-
1
-
-
0000555230
-
-
Hu, C.-K.; Gignac, L.; Malhotra, S. G.; Rosenberg, R.; Boettcher, S. Appl. Phys. Lett. 2001, 78, 904-906
-
(2001)
Appl. Phys. Lett.
, vol.78
, pp. 904-906
-
-
Hu, C.-K.1
Gignac, L.2
Malhotra, S.G.3
Rosenberg, R.4
Boettcher, S.5
-
2
-
-
79956017414
-
-
Hu, C.-K.; Gignac, L.; Rosenberg, R.; Liniger, E.; Rubino, J.; Sambucetti, C.; Domenicucci, A.; Chen, X.; Stamper, A. K. Appl. Phys. Lett. 2002, 81, 1782-1784
-
(2002)
Appl. Phys. Lett.
, vol.81
, pp. 1782-1784
-
-
Hu, C.-K.1
Gignac, L.2
Rosenberg, R.3
Liniger, E.4
Rubino, J.5
Sambucetti, C.6
Domenicucci, A.7
Chen, X.8
Stamper, A.K.9
-
4
-
-
0000507068
-
-
Ding, P. J.; Lanford, W. A.; Hymes, S.; Murarka, S. P. Appl. Phys. Lett. 1994, 64, 2897-2899
-
(1994)
Appl. Phys. Lett.
, vol.64
, pp. 2897-2899
-
-
Ding, P.J.1
Lanford, W.A.2
Hymes, S.3
Murarka, S.P.4
-
6
-
-
85056552457
-
-
Kaanta, C. W.; Bombardier, S. G.; Cote, W. J.; Hill, W. R.; Kerszykowski, G.; Landis, H. S.; Poindexter, D. J.; Pollard, C. W.; Ross, G. H.; Ryan, J. G.; Wolff, S.; Cronin, J. E. 1991 Proc. Eighth Int. IEEE VLSI Multilevel Interconnect. Conf. 1991, 144-152
-
(1991)
1991 Proc. Eighth Int. IEEE VLSI Multilevel Interconnect. Conf.
, pp. 144-152
-
-
Kaanta, C.W.1
Bombardier, S.G.2
Cote, W.J.3
Hill, W.R.4
Kerszykowski, G.5
Landis, H.S.6
Poindexter, D.J.7
Pollard, C.W.8
Ross, G.H.9
Ryan, J.G.10
Wolff, S.11
Cronin, J.E.12
-
8
-
-
74449087790
-
-
Arnaud, L.; Cacho, F.; Doyen, L.; Terrier, F.; Galpin, D.; Monget, C. Microelectron. Eng. 2010, 87, 355-360
-
(2010)
Microelectron. Eng.
, vol.87
, pp. 355-360
-
-
Arnaud, L.1
Cacho, F.2
Doyen, L.3
Terrier, F.4
Galpin, D.5
Monget, C.6
-
9
-
-
0032655681
-
-
In; San Diego, CA
-
Arnaud, L.; Tartavel, G.; Berger, T.; Mariolle, D.; Gobil, Y.; Touet, I. In 37th Annual International Reliability Physics Symposium; San Diego, CA, 1999; pp 263-269.
-
(1999)
37th Annual International Reliability Physics Symposium
, pp. 263-269
-
-
Arnaud, L.1
Tartavel, G.2
Berger, T.3
Mariolle, D.4
Gobil, Y.5
Touet, I.6
-
11
-
-
84899456666
-
-
Aubel, O.; Hennesthal, C.; Hauschildt, M.; Beyer, A.; Poppe, J.; Talut, G.; Gall, M.; Hahn, J.; Boemmels, J.; Nopper, M.; Seidel, R. IEEE 2011, 26-28
-
(2011)
IEEE
, pp. 26-28
-
-
Aubel, O.1
Hennesthal, C.2
Hauschildt, M.3
Beyer, A.4
Poppe, J.5
Talut, G.6
Gall, M.7
Hahn, J.8
Boemmels, J.9
Nopper, M.10
Seidel, R.11
-
12
-
-
0242583886
-
-
Lim, B. S.; Rahtu, A.; Gordon, R. G. Nat. Mater. 2003, 2, 749-754
-
(2003)
Nat. Mater.
, vol.2
, pp. 749-754
-
-
Lim, B.S.1
Rahtu, A.2
Gordon, R.G.3
-
13
-
-
77954144621
-
-
Yang, C.-C.; Flaitz, P.; Wang, P.-C.; Chen, F.; Edelstein, D. IEEE Electron Device Lett. 2010, 31, 728-730
-
(2010)
IEEE Electron Device Lett.
, vol.31
, pp. 728-730
-
-
Yang, C.-C.1
Flaitz, P.2
Wang, P.-C.3
Chen, F.4
Edelstein, D.5
-
14
-
-
84898062993
-
-
Elko-Hansen, T. D.-M.; Dolocan, A.; Ekerdt, J. G. J. Phys. Chem. Lett. 2014, 5, 1091-1095
-
(2014)
J. Phys. Chem. Lett.
, vol.5
, pp. 1091-1095
-
-
Elko-Hansen, T.D.-M.1
Dolocan, A.2
Ekerdt, J.G.3
-
16
-
-
35548942230
-
-
Li, H.; Farmer, D. B.; Gordon, R. G.; Lin, Y.; Vlassak, J. J. Electrochem. Soc. 2007, 154, D642-D647
-
(2007)
J. Electrochem. Soc.
, vol.154
-
-
Li, H.1
Farmer, D.B.2
Gordon, R.G.3
Lin, Y.4
Vlassak, J.5
-
17
-
-
15944374724
-
-
Li, Z.; Barry, S. T.; Gordon, R. G. Inorg. Chem. 2005, 44, 1728-1735
-
(2005)
Inorg. Chem.
, vol.44
, pp. 1728-1735
-
-
Li, Z.1
Barry, S.T.2
Gordon, R.G.3
-
18
-
-
43049123467
-
-
Li, Z.; Lee, D. K.; Coulter, M.; Rodriguez, L. N. J.; Gordon, R. G. Dalton Trans. 2008, 2592-2597
-
(2008)
Dalton Trans.
, pp. 2592-2597
-
-
Li, Z.1
Lee, D.K.2
Coulter, M.3
Rodriguez, L.N.J.4
Gordon, R.G.5
-
19
-
-
0345448389
-
-
Lim, B. S.; Rahtu, A.; Park, J.-S.; Gordon, R. G. Inorg. Chem. 2003, 42, 7951-7958
-
(2003)
Inorg. Chem.
, vol.42
, pp. 7951-7958
-
-
Lim, B.S.1
Rahtu, A.2
Park, J.-S.3
Gordon, R.G.4
-
20
-
-
72249088616
-
-
Lee, H.-B.-R.; Kim, W.-H.; Lee, J. W.; Kim, J.-M.; Heo, K.; Hwang, I. C.; Park, Y.; Hong, S.; Kim, H. J. Electrochem. Soc. 2010, 157, D10-D15
-
(2010)
J. Electrochem. Soc.
, vol.157
-
-
Lee, H.-B.-R.1
Kim, W.-H.2
Lee, J.W.3
Kim, J.-M.4
Heo, K.5
Hwang, I.C.6
Park, Y.7
Hong, S.8
Kim, H.9
-
21
-
-
84858013867
-
-
Bahlawane, N.; Kohse-Höinghaus, K.; Premkumar, P. A.; Lenoble, D. Chem. Sci. 2012, 3, 929-941
-
(2012)
Chem. Sci.
, vol.3
, pp. 929-941
-
-
Bahlawane, N.1
Kohse-Höinghaus, K.2
Premkumar, P.A.3
Lenoble, D.4
-
23
-
-
84899440119
-
-
Kuo, C.-L.; Lee, S.; Hwang, G. Phys. Rev. Lett. 2008, 100, 1-4
-
(2008)
Phys. Rev. Lett.
, vol.100
, pp. 1-4
-
-
Kuo, C.-L.1
Lee, S.2
Hwang, G.3
-
29
-
-
79960537802
-
-
Ma, Q.; Guo, H.; Gordon, R. G.; Zaera, F. Chem. Mater. 2011, 23, 3325-3334
-
(2011)
Chem. Mater.
, vol.23
, pp. 3325-3334
-
-
Ma, Q.1
Guo, H.2
Gordon, R.G.3
Zaera, F.4
-
30
-
-
77956413575
-
-
Dai, M.; Kwon, J.; Halls, M. D.; Gordon, R. G.; Chabal, Y. J. Langmuir 2010, 26, 3911-3917
-
(2010)
Langmuir
, vol.26
, pp. 3911-3917
-
-
Dai, M.1
Kwon, J.2
Halls, M.D.3
Gordon, R.G.4
Chabal, Y.J.5
|