-
3
-
-
33749120764
-
-
B. Qiao J. Feng Y. Lai Y. Ling Y. Lin T. A. Tang B. Cai B. Chen Appl. Surf. Sci. 2006 252 8404 8409
-
(2006)
Appl. Surf. Sci.
, vol.252
, pp. 8404-8409
-
-
Qiao, B.1
Feng, J.2
Lai, Y.3
Ling, Y.4
Lin, Y.5
Tang, T.A.6
Cai, B.7
Chen, B.8
-
4
-
-
56949107067
-
-
S. Raoux R. M. Shelby J. Jordan-Sweet B. Munoz M. Salinga Y.-C. Chen Y.-H. Shih E.-K. Lai M.-H. Lee Microelectron. Eng. 2008 85 2330 2333
-
(2008)
Microelectron. Eng.
, vol.85
, pp. 2330-2333
-
-
Raoux, S.1
Shelby, R.M.2
Jordan-Sweet, J.3
Munoz, B.4
Salinga, M.5
Chen, Y.-C.6
Shih, Y.-H.7
Lai, E.-K.8
Lee, M.-H.9
-
5
-
-
32044444294
-
-
S. O. Ryu S. M. Yoon K. J. Choi N. Y. Lee Y. S. Park S. Y. Lee B. G. Yu J. B. Park W. C. Shin J. Electrochem. Soc. 2006 153 G234 G237
-
(2006)
J. Electrochem. Soc.
, vol.153
-
-
Ryu, S.O.1
Yoon, S.M.2
Choi, K.J.3
Lee, N.Y.4
Park, Y.S.5
Lee, S.Y.6
Yu, B.G.7
Park, J.B.8
Shin, W.C.9
-
6
-
-
0141830841
-
-
H. Horii J. H. Yi J. H. Park Y. H. Ha I. G. Baek S. O. Park Y. N. Hwang S. H. Lee Y. T. Kim K. H. Lee U.-I. Chung J. T. Moon VLSI Technol. Symp. 2003 177 178
-
(2003)
VLSI Technol. Symp.
, pp. 177-178
-
-
Horii, H.1
Yi, J.H.2
Park, J.H.3
Ha, Y.H.4
Baek, I.G.5
Park, S.O.6
Hwang, Y.N.7
Lee, S.H.8
Kim, Y.T.9
Lee, K.H.10
Chung, U.-I.11
Moon, J.T.12
-
8
-
-
84943009174
-
-
C.-F. Chen, A. Aschrott, M. H. Lee, S. Raoux, Y.-H. Shih, M. Breitwisch, F. H. Baumann, E. K. Lai, T. M. Shaw, P. Lflaitz, R. Cheek, E. A. Joseph, S. H. Chen, B. Brajendran, H. L. Lung and C. Lam, Proceedings of IEEE Int. Memory Workshop, 2009
-
(2009)
Proceedings of IEEE Int. Memory Workshop
-
-
Chen, C.-F.1
Aschrott, A.2
Lee, M.H.3
Raoux, S.4
Shih, Y.-H.5
Breitwisch, M.6
Baumann, F.H.7
Lai, E.K.8
Shaw, T.M.9
Lflaitz, P.10
Cheek, R.11
Joseph, E.A.12
Chen, S.H.13
Brajendran, B.14
Lung, H.L.15
Lam, C.16
-
11
-
-
70349317377
-
-
Project, M.W.I.B.M.M.P.J., J. Appl. Phys.
-
D. Krebs, S. Raoux, C. T. Rettner, G. W. Burr, R. M. Shelby, M. Salinga, C. M. Jefferson, and Project, M.W.I.B.M.M.P.J., J. Appl. Phys., 2009, 106, 054308-054307
-
(2009)
, vol.106
, pp. 054308-054307
-
-
Krebs, D.1
Raoux, S.2
Rettner, C.T.3
Burr, G.W.4
Shelby, R.M.5
Salinga, M.6
Jefferson, C.M.7
-
12
-
-
79955135451
-
-
D. H. Im J. I. Lee S. L. Cho H. G. An D. H. Kim I. S. Kim H. Park D. H. Ahn H. Horii S. O. Park U.-I. Chung J. T. Moon IEEE Int. Electron Devices Meet. 2008 1 4
-
(2008)
IEEE Int. Electron Devices Meet.
, pp. 1-4
-
-
Im, D.H.1
Lee, J.I.2
Cho, S.L.3
An, H.G.4
Kim, D.H.5
Kim, I.S.6
Park, H.7
Ahn, D.H.8
Horii, H.9
Park, S.O.10
Chung, U.-I.11
Moon, J.T.12
-
13
-
-
77957886054
-
-
I. S. Kim S. L. Cho D. H. Im E. H. Cho D. H. Kim G. H. Oh D. H. Ahn S. O. Park S. W. Nam J. T. Moon C. H. Chung VLSI Technol. Symp., 2010 2010 203 204
-
(2010)
VLSI Technol. Symp., 2010
, pp. 203-204
-
-
Kim, I.S.1
Cho, S.L.2
Im, D.H.3
Cho, E.H.4
Kim, D.H.5
Oh, G.H.6
Ahn, D.H.7
Park, S.O.8
Nam, S.W.9
Moon, J.T.10
Chung, C.H.11
-
14
-
-
54049115482
-
-
Y. Zhang S. Raoux D. Krebs L. E. Krupp T. Topuria M. A. Caldwell D. J. Milliron A. Kellock P. M. Rice J. L. Jordan-Sweet H. S. P. Wong J. Appl. Phys. 2008 104 074312 074315
-
(2008)
J. Appl. Phys.
, vol.104
, pp. 074312-074315
-
-
Zhang, Y.1
Raoux, S.2
Krebs, D.3
Krupp, L.E.4
Topuria, T.5
Caldwell, M.A.6
Milliron, D.J.7
Kellock, A.8
Rice, P.M.9
Jordan-Sweet, J.L.10
Wong, H.S.P.11
-
15
-
-
36048934019
-
-
Y. Zhang H. S. P. Wong S. Raoux J. N. Cha C. T. Rettner L. E. Krupp T. Topuria D. J. Milliron P. M. Rice J. L. Jordan-Sweet Appl. Phys. Lett. 2007 91 013104
-
(2007)
Appl. Phys. Lett.
, vol.91
, pp. 013104
-
-
Zhang, Y.1
Wong, H.S.P.2
Raoux, S.3
Cha, J.N.4
Rettner, C.T.5
Krupp, L.E.6
Topuria, T.7
Milliron, D.J.8
Rice, P.M.9
Jordan-Sweet, J.L.10
-
16
-
-
0141836246
-
-
T. Xu J. Stevens J. A. Villa J. T. Goldbach K. W. Guarini C. T. Black C. J. Hawker T. P. Russell Adv. Funct. Mater. 2003 13 698 702
-
(2003)
Adv. Funct. Mater.
, vol.13
, pp. 698-702
-
-
Xu, T.1
Stevens, J.2
Villa, J.A.3
Goldbach, J.T.4
Guarini, K.W.5
Black, C.T.6
Hawker, C.J.7
Russell, T.P.8
-
22
-
-
78650470926
-
-
American chemical Society, Division of colloid and surface, C., and American chemical Society, M., American Chemical Society
-
R. Nagarajan, T. A. Hatton, American chemical Society, Division of colloid and surface, C., and American chemical Society, M., Nanoparticles: Synthesis, Stabilization, Passivation, and Functionalization, American Chemical Society, 2008
-
(2008)
Nanoparticles: Synthesis, Stabilization, Passivation, and Functionalization
-
-
Nagarajan, R.1
Hatton, T.A.2
-
32
-
-
79952591331
-
-
M. J. Polking J. J. Urban D. J. Milliron H. Zheng E. Chan M. A. Caldwell S. Raoux C. F. Kisielowski J. W. Ager R. Ramesh A. P. Alivisatos Nano Lett. 2011 11 1147 1152
-
(2011)
Nano Lett.
, vol.11
, pp. 1147-1152
-
-
Polking, M.J.1
Urban, J.J.2
Milliron, D.J.3
Zheng, H.4
Chan, E.5
Caldwell, M.A.6
Raoux, S.7
Kisielowski, C.F.8
Ager, J.W.9
Ramesh, R.10
Alivisatos, A.P.11
-
57
-
-
33645522652
-
-
T. C. Chong L. P. Shi R. Zhao P. K. Tan J. M. Li H. K. Lee X. S. Miao A. Y. Du C. H. Tung Appl. Phys. Lett. 2006 88 122114
-
(2006)
Appl. Phys. Lett.
, vol.88
, pp. 122114
-
-
Chong, T.C.1
Shi, L.P.2
Zhao, R.3
Tan, P.K.4
Li, J.M.5
Lee, H.K.6
Miao, X.S.7
Du, A.Y.8
Tung, C.H.9
|