UHV surface chemistry of bis(ethylcyclopentadienyl)ruthenium, (C 2H5C5H4)2Ru, on an oxide substrate

Chemical Vapor Deposition

Volumn 10, Issue 6, 2004, Pages 311-317

  Luo, Bing ^a   Wang, Qi ^b   White, John M ^a  

^a University of Texas at Austin   (United States)

^b The University of Texas at Austin   (United States)

Author keywords

Oxide; Precursor; Ruthenium; Surface

Indexed keywords

ABSORPTION; AMORPHOUS MATERIALS; DYNAMIC RANDOM ACCESS STORAGE; ELECTRON SPECTROSCOPY; MASS SPECTROMETERS; ORGANOMETALLICS; PRESSURE EFFECTS; REACTION KINETICS; SURFACE CHEMISTRY; ULTRAHIGH VACUUM;

AUGER ELECTRON SPECTROSCOPY (AES); BI(ETHYLCYCLOPENTADIENYL)RUTHENIUM; TEMPERATURE-PROGRAMMED DESORPTION (TPD); ZERO-ORDER KINETICS;

RUTHENIUM;

EID: 11344276654     PISSN: 09481907     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.1002/cvde.200306306     Document Type: Article

References (46)

1. D.-S. Yoon, J. S. Roh, H. K. Baik, S.-M. Lee, CRC Crit. Rev. Solid State Mater. Sci. 2002, 27, 143.
2. O. Chyan, T. N. Arunagiri, T. Ponnuswamy, J. Electrochem. Soc. 2003, 150, C347.
3. T. Aoyama, K. Eguchi, Jpn. J. Appl. Phys. Part 1 1999, 38, L1134.
4. S. Y. Kang, K. H. Choi, S. K. Lee, C. S. Hwang, H. J. Kim, J. Electrochem. Soc. 2000, 147, 1161.
5. Y. Matsui, M. Hiratani, T. Nabatame, Y. Shimamoto, S. Kimura, Electrochem. Solid-State Lett. 2001, 4, C9.
6. Y. Matsui, M. Hiratani, T. Nabatame, Y. Shimamoto, S. Kimura, Electrochem. Solid-State Lett. 2002, 5, C18.
7. J. J. Kim, D. H. Jung, M. S. Kim, S. H. Kim, D. Y. Yoon, Thin Solid Films 2002, 409, 28.
8. J. J. Kim, M. S. Kim, D. Y. Yoon, Chem. Vap. Deposition 2003, 9, 105.
9. M. L. Green, M. E. Gross, L. E. Papa, K. J. Schnoes, D. Brasen, J. Electrochem. Soc. 1985, 132, 2677.
10. E. P. Boyd, D. R. Ketchum, H. Deng, S. G. Shore, Chem. Mater. 1997, 9, 1154.
11. Y. C. Choi, B. S. Lee, Jpn. J. Appl. Phys. Part 1 1999, 38, 4876.
12. W. C. Shin, S. G. Yoon, J. Electrochem. Soc. 1997, 144, 1055.
13. T. Aoyama, M. Kiyotoshi, S. Yamazaki, K. Eguchi. Jpn. J. Appl. Phys. Part 1 1999, 38, 2194.
14. S. E. Park, H. M. Kim, K. B. Kim, S. H. Min. Thin Solid Films 1999, 341, 52.
15. S. E. Park, H. M. Kim, K. B. Kim, S. H. Min, J. Electrochem. Soc. 2000, 147, 203.
16. T. Aaltonen, A. Rahtu, M. Ritala, M. Leskelä. Electrochem. Solid-State Lett. 2003, 6, C130.
17. T. Aaltonen, P. Alén, M. Ritala, M. Leskelä. Chem. Vap. Deposition 2003, 9, 45.
18. P. Hones, T. Gerfin, M. Graetzel, Appl. Phys. Lett. 1995, 67, 3078.
19. G.-R. Bai, A. Wang, C. M. Foster, J. Vetrone, Thin Solid Films 1997, 310, 75.
20. P. Hones, F. Levy, T. Gerfin, M. Gratzel, Chem. Vap. Deposition 2000, 6, 193.
21. D.-J, Lee, S.-W. Kang, S.-W. Rhee, Thin Solid Films 2002, 413, 237.
22. A. D. Berry, D. J. Brown, R. Kaplan, E. J. Cukauskas, J. Vac. Sci. Technol. A 1986, 4, 215.
23. Y. Senzaki, F. B. McCormick, W. L. Gladfelter, Chem. Mater. 1992, 4, 747.
24. Y. Senzaki, W. L. Gladfelter, F. B. McCormick, Chem. Mater. 1993, 5, 1715.
25. D. Barreca, A. Buchberger, S. Daolio, L. E. Depero, M. Fabrizio, F. Morandini, G. A. Rizzi, L. Sangaletti, E. Tondello, Langmuir 1999, 15, 4537.
26. K. C. Smith, Y.-M. Sun, N. R. Mettlach, R. L. Hance, J. M. White, Thin Solid Films 2000, 576, 73.
27. J. Choi, Y. Choi, J. Hong, H. Tian, J. S. Roh, Y. Kim, T. M. Chung, Y. W. Oh, Y. Kim, C. G. Kim, K. No. Jpn. J. Appl. Phys. Part 1 2002. 41, 6852.
28. Y.-H. Lai, Y.-L. Chen, Y. Chi, C.-S. Liu, A. J. Carty, S.-M. Peng, G.-H. Lee, J. Mater. Chem. 2003, 13, 1999.
29. Y.-H. Song, Y.-L. Chen, Y. Chi, C.-S. Liu, W.-L. Ching, J.-J. Kai, R.-S. Chen, Y.-S. Huang, A. J. Carty, Chem. Vap. Deposition 2003, 9, 162.
30. Y.-H. Lai, T. Y. Chou, Y. H. Song, C. S. Liu, Y. Chi, A. J. Carty, S. M. Peng, G.-H. Lee, Chem. Mater. 2003, 15, 2454.
31. D. A. King, T. E. Madey, J. T. Yates, Jr., J. Chem. Phys. 1971, 55, 3247.
32. C. M. Aubuchon, B. S. Davison, A. M. Nishimura, N. J. Tro, J. Phys. Chem. 1994, 98, 240.
33. D. Welipitiya, P. A. Dowben, J. Zhang, W. W. Pal, J. F. Wendelken, Surf. Sci, 1996, 367, 20.
34. C. Waldfried, D. Welipitiya, C. W. Hutchings, H. S. V. de Silva, G. A. Gallup, P. A. Dowben, W. W. Pai, J. Zhang, J. F. Wendelken, M. M. Boag, J. Phys. Chem. B 1997, 101, 9782.
35. D. Welipitiya, C. N. Borca, C. Waldfried, C. W. Hutchings, L. Sage, C. M. Woodbridge, P. A. Dowben, Surf. Sci. 1997, 393, 34.
36. D. L. Pugmire, C. M. Woodbridge, M. A. Langell, Surf. Sci. 1998, 411. L844.
37. C. N. Borca, D. Welipitiya, P. A. Dowben, N. M. Boag, J. Phys. Chem. B 2000, 104, 1047.
38. A. Böttcher, H. Niehus, J. Chem. Phys. 1999, 110, 3186.
39. C. Niu, K. Shepherd, D. Martini, J. Tong, J. A. Kelber, D. R. Jennison, A. Bogicevic, Surf. Sci. 2000, 465, 163.
40. W. E. Bell, M. Tagami, J. Phys. Chem. 1967, 67, 2432.
41. I. J. Malik, J. Hrbek, J. Phys. Chem. 1991, 95, 10188.
42. I. J. Malik, J. Hrbek, J. Vac. Sci. Technol. A 1992, 10, 2565.
43. W. J. Mitchelland, W. H. Weinberg, J. Chem. Phys. 1996, 104, 9127.
44. S. Y. Lee, B. Luo, Y.-M. Sun, J. M. White, Appl. Surf Sci. 2004, 222, 234.
45. B. Luo, S. Y. Lee, J. M. White, Chem. Mater. 2004, 16, 629.
46. C. Kim, X.-M. Yan, J. M. White, Rev. Sci. Instrum, 2000, 71, 3502.