Spectroscopic study of gas and surface phase chemistries of CF 4 plasmas in an inductively coupled modified gaseous electronics conference reactor

Journal of Vacuum Science and Technology A: Vacuum, Surfaces and Films

Volumn 24, Issue 1, 2006, Pages 114-125

  Zhou, Baosuo ^a,b   Joseph, Eric A ^a   Overzet, Lawrence J ^a   Goeckner, Matthew J ^a  

^a The University of Texas at Dallas   (United States)

^b MICRON TECHNOLOGY INC   (United States)

Author keywords

[No Author keywords available]

Indexed keywords

GAS PHASE CHEMISTRY; QUARTZ SOURCE WINDOW; SURFACE PHASE CHEMISTRIES;

ELLIPSOMETRY; FLUORINE; QUARTZ; SPECTROSCOPIC ANALYSIS; SUBSTRATES;

PLASMAS;

EID: 29344450453     PISSN: 07342101     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.1116/1.2138718     Document Type: Article

References (42)

1. G. S. Oehrlein, Y. Zhang, D. Vender, and O. Joubert, J. Vac. Sci. Technol. A 12, 333 (1994).
2. N. R. Rueger, J. J. Beulens, M. Schaepkens, M. F. Doemling, J. M. Mirza, T. E. F. M. Standaert, and G. S. Oehrlein, J. Vac. Sci. Technol. A 15, 1881 (1997).
3. T. E. F. M. Standaert, M. Schaepkens, N. R. Rueger, P. G. M. Sebel, G. S. Oehrlein, and J. M. Cook, J. Vac. Sci. Technol. A 16, 239 (1998).
4. T. E. F. M. Standaert, C. Hedlund, E. A. Joseph, G. S. Oehrlein, and T. J. Dalton, J. Vac. Sci. Technol. A 22, 53 (2004).
5. J. A. O'Neill and J. Singh, J. Appl. Phys. 77, 497 (1995).
6. S. Ito, K. Nakamura, and H. Sugai, Jpn. J. Appl. Phys., Part 1 33, 1261 (1994).
7. Y. Chinzei, T. Ichiki, R. Kurusaki, J. Kikuchi, N. Ikegami, T. Fukazawa, H. Shindo, and Y. Horiike, Jpn. J. Appl. Phys., Part 1 35, 2472 (1996).
8. H. Oshio, T. Ichiki, and Y. Horiike, J. Electrochem. Soc. 147, 4273 (2000).
9. M. Schaepkens, R. C. M. Bosch, T. E. F. M. Standaert, G. S. Oehrlein, and J. M. Cook, J. Vac. Sci. Technol. A 16, 2099 (1998).
10. G. S. Oehrlein, Y. Zhang, D. Vender, and M. Haverlag, J. Vac. Sci. Technol. A 12, 323 (1994).
11. K. Takahashi, M. Hori, and T. Goto, J. Vac. Sci. Technol. A 14, 2004 (1996).
12. G. M. W. Kroesen, G. S. Oehrlein, E. de. Fresart, and M. Haverlag, J. Appl. Phys. 73, 8017 (1993).
13. K. Teii, M. Hori, M. Ito, and T. Goto, J. Vac. Sci. Technol. A 18, 1 (2000).
14. H. Singh, J. W. Coburn, and D. B. Gravis, J. Vac. Sci. Technol. A 19, 718 (2001).
15. N. E. Capps, N. M. Macjie, and E. R. Fisher, J. Appl. Phys. 84, 4736 (1998).
16. G. Cunge and J. P. Booth, J. Appl. Phys. 85, 3952 (1999).
17. J. Wormhoudt, J. Vac. Sci. Technol. A 8, 1722 (1990).
18. M. Haverlag, E. Stoffels, W. W. Stoffels, G. M. W. Kroesen, and F. J. de Hoog, J. Vac. Sci. Technol. A 12, 3102 (1994).
19. G. Hancock, J. Sucksmith, and M. J. Toogood, J. Phys. Chem. 94, 3269 (1990).
20. M. J. Goeckner and R. A. Breun, J. Vac. Sci. Technol. A 11, 689 (1993).
21. M. Haverlag, F. J. DeHoog, and G. M. W. Kroesen, J. Vac. Sci. Technol. A 9, 327 (1991).
22. B. A. Cruden, M. V. V. Rao, S. P. Sharma, and M. Meyyappan, Plasma Sources Sci. Technol. 11, 77 (2002).
23. E. A. Joseph, B. Zhou, S. P. Sant, L. J. Overzet, and M. J. Goeckner, J. Vac. Sci. Technol. A 22, 689 (2004).
24. M. J. Goeckner and N. A. Goeckner, J. Vac. Sci. Technol. A 17, 2586 (1999).
25. M. J. Goeckner, J. M. Marquis, B. J. Markham, A. K. Jindal, E. A. Joseph, and B.-S. Zhou, Rev. Sci. Instrum. 75, 884 (2004).
26. J. K. Olthoff and K. E. Greenberg, J. Res. Natl. Inst. Stand. Technol. 100, 327 (1995).
27. E. M. van Veldhuizen, Th. Bisschops, E. J. W. van Vliembergen, and J. H. M. C. van Wolput, J. Vac. Sci. Technol. A 3, 2205 (1985).
28. J. B. Burkholder and C. J. Howard, J. Mol. Spectrosc. 127, 362 (1988).
29. M. J. Hopper, J. W. Russell, and J. Overend, J. Chem. Phys. 48, 3765 (1968).
30. J. H. Newton and W. B. Person, J. Chem. Phys. 68, 2799 (1978).
31. K. N. Rao and A. Weber, Spectroscopy of the Earth's Atmosphere and Intersteller Medium (Academic, Boston, 1992), pp. 153-260.
32. B. N. Chapman and V. J. Minkiewicz, J. Vac. Sci. Technol. 15, 329 (1978).
33. D. Edelson and D. L. Flamm, J. Appl. Phys. 56, 1522 (1984).
34. P. Ho, J. E. Johanns, R. J. Buss, and E. Meeks, J. Vac. Sci. Technol. A 19, 2344 (2001).
35. S. P. Sant, M.S. thesis, University of Texas at Dallas, 2003.
36. Y. Horiike, K. Kubota, H. Shindo, and T. Fukasawa, J. Vac. Sci. Technol. A 13, 801 (1995).
37. D. Zhang and M. J. Kushner, J. Vac. Sci. Technol. A 18, 2661 (2000).
38. K. Sasaki, H. Furukawa, and K. Kadota, J. Appl. Phys. 88, 5585 (2000).
39. N. Takada, T. Lida, K. Shibakagi, and K. Sasaki, J. Vac. Sci. Technol. A 22, 413 (2004).
40. T. Akimoto, S. Furuoya, K. Harasima, and E. Ikawa, Jpn. J. Appl. Phys., Part 1 33, 2151 (1994).
41. W. L. Perry, K. Waters, M. Barela, and H. M. Anderson, J. Vac. Sci. Technol. A 19, 2272 (2001).
42. M. Schaepkens and G. S. Oehrlein, J. Electrochem. Soc. 148, C211 (2001).