Reversible mechano-electrochemical writing of metallic nanostructures with the tip of an atomic force microscope

Beilstein Journal of Nanotechnology

Volumn 3, Issue 1, 2012, Pages 824-830

  Obermair, Christian ^a   Kress, Marina ^a   Wagner, Andreas ^a   Schimmel, Thomas ^a  

^a KARLSRUHE INSTITUTE OF TECHNOLOGY   (Germany)

Author keywords

Atomic force microscopy; Electrochemical deposition; Electrochemistry; MEMS and NEMS; Nanoelectronics; Nanofabrication; Nanolithography; Nanotechnology; Reversible processes; Scanning probe microscopy and lithography

Indexed keywords

ATOMIC FORCE MICROSCOPY; COPPER; ELECTROCHEMISTRY; ELECTRODEPOSITION; NANOELECTRONICS; NANOLITHOGRAPHY; NANOSTRUCTURES; NANOTECHNOLOGY; PASSIVATION; REDUCTION;

CONTROLLED DEPOSITION; ELECTROCHEMICAL DEPOSITION; ELECTROCHEMICAL POTENTIAL; LONG TERM STABILITY; METALLIC NANOSTRUCTURE; METALLIC STRUCTURES; POLYCRYSTALLINE GOLD; REVERSIBLE PROCESS;

DEPOSITION;

EID: 84888787591     PISSN: None     EISSN: 21904286     Source Type: Journal    
DOI: 10.3762/bjnano.3.92     Document Type: Article

References (53)

1. Schlesinger, M.; Paunovic, M., Eds. Modern Electroplating (The ECS Series of Texts and Monographs, 52), 5th ed.; Wiley-VCH: Weinheim, 2010.
2. Kolb, D. M.; Simeone, F. C. Characterization and modification of electrode surfaces by in-situ STM. In Scanning Tunneling Microscopy in Surface Science, Nanoscience and Catalysis; Bowker, M.; Davies, P., Eds.; Wiley-VCH: Weinheim, 2010; pp 119-146.
3. Heß, C.; Borgwarth, K.; Ricken, C.; Ebling, D. G.; Heinze, J. Electrochim. Acta 1997, 42, 3065-3073.
4. El-Giar, E. M.; Said, R. A.; Bridges, G. E.; Thomson, D. J. J. Electrochem. Soc. 2000, 147, 586-591.
5. Li, W.; Hsiao, G. S.; Harris, D.; Nyffenegger, R. M.; Virtanen, J. A.; Penner, R. M. J. Phys. Chem. 1996, 100, 20103-20113.
6. Ziegler, J. C.; Engelmann, G. E.; Kolb, D. M. Z. Phys. Chem. 1999, 208, 151-166.
7. Pötzschke, R. T.; Staikov, G.; Lorenz, W. J.; Wiesbeck, W. J. Electrochem. Soc. 1999, 146, 141-149.
8. Schindler, W.; Hofmann, D.; Kirschner, J. J. Electrochem. Soc. 2001, 148, C124-C130.
9. LaGraff, J. R.; Gewirth, A. A. J. Phys. Chem. 1994, 98, 11246-11250.
10. LaGraff, J. R.; Gewirth, A. A. J. Phys. Chem. 1995, 99, 10009-10018.
11. Obermair, C.; Müller, M.; Klinke, C.; Schimmel, T. Chin. Phys. (Beijing, China) 2001, 10, S151-S156.
12. Obermair, C.; Wagner, A.; Schimmel, T. Beilstein J. Nanotechnol. 2011, 2, 659-664.
13. Obermair, C.; Kuhn, H.; Schimmel, T. Beilstein J. Nanotechnol. 2011, 2, 740-745.
14. Zhong, S.; Koch, T.; Wang, M.; Scherer, T.; Walheim, S.; Hahn, H.; Schimmel, T. Small 2009, 5, 2265-2270.
15. May, F.; Wegewijs, M. R.; Hofstetter, W. Beilstein J. Nanotechnol. 2011, 2, 693-698.
16. Hong, W.; Valkenier, H.; Mészáros, G.; Zsolt Manrique, D.; Mishchenko, A.; Putz, A.; Moreno García, P.; Lambert, C. J.; Hummelen, J. C.; Wandlowski, T. Beilstein J. Nanotechnol. 2011, 2, 699-713.
17. Perrin, M. L.; Martin, C. A.; Prins, F.; Shaikh, A. J.; Eelkema, R.; van Esch, J. H.; van Ruitenbeek, J. M.; van der Zant, H. S. J.; Dulić, D. Beilstein J. Nanotechnol. 2011, 2, 714-719.
18. Todorov, T. N.; Dundas, D.; Paxton, A. T.; Horsfield, A. P. Beilstein J. Nanotechnol. 2011, 2, 727-733.
19. Strange, M.; Thygesen, K. S. Beilstein J. Nanotechnol. 2011, 2, 746-754.
20. Nakashima, S.; Takahashi, Y.; Kiguchi, M. Beilstein J. Nanotechnol. 2011, 2, 755-759.
21. Lü, J.-T.; Gunst, T.; Hedegård, P.; Brandbyge, M. Beilstein J. Nanotechnol. 2011, 2, 814-823.
22. Solomon, G. C.; Bergfield, J. P.; Stafford, C. A.; Ratner, M. A. Beilstein J. Nanotechnol. 2011, 2, 862-871.
23. Bergfield, J. P.; Barr, J. D.; Stafford, C. A. Beilstein J. Nanotechnol. 2012, 3, 40-51.
24. Bode, N.; Kusminskiy, S. V.; Egger, R.; von Oppen, F. Beilstein J. Nanotechnol. 2012, 3, 144-162.
25. Xie, F.-Q.; Nittler, L.; Obermair, C.; Schimmel, T. Phys. Rev. Lett. 2004, 93, 128303.
26. Xie, F.-Q.; Maul, R.; Augenstein, A.; Obermair, C.; Starikov, E. B.; Schön, G.; Schimmel, T.; Wenzel, W. Nano Lett. 2008, 8, 4493-4497.
27. Xie, F.-Q.; Maul, R.; Obermair, C.; Wenzel, W.; Schön, G.; Schimmel, T. Adv. Mater. 2010, 22, 2033-2036.
28. Obermair, C.; Xie, F.-Q.; Schimmel, T. Europhys. News 2010, 41, 25-28.
29. Maul, R.; Xie, F.-Q.; Obermair, C.; Schön, G.; Schimmel, T.; Wenzel, W. Appl. Phys. Lett. 2012, 100, 203511.
30. Gnecco, E. Beilstein J. Nanotechnol. 2010, 1, 158-162.
31. Merlijn van Spengen, W.; Turq, V.; Frenken, J. W. M. Beilstein J. Nanotechnol. 2010, 1, 163-171.
32. Malegori, G.; Ferrini, G. Beilstein J. Nanotechnol. 2010, 1, 172-181.
33. König, T.; Simon, G. H.; Heinke, L.; Lichtenstein, L.; Heyde, M. Beilstein J. Nanotechnol. 2011, 2, 1-14.
34. Magonov, S.; Alexander, J. Beilstein J. Nanotechnol. 2011, 2, 15-27.
35. Glatzel, T.; Zimmerli, L.; Kawai, S.; Meyer, E.; Fendt, L.-A.; Diederich, F. Beilstein J. Nanotechnol. 2011, 2, 34-39.
36. Stegemann, B.; Klemm, M.; Horn, S.; Woydt, M. Beilstein J. Nanotechnol. 2011, 2, 59-65.
37. Darwich, S.; Mougin, K.; Rao, A.; Gnecco, E.; Jayaraman, S.; Haidara, H. Beilstein J. Nanotechnol. 2011, 2, 85-98.
38. Elias, G.; Glatzel, T.; Meyer, E.; Schwarzman, A.; Boag, A.; Rosenwaks, Y. Beilstein J. Nanotechnol. 2011, 2, 252-260.
39. Jaafar, M.; Iglesias-Freire, O.; Serrano-Ramón, L.; Ricardo Ibarra, M.; de Teresa, J. M.; Asenjo, A. Beilstein J. Nanotechnol. 2011, 2, 552-560.
40. Tian, C.; Liu, Z.; Jin, J.; Lebedkin, S.; Huang, C.; You, H.; Liu, R.; Wang, L.; Song, X.; Ding, B.; Walheim, S.; Schimmel, T.; Fang, J. Nanotechnology 2012, 23, 165604.
41. Crommie, M. F.; Lutz, C. P.; Eigler, D. M. Science 1993, 262, 218-220.
42. Eigler, D. M.; Schweizer, E. K. Nature 1990, 344, 524-526.
43. Meyer, G.; Repp, J.; Zöphel, S.; Braun, K.-F.; Hla, S. W.; Fölsch, S.; Bartels, L.; Moresco, F.; Rieder, K. H. Single Mol. 2000, 1, 79-86.
44. Moresco, F.; Meyer, G.; Rieder, K.-H.; Tang, H.; Gourdon, A.; Joachim, C. Appl. Phys. Lett. 2001, 78, 306-308.
45. Fuchs, H.; Schimmel, T. Adv. Mater. 1991, 3, 112-113.
46. Irmer, B.; Blick, R. H.; Simmel, F.; Gödel, W.; Lorenz, H.; Kotthaus, J. P. Appl. Phys. Lett. 1998, 73, 2051-2053.
47. Schumacher, H. W.; Keyser, U. F.; Zeitler, U.; Haug, R. J.; Eberl, K. Appl. Phys. Lett. 1999, 75, 1107-1112.
48. Lenhert, S.; Brinkmann, F.; Laue, T.; Walheim, S.; Vannahme, C.; Klinkhammer, S.; Xu, M.; Sekula, S.; Mappes, T.; Schimmel, T.; Fuchs, H. Nat. Nanotechnol. 2010, 5, 275-279.
49. Nakamura, M.; Endo, O.; Ohta, T.; Ito, M.; Yoda, Y. Surf. Sci. 2002, 514, 227-233.
50. Toney, M. F.; Howard, J. N.; Richer, J.; Borges, G. L.; Gordon, J. G.; Melroy, O. R.; Yee, D.; Sorensen, L. B. Phys. Rev. Lett. 1995, 75, 4472-4475.
51. Lucas, C. A.; Marković, N. M.; Ross, P. N. Phys. Rev. B 1997, 56, 3651-3654.
52. Wilms, M.; Broekmann, P.; Stuhlmann, C.; Wandelt, K. Surf. Sci. 1998, 416, 121-140.
53. Spaenig, A.; Broekmann, P.; Wandelt, K. Z. Phys. Chem. 2003, 217, 459-477.