Field-effect transistors based on thermally treated electron beam-induced carbonaceous patterns

ACS Applied Materials and Interfaces

Volumn 4, Issue 2, 2012, Pages 1030-1036

  Kurra, Narendra ^a   Bhadram, Venkata Srinu ^a   Narayana, Chandrabhas ^a   Kulkarni, G U ^a  

^a JAWAHARLAL NEHRU CENTRE FOR ADVANCED SCIENTIFIC RESEARCH   (India)

Author keywords

amorphous carbon; electron beam induced deposition; field effect transistor; field induced mobility; graphitization

Indexed keywords

CHANNEL MATERIALS; ELECTRICAL MEASUREMENT; ELECTRICAL NATURE; ELECTRON BEAM-INDUCED DEPOSITION; MATRIX; P-TYPE; TEMPERATURE-DEPENDENT RAMAN; VACUUM CHAMBERS;

AMORPHOUS CARBON; CARBON CLUSTERS; FIELD EFFECT TRANSISTORS; FUNCTIONAL GROUPS; GRAPHITE; GRAPHITIZATION; HYDROCARBONS; ULTRAVIOLET RADIATION;

ELECTRON BEAMS;

EID: 84857385394     PISSN: 19448244     EISSN: 19448252     Source Type: Journal    
DOI: 10.1021/am201668v     Document Type: Article

References (53)

1. Geim, A. K.; Novoselov, K. S. Nat. Mater. 2007, 6, 183-191
2. Dresselhaus, M. S.; Dresselhaus, G.; Eklund, P. C. Science of Fullerenes and Carbon Nanotubes; Academic Press: New York, 1996.
3. Robertson, J. Prog. Solid State Chem. 1991, 21, 199-333
4. Robertson, J. Pure Appl. Chem. 1994, 66, 1789-1796
5. Wei, D.; Liu, Y. Adv. Mater. 2010, 22, 3225-3241
6. Mintmire, J. W.; Dunlap, B. I.; White, C. T. Phys. Rev. Lett. 1992, 68, 631-634
7. Rao, A. M.; Richter, E.; Bandow, S.; Chase, B.; Eklund, P. C.; Williams, K. A.; Fang, S.; Subbaswamy, K. R.; Menon, M.; Thess, A.; Smalley, R. E.; Dresselhaus, G.; Dresselhaus, M. S. Science 1997, 275, 187-191
8. Novoselov, K. S.; Geim, A. K.; Morozov, S. V.; Jiang, D.; Zhang, Y.; Dubonos, S. V.; Grigorieva, I. V.; Firsov, A. A. Science 2004, 306, 666-669
9. Son, Y.- W.; Cohen, M. L.; Louie, S. G. Phys. Rev. Lett. 2006, 97, 216803-216806
10. Li, X. L.; Wang, X. R.; Zhang, L.; Lee, S. W.; Dai, H. J. Science 2008, 319, 1229-1232
11. Zhang, P.; Tay, B. K.; Sun, C. Q.; Lau, S. P. J. Vac. Sci. Technol. A 2002, 20, 1390-1394
12. Beghi, M. G.; Ferrari, A. C.; Teo, K. B. K; Robertson, J.; Bottani, C. E.; Libassi, A.; Tanner, B. K. Appl. Phys. Lett. 2002, 81, 3804-3806
13. Bull, S. J. Diamond Relat. Mater. 1995, 4, 827-836
14. Petereit, B.; Siemroth, P.; Schneider, H. -H.; Hilgers, H. Surf. Coat. Technol. 2003, 174, 648-650
15. Grill, A. Diamond Relat. Mater. 2003, 12, 166-170
16. Ruan, G.; Sun, Z.; Peng, Z.; Tour, J. M. ACS Nano 2011, 5, 7601-7607
17. Zhang, W.; Catherine, Y. Surf. Coat. Technol. 1991, 47, 69-83
18. Voevdin, A. A.; Donley, M. S. Surf. Coat. Technol. 1996, 82, 199-213
19. Onoprienko, A. A.; Yanchuk, I. B. Powder Metall. Met. Ceram. 2006, 45, 190-195
20. Rother, B.; Siegel, J.; Breuer, K.; Mūhling, I.; Deurschmann, S.; Vetter, J.; Trommer, G.; Rau, B.; Heiser, C. J. Mater. Res. 1991, 6, 101-111
21. Robertson, J. J. Mater. Sci. Eng., R 2002, 37, 129-281
22. Rossi, F.; Andre, B.; Veen, A. V.; Mijnarends, P. E.; Schut, H.; Delplanke, M. P.; Gissler, W.; Haupt, J.; Lucazeau, G.; Abello, L. J. Appl.Phys. 1994, 75, 3121-3130
23. Urso, L. D.; Compagnini, G.; Puglisi, O. Carbon 2006, 44, 2093-2096
24. Koops, H. W. P.; Munro, E.; Rouse, J.; Kretz, J.; Rudolph, M.; Weber, M.; Dahm, G. Nucl. Instrum. Methods Phys. Res., Sect. A 1995, 363, 1-9
25. Schossler, C.; Urban, J.; Kopps, H. W. P. J. Vac. Sci. Technol. B 1997, 15, 1535-1538
26. Miura, N.; Ishii, H.; Shirakashi, J.; Yamada, A.; Konagai, M. Appl. Surf. Sci. 1997, 113-114, 269-273
27. Ding, W.; Dikin, D. A.; Chen, X.; Piner, R. D.; Ruoff, R. S.; Zussman, E.; Wang, X.; Li, X. J. Appl. Phys. 2005, 98, 014905-014911
28. Narendra, K; Vijay kumar, T.; Kulkarni, G. U. J. Nanosci. Nanotechnol. 2011, 11, 1025-1029
29. Djenizian, T.; Salhi, B.; Boukherroub, R.; Schmuki, P. Nanotechnology 2006, 17, 5363-5366
30. Morita, N.; Kawasegi, N.; Ooi, K. Nanotechnology 2008, 19, 155302
31. Bachtold, A.; Henny, M.; Terrier, C.; Strunk, C.; Schönenberger, C.; Salvetat, J. P.; Bonard, J. M.; Forró, L..Appl. Phys. Lett. 1998, 73, 274-276
32. Chen, Q.; Wang, S.; Peng, L. -M. Nanotechnology 2006, 17, 1087-1098
33. Rice, P.; Mitch Wallis, T.; Russek, S. E.; Kabos, P. Nano Lett. 2007, 7, 1086-1090
34. Wang, Y. G.; Wang, T. H.; Lin, X. W.; Dravid, V. P. Nanotechnology 2006, 17, 6011-6015
35. Koops, H. W. P.; Kretz, J.; Rudolph, M.; Weber, M.; Dahm, G.; Lee, K. L. Jpn. J. Appl. Phys. Part 1 1994, 33, 7099-7107
36. Yu, M. -F.; Lourie, O.; Dyer, M. J.; Moloni, K.; Kelly, T. F.; Ruoff, R. S. Science 2000, 287, 637-640
37. Kim, S.; Kim, J.; Berg, M.; de Lozanne, A. Rev. Sci. Instrum. 2008, 79, 103702-103705
38. Kulkarni, D. D.; Rykaczewski, K.; singamaneni, S.; Kim, S.; Fedorov, A. G.; Tsukruk, V. V. ACS Appl. Mater. Interfaces 2011, 3, 710-720
39. Yumitori, S. J. Mater. Sci. 2000, 35, 139-146
40. Subrahmanyam, K. S.; Kumar, P.; Maitra, U.; Govindaraj, A.; Hembram, K. P. S. S.; Waghmare, U. V.; Rao, C. N. R. Proc. Natl. Acad. Sci. U.S.A. 2011, 108, 2674-2677
41. Pimenta, M. A.; Dresselhaus, G.; Dresselhaus, M. S.; Cancado, L. G.; Jorio, A.; Saito, R. Phys. Chem. Chem. Phys. 2007, 9, 1276-1291
42. Ferrari, A. C.; Robertson, J. Phys. Rev. B. 2000, 61, 14095-14107
43. Eda, G.; Lin, Y.-Y.; Mattevi, C.; Yamaguchi, H.; Chen, H.-A.; Chen, I.-S.; Chen, C.-W.; Chhowalla, M. Adv. Mater. 2010, 22, 505-509
44. Dillon, R. O.; Wollam, J. A. Phys. Rev. B 1984, 29, 3482-3489
45. Rykaczewski, K.; Henry, M. R.; Kim, S.-K.; Fedorov, A. G.; Kulkarni, D.; Singamaneni, S.; Tsukruk, V. V. Nanotechnology 2010, 21, 035202
46. Miyajima, Y.; Shkunov, M. S.; Silva, R. P. Appl. Phys. Lett. 2009, 95, 102102
47. Liao, L.; Zheng, M.; Zhang, Z.; Yan, B.; Chang, X.; Ji, G.; Shen, Z.; Wu, T.; Cao, J.; Zhang, J.; Gong, H.; Cao, J.; Yu, T. Carbon 2009, 47, 1841-1845
48. Collins, P. G.; Bradley, K.; Ishigami, M.; Zettl, A. Science 2000, 287, 1801-1804
49. Chabinyc, M. L.; Lu, J.-P.; Street, R. A.; Wu, Y.; Liu, P.; Ong, B. S. J. Appl. Phys. 2004, 96, 2063
50. Turchanin, A.; Weber, D.; Büenfeld, M.; Kisielowski, C.; Fistul, M. V.; Efetov, K. B.; Weimann, T.; Stosch, R.; Mayer, J.; Gölzhäuser, A. Acs Nano 2011, 5, 3896-3904
51. Biswas, C.; Lee, Y. H. Adv. Funct. Mater. 2011, 21, 3806-3826
52. Burghard, M.; Klauk, H.; Kern, K. Adv. Mater. 2009, 21, 2586-2600
53. Avouris, P.; Chen, Z.; Perebeinos, V. Nat. Nanotechnol. 2007, 2, 605-615