Oxidation rate effect on the direction of metal-assisted chemical and electrochemical etching of silicon

Journal of Physical Chemistry C

Volumn 114, Issue 24, 2010, Pages 10683-10690

  Huang, Zhipeng ^a,b   Shimizu, Tomohiro ^a,c   Senz, Stephan ^a   Zhang, Zhang ^a   Geyer, Nadine ^a   Gösele, Ulrich ^a  

^a MAX PLANCK INSTITUTE OF MICROSTRUCTURE PHYSICS   (Germany)

^b JIANGSU UNIVERSITY   (China)

^c KANSAI UNIVERSITY   (Japan)

Author keywords

[No Author keywords available]

Indexed keywords

CONCENTRATION OF; ETCHING SOLUTIONS; METAL-ASSISTED CHEMICAL ETCHING; NOBLE-METAL PARTICLES; OXIDATION RATES; P-TYPE SUBSTRATES; SI SUBSTRATES; VERTICAL DIRECTION;

CONCENTRATION (PROCESS); EXPERIMENTS; METALS; OXIDANTS; OXIDATION; PRECIOUS METALS; SILICON; SUBSTRATES;

ELECTROCHEMICAL ETCHING;

EID: 77953735382     PISSN: 19327447     EISSN: 19327455     Source Type: Journal    
DOI: 10.1021/jp911121q     Document Type: Article

References (44)

1. Schmidt, V.; Riel, H.; Senz, S.; Karg, S.; Riess, W.; Gösele, U. Small 2006, 2, 85
2. Goldberger, J.; Hochbaum, A. I.; Fan, R.; Yang, P. Nano Lett. 2006, 6, 973
3. Peng, K. Q.; Xu, Y.; Wu, Y.; Yan, Y. J.; Lee, S. T.; Zhu, J. Small 2005, 1, 1062
4. Garnett, E. C.; Yang, P. D. J. Am. Chem. Soc. 2008, 130, 9224
5. Fang, H.; Li, X. D.; Song, S.; Xu, Y.; Zhu, J. Nanotechnology 2008, 19, 255703
6. Chan, C. K.; Peng, H.; Liu, G.; McIlwrath, K.; Zhang, X. F.; Huggins, R. A.; Cui, Y. Nature Nanotechnol. 2008, 3, 31
7. Cui, Y.; Wei, Q.; Park, H.; Lieber, C. M. Science 2001, 293, 1289
8. Patolsky, F.; Zheng, G.; Lieber, C. M. Nat. Protoc. 2006, 1, 1711
9. Ma, D. D. D.; Lee, C. S.; Au, F. C. K.; Tong, S. Y.; Lee, S. T. Science 2003, 299, 1874
10. Hochbaum, A. I.; Chen, R. K.; Delgado, R. D.; Liang, W. J.; Garnett, E. C.; Najarian, M.; Majumdar, A.; Yang, P. D. Nature 2008, 451, 163
11. Buin, A. K.; Verma, A.; Svizhenko, A.; Anantram, M. P. Nano Lett. 2008, 8, 760
12. Hong, K. H.; Kim, J.; Lee, S. H.; Shin, J. K. Nano Lett. 2008, 8, 1335
13. Li, X.; Bohn, P. W. Appl. Phys. Lett. 2000, 77, 2572
14. Peng, K. Q.; Wu, Y.; Fang, H.; Zhong, X. Y.; Xu, Y.; Zhu, J. Angew. Chem., Int. Ed. 2005, 44, 2737
15. Tsujino, K.; Matsumura, M. Adv. Mater. 2005, 17, 1045
16. Huang, Z. P.; Wu, Y.; Fang, H.; Deng, N.; Ren, T. L.; Zhu, J. Nanotechnology 2006, 17, 1476
17. Huang, Z. P.; Fang, H.; Zhu, J. Adv. Mater. 2007, 19, 744
18. Huang, Z. P.; Zhang, X. X.; Reiche, M.; Liu, L. F.; Lee, W.; Shimizu, T.; Senz, S.; Gösele, U. Nano Lett. 2008, 8, 3046
19. Peng, K. Q.; Zhang, M. L.; Lu, A. J.; Wong, N. B.; Zhang, R. Q.; Lee, S. T. Appl. Phys. Lett. 2007, 90, 163123
20. Peng, K.; Lu, A.; Zhang, R.; Lee, S. T. Adv. Funct. Mater. 2008, 18, 3026
21. Chen, C. Y.; Wu, C. S.; Chou, C. J.; Yen, T. J. Adv. Mater. 2008, 20, 3811
22. Huang, Z. P.; Shimizu, T.; Senz, S.; Zhang, Z.; Zhang, X. X.; Lee, W.; Geyer, N.; Gösele, U. Nano Lett. 2009, 9, 2519
23. Geyer, N.; Huang, Z. P.; Fuhrmann, B.; Grimm, S.; Reiche, M.; Nguyen-Duc, T. K.; de Boor, J.; Leipner, H. S.; Werner, P.; Gösele, U. Nano Lett. 2009, 9, 3106
24. Choi, W. K.; Liew, T. H.; Dawood, M. K. Nano Lett. 2008, 8, 3799
25. Tsujino, K.; Matsumura, M. Electrochem. Solid State Lett. 2005, 8, C193
26. Zhang, X. G. Electrochemistry of Silicon and Its Oxide; Kluwer Academic/Plenum Publisher: New York, 2001.
27. Zhang, M. L.; Peng, K. Q.; Fan, X.; Jie, J. S.; Zhang, R. Q.; Lee, S. T.; Wong, N. B. J. Phys. Chem. C 2008, 112, 4444
28. Tsujino, K.; Matsumura, M. Electrochim. Acta 2007, 53, 28
29. Lee, C. L.; Tsujino, K.; Kanda, Y.; Ikeda, S.; Matsumura, M. J. Mater. Chem. 2008, 18, 1015
30. Flatgen, G.; Wasle, S.; Lubke, M.; Eickes, C.; Radhakrishnan, G.; Doblhofer, K.; Ertl, G. Electrochim. Acta 1999, 44, 4499
31. Zeis, R.; Lei, T.; Sieradzki, K.; Snyder, J.; Erlebacher, J. J. Catal. 2008, 253, 132
32. Morinaga, H.; Suyama, M.; Ohmi, T. J. Electrochem. Soc. 1994, 141, 2834
33. Xia, X. H.; Ashruf, C. M. A.; French, P. J.; Rappich, J.; Kelly, J. J. J. Phys. Chem. B 2001, 105, 5722
34. Lehmann, V. J. Electrochem. Soc. 1993, 140, 2836
35. Lehmann, V.; Föll, H. J. Electrochem. Soc. 1990, 137, 653
36. Memming, R.; Schwandt, G. Surf. Sci. 1966, 4, 109
37. Peng, K. Q.; Fang, H.; Hu, J. J.; Wu, Y.; Zhu, J.; Yan, Y. J.; Lee, S. Chem.-Eur. J. 2006, 12, 7942
38. Chartier, C.; Bastide, S.; Levy-Clement, C. Electrochim. Acta 2008, 53, 5509
39. Xia, X. H.; Ashruf, C. M. A.; French, P. J.; Kelly, J. J. Chem. Mater. 2000, 12, 1671
40. Peng, K. Q.; Hu, J. J.; Yan, Y. J.; Wu, Y.; Fang, H.; Xu, Y.; Lee, S. T.; Zhu, J. Adv. Funct. Mater. 2006, 16, 387
41. Asoh, H.; Sakamoto, S.; Ono, S. J. Colloid Interface Sci. 2007, 316, 547
42. Ono, S.; Oide, A.; Asoh, H. Electrochim. Acta 2007, 52, 2898
43. Bressers, P. M. M. C.; Kelly, J. J.; Gardeniers, J. G. E.; Elwenspoek, M. J. Electrochem. Soc. 1996, 143, 1744
44. Lee, J.; Farhangfar, S.; Lee, J.; Cagnon, L.; Scholz, R.; Gösele, U.; Nielsch, K. Nanotechnology 2008, 19, 365701