Ring opened maleic anhydride and norbornene copolymers(ROMA) have a good character in resist flow process for 193nm resist technology

Proceedings of SPIE - The International Society for Optical Engineering

Volumn 5039 II, Issue , 2003, Pages 725-732

  Joo, Hyun Sang ^a   Seo, Dong Chul ^a   Kim, Chang Min ^a   Lim, Young Taek ^a   Cho, Seung Duk ^a   Lee, Jong Bum ^a   Jeon, Hyun Pyo ^a   Park, Joo Hyeon ^a   Jung, Jae Chang ^a   Shin, Ki Soo ^b   Bok, Chul Kyu ^b   Moon, Seung Chan ^b  

^a Korea Kumho Petrochemical Co Ltd   (South Korea)

^b Hynix Semiconductor Inc   (South Korea)

Author keywords

[No Author keywords available]

Indexed keywords

DERIVATIVES; OPTICAL DATA STORAGE; PHOTOLITHOGRAPHY; PHOTORESISTS; RING OPENING POLYMERIZATION; SUBSTITUTION REACTIONS; ULTRAVIOLET RADIATION;

NORBORNENE COPOLYMERS; RESIST FLOW PROCESS; RING OPENED MALEIC ANHYDRIDE; ULTRAVIOLET TRANSMITTANCE;

COPOLYMERS;

EID: 0141611166     PISSN: 0277786X     EISSN: None     Source Type: Conference Proceeding    
DOI: 10.1117/12.485209     Document Type: Conference Paper

References (18)

1. G. D. Darling, A. M. Vekselman, and S. Yamade, Proc. SPIE, 3333, 438, 1998.
2. T. I. Wallow, F. M. Houlihan, O. Nalamasu, E. A. Chandross, T. X. Neenan, and E. Reichmanis, SPIE, 2724, 355, 1996
3. J. H. Park, S. J. Kim, D. C. Seo, C. M. Kim, Y. T. Lim, S. D. Cho, J. B. Lee, H. S. Joo, H. P. Jeon, J. C. Jung, K. S. Shin, K. K. Kong, T. Yamada, SPIE, 3049, 485, 1997
4. R. R. Dammel, S. Ficner, J. Oberlander, A. Klauck-Jacobs, M. Padmanaban, D. N. Khanna, and D. L. Durham, Proc. SPIE, 3333, 144, 1998
5. T. Ohfuji, M. Endo, M. Takahashi, T. Naito, T. Tatsumi, K. Kuhara, and M. Sasago, Proc. SPIE, 3333, 595, 1998
6. T. Yamada, J. H. Park, Electronic Journal, 7, 143, 2001
7. S. K. Lee, J. C. Jung, Y. S. Whang, K. D. Park, J. S. Kim, K. K. Kong, K. S. Shin, SPIE, 4690, 571, 2002
8. J. S. Kim, J. C. Jung, K. K. Kong, S. K. Lee, S. Y. S. Whang, K. S. Shin, SPIE, 4690, 577, 2002
9. I. L. Rushkin, F. M. Houlihan, J. M. Komentani, R. S. Hutton, A. G. Timko, E. Reichmanis, and O. Nalamasu, Proc. SPIE, 3678, 44, 1999.
10. J. H. Park, S. J. Kim, S. Y. Park, H. Lee, J. C. Jung, C. K. Bok, K. H. Baik, SPIE, 3049, 485, 1997
11. S. J. Kim, J. H. Park, J. H. Kim, K. D. Kim, H. Lee, J. C. Jung, C. K. Bok, K. H. Baik, SPIE, 3049, 430, 1997
12. Y. Kang, S. G. Woo, S. J. Choi, and J. T. Moon, Proc. SPIE, 4345, 222, 2001.
13. J. C. Jung, C. K. Bok, and K. H. Baik, Proc. SPIE, 3333, 11, 1998
14. G. Dabbagh, F. M. Houlihan, Ilya Rushkin, R. S. Hutton, O. Nalamasu, and E. Reishmanis, Proc. SPIE, 3678, 86, 1999.
15. L. Ferrerira, S. Malik, T. R. Sarubbi, A. J. Blakeney, and B. Maxwell, Proc. SPIE, 3333, 236, 1998.
16. R. D. Allen, J. O. Carl, E. Larson, R. A. Dipietro, G. Breyta, and D. C. Hofer, SPIE, 3049, 44, 1997
17. K. Maeda, K. Nakano, T. Ohfuji, and E. Hasegawa, SPIE, 2724, 377, 1996
18. K. Maeda, K. Nakano, S. Iwasa, and E. Hasegawa, SPIE, 3049, 55, 1997