Effect of annealing on the morphology, structure and photoelectric properties of AZO/Pt/FTO trilayer films

Acta Metallurgica Sinica (English Letters)

Volumn 28, Issue 3, 2015, Pages 281-288

  Huang, Li Jing ^a   Ren, Nai Fei ^a   Li, Bao Jia ^a   Zhou, Ming ^a  

^a JIANGSU UNIVERSITY   (China)

Author keywords

Annealing; AZO Pt FTO trilayer film; Electrical property; Magnetron sputtering; Optical property

Indexed keywords

ALUMINUM OXIDE; CRYSTALLINITY; ELECTRIC PROPERTIES; II-VI SEMICONDUCTORS; MAGNETRON SPUTTERING; MORPHOLOGY; OPTICAL FILMS; OPTICAL PROPERTIES; PHOTOELECTRICITY; PLATINUM; TIN OXIDES; TRANSPARENT CONDUCTING OXIDES; ZINC OXIDE;

ALUMINUM-DOPED ZINC OXIDE; EFFECT OF ANNEALING; FIGURE OF MERITS; LAYER BY LAYER; ONE-STEP ANNEALING; OPTICAL AND ELECTRICAL PROPERTIES; PHOTOELECTRIC PROPERTY; TRILAYER FILM;

ANNEALING;

EID: 84922511784     PISSN: 10067191     EISSN: 21941289     Source Type: Journal    
DOI: 10.1007/s40195-014-0194-4     Document Type: Article

References (45)

1. S. Ito, T. N. Murakami, P. Liska, C. Grätzel, M. K. Nazeeruddin, M. Grätze, Thin Solid Films 516, 4613 (2008)
2. G. S. Chae, Jpn. J. Appl. Phys. 40, 1282 (2001)
3. T. Miyata, T. Hikosaka, T. Minami, Sens. Actuators, B 69, 16 (2000)
4. S. B. Kang, J. W. Lim, S. Lee, J. J. Kim, H. K. Kim, J. Phys. D 45, 325102 (2012)
5. S. I. Na, S. S. Kim, J. Jo, D. Y. Kim, Adv. Mater. 20, 4061 (2008)
6. S. Cornelia, G. Constantin, A. Stefan, Thin Solid Films 519, 595 (2010)
7. J. W. Leem, D. H. Joo, J. S. Yu, Sol. Energy Mater. Sol. Cells 95, 2221 (2011)
8. A. Zyoud, I. Saa'deddin, S. Khudruj, Z. M. Hawash, D. H. Park, G. Campet, H. S. Hilal, Solid State Sci. 18, 83 (2013)
9. J. C. Berne'de, L. Cattin, M. Morsli, Y. Berredjem, Sol. Energy Mater. Sol. Cells 92, 1508 (2008)
10. D. S. Ghosh, T. L. Chen, N. Formica, J. Hwang, I. Bruder, V. Pruneri, Sol. Energy Mater. Sol. Cells 107, 338 (2012)
11. K. H. Choi, J. Y. Kim, Y. S. Lee, H. J. Kim, sThin Solid Films 341, 152 (1999)
12. J. I. Choi, J. Y. Lee, J. H. Park, J. H. Chae, H. J. Park, D. Kim, J. Phys. Chem. Solids 70, 272 (2009)
13. F. S. Li, Y. Z. Zhang, C. X. Wu, Z. X. Lin, B. B. Zhang, T. L. Guo, Vacuum 86, 1895 (2012)
14. S. Sutthana, N. Hongsith, S. Choopun, Curr. Appl. Phys. 10, 813 (2010)
15. T. Dimopoulos, G. Z. Radnoczi, B. Pécz, H. Brückl, Thin Solid Films 519, 1470 (2010)
16. Y. S. Lin, W. C. Tseng, J. Electron. Mater. 41, 437 (2012)
17. K. Sivaramakrishnan, T. L. Alford, Appl. Phys. Lett. 94, 052104 (2009)
18. D. R. Sahu, J. L. Huang, Appl. Surf. Sci. 253, 827 (2006)
19. H. Kim, G. Veerappan, J. H. Park, Electrochim. Acta 137, 164 (2014)
20. C. C. Yang, H. Q. Zhang, Y. R. Zheng, Curr. Appl. Phys. 11, S147 (2011)
21. B. L. Zhu, X. H. Sun, X. Z. Zhao, F. H. Su, G. H. Li, X. G. Wu, J. Wu, R. Wu, J. Liu, Vacuum 82, 495 (2008)
22. C. Guillén, J. Herrero, Vacuum 84, 924 (2010)
23. H. Tong, Z. H. Deng, Z. H. Liu, C. G. Huang, J. Q. Huang, H. Lan, C. Wang, Y. G. Cao, Appl. Surf. Sci. 257, 4906 (2011)
24. J. K. Sheu, K. W. Shu, M. L. Lee, C. J. Tun, G. C. Chi, J. Electrochem. Soc. 154, 521 (2007)
25. H. Kermani, H. R. Fallah, M. Hajimahmoodzadeh, Phys. E 47, 303 (2013)
26. A. Kim, Y. Won, K. Woo, C. H. Kim, J. Moon, ACS Nano 7, 1081 (2013)
27. Y. Yang, P. Lan, M. Wang, T. Wei, R. Tan, W. Song, Nanoscale Res. Lett. 7, 481-1 (2012)
28. H. C. Wang, C. H. Liao, Y. L. Chue, C. C. Lai, P. C. Chou, S. Y. Ting, Opt. Mater. Express 3, 295 (2013)
29. Z. N. Ng, K. Y. Chan, T. Tohsophon, Appl. Surf. Sci. 258, 9604 (2012)
30. H. M. Lee, Y. J. Lee, I. S. Kim, M. S. Kang, S. B. Heo, Y. S. Kim, D. Kim, Vacuum 86, 1494 (2012)
31. C. Agashe, J. Hüpkes, G. Schöpe, M. Berginski, Sol. Energy Mater. Sol. Cells 93, 1256 (2009)
32. L. J. Huang, N. F. Ren, B. J. Li, M. Zhou, Mater. Lett. 116, 405 (2014)
33. Z. Z. Zhi, Y. C. Liu, B. S. Li, X. T. Zhang, Y. M. Lu, D. Z. Shen, X. W. Fan, J. Phys. D 36, 719 (2003)
34. H. M. Ali, M. M. Abd El-Raheem, N. M. Megahed, H. A. Mohamed, J. Phys. Chem. Solids 67, 1823 (2006)
35. J. H. Lim, K. H. Lee, D. C. Lim, J. Korean Phys. Soc. 57, 1229 (2010)
36. N. F. Ren, L. J. Huang, M. Zhou, B. J. Li, Ceram. Int. 40, 8693 (2014)
37. S. Suzuki, T. Miyata, M. Ishii, T. Minami, Thin Solid Films 434, 14 (2003)
38. H. Kim, J. S. Horwitz, S. B. Qadri, D. B. Chrisey, Thin Solid Films 420-421, 107 (2002)
39. R. J. Winfield, L. H. K. Koh, S. O'Brien, G. M. Crean, Appl. Surf. Sci. 254, 855 (2007)
40. M. Hezam, N. Tabet, A. Mekki, Thin Solid Films 518, 161 (2010)
41. B. R. Kumar, T. S. Rao, J. Optoelectron. Biomed. Mater. 4, 35 (2012)
42. S. Lee, J. Seong, D. Y. Kim, J. Korean Phys. Soc. 56, 782 (2010)
43. B. J. Li, L. J. Huang, M. Zhou, N. F. Ren, B. Wu, Ceram. Int. 40, 1627 (2014)
44. G. Fang, D. Li, B. L. Yao, Vacuum 68, 363 (2002)
45. M. S. Kim, D. Y. Kim, M. Y. Cho, G. Nam, S. Kim, D. Y. Lee, S. O. Kim, J. Y. Leem, Vacuum 86, 1373 (2012)