Contact hole resist solutions for 45-90nm node design rules

Journal of Photopolymer Science and Technology

Volumn 17, Issue 4, 2004, Pages 489-496

  Padmanaban, Munirathna ^a   Kudo, Takanori ^a   Lin, Guanyang ^a   Hong, Sungeun ^b   Nishibe, Takeshi ^b   Takano, Yusuke ^b  

^a CLARIANT CORPORATION   (United States)

^b SÜD CHEMIE AG   (Germany)

Author keywords

193nm contact resists; RELACS

Indexed keywords

ANALYTICAL ERROR; ARTICLE; CHROMELESS PHASE LITHOGRAPHY; ELECTRONICS; FLOW; MATERIALS; TECHNIQUE; TECHNOLOGY;

EID: 3142543739     PISSN: 09149244     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.2494/photopolymer.17.489     Document Type: Article

References (23)

1. W. Conley, P. Montgomery, K. Lucas, L. C. Litt, J. G. Maltabes, L. Dieu, G. Hughes, D. Mellenthin, R. Socha, E. Fanucchi, A. Verhappen, K. Wampler, L. Yu, E. Schaefer, S. Cassel, J. P. Kuijten, W. Pijnenburg, V. Wiaux, G. Vandenberghe, Proc. SPIE 5040 (2003) 1210.
2. V. Wiaux, P. Montgomery, G. Vandenberghe, P. Monnoyer, K. Ronse, W. Conley, L. C. Litt, K. Lucas, J. Finders, R. Socha, D.V.D. Broeke, Proc. SPIE 5040 (2003) 270.
3. T-S. Eom, C-M. Lim, S-M. Kim, H-B. Kim, S-Y. Oh, W-K. Ma, S-C. Moon, K-S. Shin, Proc. SPIE 5040 (2003) 1310.
4. W. Conley, D.V.D. Broeke, R. Socha, W. Wu, L. Litt, K. Lucas, C. Nelson-Thomas, B. Roman, F. Chen, K. Wampler, T. Laidig, S. Hsu, E. Schaefer, S. Cassel, L. Yu, B. Kasprowicz, C. Progler, J. Petersen, D. Gerold, M. Maslow, Proc. SPIE 5040 (2003) 392.
5. K. Yajazoe, M. Hasegawa, K. Saitoh, A. Suzuki, Proc. SPIE 4691 (2002) 1601.
6. K. Suhm, D. Baker, B. Hesse, K. Clark, S. Coleman, Proc. SPIE 5039 (2003) 277.
7. T. Toyoshima, T. Ishibashi, A. Minanide, K. Sugino, K. katayama, T. Shoya, I. Arimoto, N. Yasuda, H. Adachi, Y. Matsui, IEDM (1998) 333.
8. J. Kim, C. Choi, M. Kim, C. Bok, H. Kim, K. Baik, J. of Appl. Phys. 37 (1998) 6863.
9. J. S. Chun, S. Bakshi, S. Barnett, J. Shih, S. K. Lee, Proc. SPIE 3999 (2000) 620.
10. S. Satyanarayana, Chris Cohan, Proc. SPIE, 5039 (2003) 257.
11. C-W. Koh, J-S. Kim, C-I. Choi, T-S. Eom, W-T. Kwon, J-C. Jung, C-K. Bok, K-S. Shin, Proc. SPIE 4690 (2002) 793.
12. S. Hong, T. Nishibe, T. Okayasu, K. Takahashi, Y. Takano, W-B. Kang, H. Tanaka, Proc. SPIE 5376 (2004) to be published.
13. S. Hong, Y. Takano, T. Kanda, T. Kudo, M. Padmanaban, H. Tanaka, Proc. SPIE 5039 (2003) 195.
14. M. Terai, T. Toyoshima, T. Ishibashi, S. Tarutani, K. Takahashi, Y. Takano, H. Tanaka, Proc. SPIE 5039 (2003) 789.
15. M. Suwa, H. Iwasawa, T. Kajita, M. Yamamoto, and S. I. Iwanaga, Proc. SPIE 3333, (1998) 26.
16. T. I. Wallow, P. J. Brock, R A. Dipietro, R. D. Allen, J. Optiz, R. Sooryakumaran, D. C. Hofer, J. Meute, J. D. Byers, G. Rich, M. McCallum, S. Schuetze, S. Jayaraman, K. Hullihen, R. Vicari, L. F. Rohdes, B. L. Goodall, R. A. Schick, Proc. SPIE 3333 (1998) 92.
17. F. M. Houlihan, T. I. Wallow, O. Nalamasu, R. Reichmanis, Macromolecules 30 (1997) 6517.
18. J. C. Jung, C. K. Bok, K. H. Baik, J. Photopolym. Sci. Technol. 10 (1997) 529.
19. H-S. Joo, D-C. Seo, C-M. Kim, Y-T. Lim, S-D. Cho, J-B. Lee, H-P. Jeon, J-H. Park, J-C. Jung, K-S. Shin, C-K. Bok, S-C. Moon, Proc. SPIE 5039 (2003) 725.
20. M. Dalil Rahman, D. McKenzie, J-B. Bae, T. Kudo, W-K. Kim, M. Padmanaban, R. R. Dammel, Proc. SPIE 4345 (2001) 159.
21. K. Nozaki, K. Watanabe, E. Yano, A. Kotachi, S. Takeuchi, and I. Hanyu, J. Photopolym. Sci. Technol. 9 (1996) 509.
22. M. Padmanaban, E. Alemy, J-B. Bae, W-K. Kim, T. Kudo, S. Masuda, D. Rahman, R. Sakamuri, R. Dammel, J-C. Jung, S-K. Lee, K-S. Shin, J. Photopolym. Sci. Technol. 14, (2001) 631.
23. T. Kanda, H. Tanaka, and Y. Kinoshita, N. Natsuo, R. Eakin, T. Ishibashi, T. Toyoshima, N. Yasuda, M. Tanaka., Proc. SPIE 3999 (2000) 881.