Ultra-low-temperature epitaxy of ge-based semiconductors and optoelectronic structures on Si(100): Introducing higher order germanes (Ge 3H 8, Ge 4H 10)

Chemistry of Materials

Volumn 24, Issue 9, 2012, Pages 1619-1628

  Grzybowski, Gordon ^a   Jiang, Liying ^a   Beeler, Richard T ^a   Watkins, Tylan ^a   Chizmeshya, Andrew V G ^a   Xu, Chi ^a   Menéndez, José ^a   Kouvetakis, John ^a  

^a ARIZONA STATE UNIVERSITY   (United States)

Author keywords

Ge on Si; GeSn alloys; IR optoelectonics; tetragermane; trigermane

Indexed keywords

ALLOY FILM; BULK-LIKE; CRYSTALLINITIES; DEVICE APPLICATION; DEVICE DESIGN; EASE-OF-USE; EMITTERS AND DETECTORS; GERMANES; GOOD STABILITY; HIGH GROWTH RATE; HIGHER ORDER; INDUSTRY STANDARDS; LOW TEMPERATURE PROCESSING; LOW TEMPERATURES; OPTICAL QUALITIES; OPTO-ELECTRONIC STRUCTURES; PHOTONIC APPLICATION; PROOF OF CONCEPT; QUANTUM-CHEMICAL SIMULATIONS; SI WAFER; SI(1 0 0); SI-BASED; SPECTROSCOPIC METHOD; STABLE ISOMERS; TETRAGERMANE; TRIGERMANE;

CHEMICAL VAPOR DEPOSITION; GERMANIUM; ISOMERS; QUANTUM CHEMISTRY; SILICON; SILICON ALLOYS; SPECTROSCOPIC ANALYSIS; TEMPERATURE;

SILICON WAFERS;

EID: 84860729604     PISSN: 08974756     EISSN: 15205002     Source Type: Journal    
DOI: 10.1021/cm3002404     Document Type: Article

References (31)

1. Thomas, S. G.; Bauer, M.; Stephens, M.; Kouvetakis, J. Solid State Technol. 2009, 52, 12
2. Green, M. A. Prog. Photovoltaics 2001, 9, 123
3. Beeler, R. T.; Grzybowski, G. J.; Roucka, R.; Jiang, L.; Mathews, J.; Smith, D. J.; Menéndez, J.; Chizmeshya, A. V. G.; Kouvetakis, J. Chem. Mater. 2011, 23, 4480
4. Xie, J.; Chizmeshya, A. V. G.; Tolle, J.; D'Costa, V. R.; Menéndez, J.; Kouvetakis, J. Chem. Mater. 2010, 22, 3779
5. Vincent, B.; Gencarelli, F.; Bender, H.; Merckling, C.; Douhard, B.; Petersen, D. H.; Hansen, O.; Henrichsen, H. H.; Meersschaut, J.; Vandervorst, W.; Heyns, M.; Loo, R.; Caymax, M. Appl. Phys. Lett. 2011, 99, 152103
6. Kouvetakis, J.; Mathews, J.; Roucka, R.; Chizmeshya, A. V. G.; Tolle, J.; Menéndez, J. IEEE Photonics J. 2010, 2, 924
7. Fang, Y-Y; Tolle, J.; D'Costa, V. R.; Menendez, J.; Chizmeshya, A. V. G.; Kouvetakis, J. Chem. Mater. 2007, 19, 5910
8. Luan, H.-C.; Lim, D. R.; Lee, K. K.; Chen, K. M.; Sandland, J. G.; Wada, K.; Kimerling, L. C. Appl. Phys. Lett. 1999, 75, 2909
9. Michel, J.; Liu, J.; Kimerling, L. C. Nat. Photonics 2010, 4, 527
10. Shang, H.; Frank, M. M.; Gusev, E. P.; Chu, J. O.; Bedell, S. W.; Guarini, K. W.; Ieong, M. IBM J. Res. Dev. 2006, 50/4-5, 377
11. Liu, J. F.; Michel, J.; Giziewicz, W.; Pan, D.; Wada, K.; Cannon, D. D.; Jongthammanurak, S.; Danielson, D. T.; Kimerling, L. C.; Chen, J.; Ilday, F. O.; Kartner, F. X.; Yasaitis, J. Appl. Phys. Lett. 2005, 87, 103501
12. Kuo, Y. H.; Lee, Y. K.; Ge, Y. S.; Ren, S.; Roth, J. E.; Kamins, T. I.; Miller, D. A. B.; Harris, J. S. Nature 2005, 437, 1334
13. Liu, J.; Sun, X.; Camacho-Aguilera, R.; Kimerling, L. C.; Michel, J. Opt. Lett. 2010, 35, 679
14. Chung, K. H.; Yao, N.; Benziger, J.; Sturm, J. C.; Singh, K. K.; Carlson, D.; Kuppurao, S. Appl. Phys. Lett. 2008, 92, 113506
15. Fitzgerald, E. A.; Samavedam, S. B. Thin Solid Films 1997, 294, 3
16. Fischer, P. R.; Aerde, S. V.; Oosterlaken, E.; Bozon, B.; Zagwijn, P. M.; Bauer, M.; Yan, M.; Verweij, W. ECS Trans. 2006, 3/2, 203
17. Fang, Y.-Y.; D'Costa, V. R.; Tolle, J.; Poweleit, C. D.; Kouvetakis, J.; Menéndez, J. Thin Solid Films 2008, 516, 8327
18. Drake, J. E.; Jolly, W. L. Inorg. Synth. 1963, 7, 34
19. Drake, J. E.; Jolly, W. L. J. Chem. Soc. 1962, 2807
20. Mackay, K. M.; Sutton, K. J. J. Chem. Soc. 1968, 2312
21. Mackay, K. M.; Robinson, P. J. Chem. Soc. 1965, 5121
22. Estacio, P.; Sefcik, M. D.; Chan, E. K.; Ring, M. A. Inorg. Chem. 1970, 9, 1068
23. Boourasseau, C. U.S. Patent Application US 2008/0175784 A1; Pub. Date: Jul. 24, 2008.
24. Ritter, C. J.; Hu, C.-W.; Chizmeshya, A. V. G.; Tolle, J.; Klewer, D.; Tsong, I. S. T.; Kouvetakis, J. J. Am. Chem. Soc. 2005, 127, 9855
25. Ritter, C. J.; Hu, C.-W.; Chizmeshya, A. V. G.; Tolle, J.; Nieman, R.; Tsong, I. S. T.; Kouvetakis, J. J. Am. Chem. Soc. 2006, 128, 6919
26. Frisch, M. J.; Trucks, G. W.; Schlegel, H. B.; Scuseria, G. E.; Robb, M. A.; Cheeseman, J. R.; Montgomery, J. A.;, Jr.; Vreven, T.; Kudin, K. N.; Burant, J. C.; Millam, J. M.; Iyengar, S. S.; Tomasi, J.; Barone, V.; Mennucci, B.; Cossi, M.; Scalmani, G.; Rega, N.; Petersson, G. A.; Nakatsuji, H.; Hada, M.; Ehara, M.; Toyota, K.; Fukuda, R.; Hasegawa, J.; Ishida, M.; Nakajima, T.; Honda, Y.; Kitao, O.; Nakai, H.; Klene, M.; Li, X.; Knox, J. E.; Hratchian, H. P.; Cross, J. B.; Bakken, V.; Adamo, C.; Jaramillo, J.; Gomperts, R.; Stratmann, R. E.; Yazyev, O.; Austin, A. J.; Cammi, R.; Pomelli, C.; Ochterski, J. W.; Ayala, P. Y.; Morokuma, K.; Voth, G. A.; Salvador, P.; Dannenberg, J. J.; Zakrzewski, V. G.; Dapprich, S.; Daniels, A. D.; Strain, M. C.; Farkas, O.; Malick, D. K.; Rabuck, A. D.; Raghavachari, K.; Foresman, J. B.; Ortiz, J. V.; Cui, Q.; Baboul, A. G.; Clifford, S.; J. Cioslowski, B. B.; Stefanov, G.; Liu, A.; Liashenko, P.; Piskorz, I.; Komaromi, R. L.; Martin, D. J.; Fox, T.; Keith, M. A.; Al-Laham, C. Y.; Peng, A.; Nanayakkara, M.; Challacombe, P. M. W.; Gill, B.; Johnson, W.; Chen, M. W.; Wong, C.; Gonzalez; Pople, J. A. Gaussian 03, Revision C.02; Gaussian, Inc.: Wallingford, CT, 2004.
27. Weng, C.; Kouvetakis, J.; Chizmeshya, A. V. G. J. Comput. Chem. 2011, 32 (5) 835
28. Chen, S. S.; Wilhoit, R. C.; Zolinski, B. J. J. Phys. Chem. Ref. Data 1975, 4 (4) 859
29. Wistey, M.; Fang, Y.-Y.; Tolle, J.; Chizmeshya, A. V. G.; Kouvetakis, J. Appl. Phys. Lett. 2007, 90, 082108
30. Roucka, R.; Mathews, J.; Weng, C.; Beeler, R.; Tolle, J.; Menéndez, J.; Kouvetakis, J. IEEE J. Quantum Electron. 2011, 47, 213
31. D'Costa, V. R.; Fang, Y.-Y.; Mathews, J.; Roucka, R.; Tolle, J.; Kouvetakis, J.; Menéndez, J. Semicond. Sci. Technol. 2009, 24, 115006