The atomic force microscope as a mechano-electrochemical pen

Beilstein Journal of Nanotechnology

Volumn 2, Issue 1, 2011, Pages 659-664

  Obermair, Christian ^a   Wagner, Andreas ^a   Schimmel, Thomas ^a,b  

^a UNIVERSITY OF KARLSRUHE   (Germany)

^b KARLSRUHE INSTITUTE OF TECHNOLOGY   (Germany)

Author keywords

Atomic force microscopy; Deposition; Electrochemistry; Nanoelectronics; Nanofabrication; Nanolithography; Nanotechnology; NEMS and MEMS; Scanning probe lithography

Indexed keywords

AFM TIP; ATOMIC FORCE MICROSCOPES; DEPASSIVATION; DEPOSITION PARAMETERS; LATERAL FORCE; MECHANICAL CONTACT; METALLIC ISLANDS; METALLIC NANOSTRUCTURE; METALLIC PATTERNS; NANO SCALE; NANO-METER SCALE; NANOSCALE STRUCTURE; PASSIVATION PROCESS; RE-PASSIVATION; SAMPLE SURFACE; SCANNING PROBE LITHOGRAPHY; SITE SELECTIVE; TIP-SAMPLE INTERACTION;

ATOMIC FORCE MICROSCOPY; DISSOLUTION; LITHOGRAPHY; NANOELECTRONICS; NANOLITHOGRAPHY; NANOPROBES; NANOSTRUCTURED MATERIALS; PASSIVATION;

ELECTROCHEMISTRY;

EID: 80054781486     PISSN: None     EISSN: 21904286     Source Type: Journal    
DOI: 10.3762/bjnano.2.70     Document Type: Article

References (33)

1. Zhong, S.; Dupeyrat, P.; Groeger, R.; Wang, M.; Koch, T.; Schimmel, T. J. Nanosci. Nanotechnol. 2010, 10, 6144-6149.
2. Zhong, S.; Wang, D.; Koch, T.; Wang, M.; Walheim, S.; Schimmel, T. Cryst. Growth Des. 2010, 10, 1455-1459.
3. Zhong, S.; Koch, T.; Wang, M.; Scherer, T.; Walheim, S.; Hahn, H.; Schimmel, T. Small 2009, 5, 2265-2270.
4. Xie, F.-Q.; Nittler, L.; Obermair, C.; Schimmel, T. Phys. Rev. Lett. 2004, 93, 128303.
5. Xie, F.-Q.; Maul, R.; Brendelberger, S.; Obermair, C.; Starikov, E. B.; Wenzel, W.; Schön, G.; Schimmel, T. Appl. Phys. Lett. 2008, 93, 043103.
6. Xie, F.-Q.; Maul, R.; Augenstein, A.; Obermair, C.; Starikov, E. B.; Schön, G.; Schimmel, T.; Wenzel, W. Nano Lett. 2008, 8, 4493-4497.
7. Xie, F.-Q.; Maul, R.; Obermair, C.; Schön, G.; Schimmel, T.; Wenzel, W. Adv. Mater. 2010, 22, 2033-2036.
8. Crommie, M. F.; Lutz, C. P.; Eigler, D. M. Science 1993, 262, 218-220.
9. Eigler, D. M.; Schweizer, E. K. Nature 1990, 344, 524-526.
10. Meyer, G.; Repp, J.; Zöphel, S.; Braun, K.-F.; Hla, S. W.; Fölsch, S.; Bartels, L.; Moresco, F.; Rieder, K. H. Single Mol. 2000, 1, 79-86.
11. Moresco, F.; Meyer, G.; Rieder, K. H.; Tang, H.; Gourdon, A.; Joachim, C. Appl. Phys. Lett. 2001, 78, 306-308.
12. Fuchs, H.; Schimmel, T. Adv. Mater. 1991, 3, 112-113.
13. Schimmel, T.; Fuchs, H.; Akari, S.; Dransfeld, K. Appl. Phys. Lett. 1991, 58, 1039-1045.
14. Irmer, B.; Blick, R. H.; Simmel, F.; Gödel, W.; Lorenz, H.; Kotthaus, J. P. Appl. Phys. Lett. 1998, 73, 2051-2053.
15. Schumacher, H. W.; Keyser, U. F.; Zeitler, U.; Haug, R. J.; Eberl, K. Appl. Phys. Lett. 1999, 75, 1107-1112.
16. Popp, V.; Kladny, R.; Schimmel, T.; Küppers, J. Surf. Sci. 1998, 401, 105-111.
17. Mullins, B. J.; Pfrang, A.; Braddock, R. D.; Schimmel, T.; Kasper, G. J. Colloid Interface Sci. 2007, 312, 333-340.
18. Lenhert, S.; Brinkmann, F.; Laue, T.; Walheim, S.; Vannahme, C.; Klinkhammer, S.; Xu, M.; Sekula, S.; Mappes, T.; Schimmel, T.; Fuchs, H. Nat. Nanotechnol. 2010, 5, 275-279.
19. Heß, C.; Borgwarth, K.; Ricken, C.; Ebling, D. G.; Heinze, J. Electrochim. Acta 1997, 42, 3065-3073.
20. El-Giar, E. M.; Said, R. A.; Bridges, G. E.; Thomson, D. J. J. Electrochem. Soc. 2000, 147, 586-591.
21. Li, W.; Hsiao, G. S.; Harris, D.; Nyffenegger, R. M.; Virtanen, J. A.; Penner, R. M. J. Phys. Chem. 1996, 100, 20103-20113.
22. Kolb, D. M.; Ullmann, R.; Ziegler, J. C. Electrochim. Acta 1998, 43, 2751-2755.
23. Ziegler, J. C.; Engelmann, G. E.; Kolb, D. M. Z. Phys. Chem. 1999, 208, 151-166.
24. Pötzschke, R. T.; Staikov, G.; Lorenz, W. J.; Wiesbeck, W. J. Electrochem. Soc. 1999, 146, 141-149.
25. Schindler, W.; Hofmann, D.; Kirschner, J. J. Electrochem. Soc. 2001, 148, C124-C130.
26. LaGraff, J. R.; Gewirth, A. A. J. Phys. Chem. 1994, 98, 11246-11250.
27. LaGraff, J. R.; Gewirth, A. A. J. Phys. Chem. 1995, 99, 10009-10018.
28. Obermair, C.; Müller, M.; Klinke, C.; Schimmel, T. Chin. Phys. (Beijing, China) 2001, 10, S151-156.
29. Nakamura, M.; Endo, O.; Ohta, T.; Ito, M.; Yoda, Y. Surf. Sci. 2002, 514, 227-233.
30. Toney, M. F.; Howard, J. N.; Richer, J.; Borges, G. L.; Gordon, J. G.; Melroy, O. R.; Yee, D.; Sorensen, L. B. Phys. Rev. Lett. 1995, 75, 4472-4475.
31. Lucas, C. A.; Markovic, N. M.; Ross, P. N. Phys. Rev. B 1997, 56, 3651-3654.
32. Wilms, M.; Broekmann, P.; Stuhlmann, C.; Wandelt, K. Surf. Sci. 1998, 416, 121-140.
33. Spaenig, A.; Broekmann, P.; Wandelt, K. Z. Phys. Chem. 2003, 217, 459-477.