Quantitative multichannel NC-AFM data analysis of graphene growth on SiC(0001)

Beilstein Journal of Nanotechnology

Volumn 3, Issue 1, 2012, Pages 179-185

  Held, Christian ^a   Seyller, Thomas ^b   Bennewitz, Roland ^a  

^a INM LEIBNIZ INSTITUTE FOR NEW MATERIALS   (Germany)

^b UNIVERSITY OF ERLANGEN NUREMBERG   (Germany)

Author keywords

6H SiC(0001); FM AFM; Graphene; KPFM; SPM

Indexed keywords

6H-SIC(0001); ARGON ATMOSPHERES; CONTACT POTENTIAL; DATA SETS; FM-AFM; GRAPHENE GROWTH; GROWTH MECHANISMS; KELVIN PROBE FORCE MICROSCOPY; KPFM; MULTI-CHANNEL; NONCONTACT ATOMIC FORCE MICROSCOPY; SAMPLE PREPARATION; SPM; TWO-DIMENSIONAL HISTOGRAM;

ATOMIC FORCE MICROSCOPY; DECOMPOSITION; GRAPHENE; ULTRAHIGH VACUUM;

SILICON CARBIDE;

EID: 84858373987     PISSN: None     EISSN: 21904286     Source Type: Journal    
DOI: 10.3762/bjnano.3.19     Document Type: Article

References (27)

1. Emtsev, K. V.; Bostwick, A.; Horn, K.; Jobst, J.; Kellogg, G. L.; Ley, L.; McChesney, J. L.; Ohta, T.; Reshanov, S. A.; Röhrl, J.; Rotenberg, E.; Schmid, A. K.; Waldmann, D.; Weber, H. B.; Seyller, T. Nat. Mater. 2009, 8, 203-207
2. Hupalo, M.; Conrad, E. H.; Tringides, M. C. Phys. Rev. B 2009, 80
3. Hass, J.; de Heer, W. A.; Conrad, E. H. J. Phys.: Condens. Matter [2008,] 20, 323202.
4. Riedl, C.; Starke, U.; Bernhardt, J.; Franke, M.; Heinz, K. Phys. Rev. B [2007,] 76, 245406
5. Shivaraman, S.; Chandrashekhar, M.; Boeckl, J. J.; Spencer, M. G. J. Electron. Mater. 2009, 38, 725-730.
6. Hibino, H.; Kageshima, H.; Maeda, F.; Nagase, M.; Kobayashi, Y.; Yamaguchi, H. Phys. Rev. B 2008, 77, 075413.
7. Ohta, T.; El Gabaly, F.; Bostwick, A.; McChesney, J. L.; Emtsev, K. V.; Schmid, A. K.; Seyller, T.; Horn, K.; Rotenberg, E. New J. Phys. 2008, 10, 023034.
8. Norimatsu, W.; Kusunoki, M. Physica E 2010, 42, 691-694.
9. Filleter, T.; Bennewitz, R. Phys. Rev. B 2010, 81, 155412.
10. Vesapuisto, E.; Kim, W.; Novikov, S.; Lipsanen, H.; Kuivalainen, P. Phys. Status Solidi B 2011, 248, 1908-1914.
11. Curtin, A. E.; Fuhrer, M. S.; Tedesco, J. L.; Meyers-Ward, R. L.; Eddy, C. R., Jr.; Gaskill, D. K. Appl. Phys. Lett. 2011, 98, 243111.
12. Filleter, T.; Emtsev, K. V.; Seyller, T.; Bennewitz, R. Appl. Phys. Lett. [2008,] 93, 133117.
13. Sadewasser, S.; Lux-Steiner, M. C. Phys. Rev. Lett. 2003, 91, 266101.
14. Hass, J.; Feng, R.; Li, T.; Li, X.; Zong, Z.; de Heer, W. A.; First, P. N.; Conrad, E. H.; Jeffrey, C. A.; Berger, C. Appl. Phys. Lett. 2006, 89, 143106.
15. Charrier, A.; Coati, A.; Argunova, T.; Thibaudau, F.; Garreau, Y.; Pinchaux, R.; Forbeaux, I.; Debever, J.-M.; Sauvage-Simkin, M.; Themlin, J.-M. J. Appl. Phys. 2002, 92, 2479-2484.
16. Lauffer, P.; Emtsev, K. V.; Graupner, R.; Seyller, T.; Ley, L.; Reshanov, S. A.; Weber, H. B. Phys. Rev. B 2008, 77, 155426
17. Howald, L.; Meyer, E.; Lüthi, R.; Haefke, H.; Overney, R.; Rudin, H.; Güntherodt, H.-J. Appl. Phys. Lett. 1993, 63, 117-119.
18. Nonnenmacher, M.; O'Boyle, M. P.; Wickramasinghe, H. K. Appl. Phys. Lett. 1991, 58, 2921-2923
19. Kitamura, S.; Iwatsuki, M. Appl. Phys. Lett. 1998, 72, 3154-3156.
20. Filleter, T.; McChesney, J. L.; Bostwick, A.; Rotenberg, E.; Emtsev, K. V.; Seyller, T.; Horn, K.; Bennewitz, R. Phys. Rev. Lett. 2009, 102, 086102.
21. Bauer, A.; Kräußlich, J.; Dressler, L.; Kuschnerus, P.; Wolf, J.; Goetz, K.; Käckell, P.; Furthmüller, J.; Bechstedt, F. Phys. Rev. B 1998, 57, 2647-2650.
22. Sadewasser, S.; Glatzel, T.; Rusu, M.; Jäger-Waldau, A.; Lux-Steiner, M. C. Appl. Phys. Lett. 2002, 80, 2979-2981
23. Rüschenschmidt, K.; Bracht, H.; Stolwijk, N. A.; Laube, M.; Pensl, G.; Brandes, G. R. J. Appl. Phys. 2004, 96, 1458-1463.
24. Alfieri, G.; Monakhov, E. V.; Svensson, B. G.; Linnarsson, M. K. J. Appl. Phys. 2005, 98, 043518.
25. Bedoya-Martínez, B.; Roma, G. Phys. Rev. B 2010, 82, 134115.
26. Moheimani, R. Rev. Sci. Instrum. 2008, 79, 071101.
27. Ziegler, D.; Stemmer, A. Nanotechnology 2011, 22, 075501.