATANIA   (Italy)

^b SAES GETTERS S P A   (Italy)

Author keywords

FTIR; Lanthanum oxide; Lanthanum tetramethyl heptadionate; Lanthanum tetramethyl octanedionate; MOCVD; Thermal analysis

Indexed keywords

CARBON; FILMS; FOURIER TRANSFORM INFRARED SPECTROSCOPY; METALLORGANIC CHEMICAL VAPOR DEPOSITION; SUBLIMATION; THERMOANALYSIS; VAPORIZATION;

LANTHANUM OXIDE; LANTHANUM TETRAMETHYL-HEPTADIONATE; LANTHANUM TETRAMETHYL-OCTANEDIONATE; THERMAL ROBUSTNESS;

LANTHANUM COMPOUNDS;

EID: 31644442021     PISSN: 09481907     EISSN: 15213862     Source Type: Journal    
DOI: 10.1002/cvde.200506391     Document Type: Review

References (41)

1. Y. H. Wu, M. Y. Yang, A. Chin, W. J. Chin, C. M. Kwei, IEEE Electron Device Lett. 2000, 21, 341.
2. S. Guha, E. Cartier, M. A. Gribelyuk, N. A. Bojarczuk, M. C. Copel, Appl. Phys. Lett. 2000, 77, 2710.
3. M. C. Copel, E. Cartier, F. M. Ross, Appl. Phys. Lett. 2001, 78 1607.
4. K. Tominaga, A. Shirayanagi, T. Taakagi, M. Okada, Jpn. J. Appl. Phys., Part 1 1993, 32, 4082.
5. A. Kingon, Nature 1999, 401, 658.
6. S. R. Shannigrahi, S.-H. Lee, H. M. Jang, J. Mater. Res. 2002, 17, 1884.
7. W. Tao, S. B. Desu, C. H. Peng, B. Dickerson, T. K. Li, C. L. Thio, J. J. Lee, W. Hendricks, Mater. Res. Soc. Symp. Proc., Vol. 361 (Ferroelectric Thin Films IV) (Eds: R. Ramesh, B. A. Tuttle, S. B. Desu, T. Shiosaki), Materials Research Society, Warrendale, PA 1995, p. 319.
8. S. D. Bu, B. S, Kang, B. H. Park, T. W. Noh, J. Korean Phys. Soc. 2000, 36, 9.
9. T. Kijima, M. Ushikubo, H. Matsunaga, Jpn. J. Appl. Phys., Part 1 1999, 38, 127.
10. G. Y. Ahn, S.-I. Park, I.-B. Shim, Y. S. Cho, C. S. Kim, Phys. Status Solidi B 2004, 241, 1561.
11. R. Von Helmolt, J. Wecker, B. Holzapfel, L. Schulte, K. Samwer, Phys. Rev. Lett. 1993, 71, 2331.
12. T. K. Nath, R. A. Rao, D. Lavric, C. B. Eom, L. Wu, F. Tsui, Appl. Phys. Lett. 1999, 74, 1615.
13. R. Ramesh, S. Aggarwal, O. Auciello, Mater. Sci. Eng. R 2001, 32, 191.
14. R. Zambrano, Mater. Sci. Semicon. Proc. 2002, 5, 305.
15. A. C. Jones, P. R. Chalker, J. Phys. D: Appl. Phys. 2003, 36, 80.
16. Y. Shiokawa, R. Amano, A. Nomura, M. Yagi, J. Radioanal. Nucl. Chem. 1991, 152, 373.
17. A. Weber, H. Suhr, Mod. Phys. Lett. 1989, 3, 1001.
18. M. Nieminen, M. Putkonen, L. Niinistö, Appl. Surf. Sci. 2001, 174, 155.
19. J. B. Cheng, A. D. Li, Q. Y. Shao, H. Q. Ling, D. Wu, Y. Wang, Y. J. Bao, M. Wang, Z. G. Liu, N. B. Ming, Appl. Surf. Sci. 2004, 233, 91.
20. T. Nakamura, T. Nishimura, R. Tai, K. Tachibana Mater. Sci. Eng. B 2005, 118, 253.
21. K. J. Eisentraut, R. E. Sievers, J. Am. Chem. Soc. 1965, 87, 5254.
22. N. B. Colthup, L. H. Daly, S. E. Wibiberley, Introduction to Infrared and Roman Spectroscopy, Academic Press, New York 1964, p. 220.
23. K. Nakamoto, Infrared and Roman Spectra of Inorganic and Coordination Compounds, John Wiley and Sons, New York 1978.
24. Y. Pauleau, O. Dulac, Chem. Mater. 1991, 3, 280.
25. K.-S. Chou, W.-M. Wang, Thermochim. Acta 1996, 286, 75.
26. D. Temple, A. Reisman, J. Electrochem. Soc. 1989, 136, 3535.
27. G. L. Bertrand, G. Caboche, L. C. Dufour, Solid State Ionics 2000, 129, 219.
28. G. G. Condorelli, M. L. Hitchman, A. Y. Kovalgin, S. H. Shamlian, Proc. Electrochem. Soc. Vol. 98-23, (Eds: M. D. Allendorf, M. R. Zachariah, L. Mountziaris, A. H. McDaniel), The Electrochemical Society, Pennington, NJ 1998, p.141.
29. G. G. Condorelli, M. L. Hitchman, A. Y. Kovalgin, S. H. Shamlian, in Chemical Vapor Deposition-Proc. 14th Int. CVD Conf. and EUROCVD-11 (Eds: M. Allendorf, C. Bernard), The Electrochemical Soc., Pennington, NJ 1997, Vol. 97-25, p. 901.
30. V. V. Krisyuk, A. E. Turgambaeva, I. K. Igumenov, Chem. Vap. Deposition 1998, 4, 43.
31. A. E. Turgambaeva, A. F. Bykov, Igor K. Igumenov, J. Phys. IV 1995, 5, 221.
32. C. Bedoya, G. G. Condorelli, A. Di Mauro, G. Anastasi, I. L. Fragalà, J. Lisoni D. Wouters, Mater. Sci. Eng. B 2005, 118, 264.
33. Y. S. Cho, S.-I. Cho, H.-K. Ryu, J. S. Heo, D. H. Lee, S. H. Moon, J. Electrochem. Soc. 2003, 150, F11.
34. H. C. Aspinall, J. Gaskell, P. A. Williams, A. C. Jones, P. R. Chalker, P. A. Marshall, L. M. Smith, G. W. Critchlow, Chem. Vap. Deposition 2004, 10, 13.
35. A. M. De Asha, J. T. S. Critchey, R. M. Nix, Surf Sci. 1998, 405, 201.
36. B. Klingenberg, M. A. Vannice, Chem. Mater. 1996, 8, 2755.
37. Y. A. Teterin, M. I. Sosulnikiv, Phys. C 1993, 212, 306.
38. P. Swift, Surf Interface Anal. 1982, 4, 47.
39. D. Stoychev, I. Valov, P. Stefanov, G. Atanasova, M. Stoycheva, T. Marinova, Mater. Sci. Eng. C 2003, 23, 123.
40. P. Pisecny, K. Husekova, K. Frohlich, L. Harmatha, J. Soltys, D. Machajdik, J. P. Espinos, M. Jergel, J. Jakabovic, Mater. Sci. Semicon. Proc. 2004, 7, 231.
41. G. G. Condorelli, S. Gennaro, I. L. Fragalà, Chem. Vap. Deposition 2000, 6, 185.