Electrical and Environmental Stability of Polymer Thin-Film Transistors

Organic Electronics: Materials, Manufacturing and Applications

Volumn , Issue , 2006, Pages 108-131

  Salleo, Alberto ^a   Chabinyc, Michael L ^b  

^a Stanford University   (United States)

^b PALO ALTO RESEARCH CENTER   (United States)

Author keywords

Advanced materials; Bias stress in polyfluorene TETs; Bias stress in polythiophene TFTs; Charge trapping in TFTs; Chemical effects on stability; Defects; Electrical stability of polymer thin film transistors (TFTs); Environmental stability of polymer thin film transistors (TFTs); Impurities; Organic electronics

Indexed keywords

EID: 75749112783     PISSN: None     EISSN: None     Source Type: Book    
DOI: 10.1002/3527608753.ch5     Document Type: Chapter

References (62)

1. G. Wang, J. Swensen, D. Moses and A. J. Heeger, J. Appl. Phys. 2003, 93, 6137.
2. H. Sirringhaus, P. J. Brown, R. H. Friend, M. M. Nielsen, K. Bechgaard, B. M. W. Langeveld-Voss, A. J. H. Spiering, R. A. J. Janssen, E. W. Meijer, P. Herwig and D. M. De Leeuw, Nature 1999, 401, 685.
3. B. S. Ong, Y. Wu, P. Liu and S. Gardner, J. Am. Chem. Soc. 2004, 126, 3378.
4. H. Sirringhaus, R. J. Wilson, R. H. Friend, M. Inbasekaran, W. Wu, E. P. Woo, M. Grell and D. D. C. Bradley, Appl. Phys. Lett. 2000, 77, 406.
5. J. Ficker, A. Ullmann, W. Fix, H. Rost and W. Clemens, J. Appl. Phys. 2003, 94, 2638.
6. W. Fix, A. Ullmann, J. Ficker, H. Rost, W. Clemens, D. Brennan, D. Welsh and J. O'Brien, in Proc. of the European Solid State Research Conference, Editions Frontieres Paris 2002, p. 527.
7. A. Salleo and R. A. Street, J. Appl. Phys. 2003, 94, 471.
8. A. R. Brown, A. Pomp, D. M. de Leeuw, D. B. M. Klaassen, E. E. Havinga, P. Herwig and K. Muellen, J. Appl. Phys. 1996, 79, 2136.
9. H. Klauk, M. Halik, U. Zschieschang, G. Schmid, W. Radlik and W. Weber, J. Appl. Phys. 2002, 92, 5259.
10. A. R. Völkel, R. A. Street and D. Knipp, Phys. Rev. B 2002, 66, 195336.
11. D. Knipp, R. A. Street, A. Völkel and J. Ho, J. Appl. Phys. 2003, 93, 347.
12. J. E. Northrup and M. L. Chabinyc, Phys. Rev. B 2003, 68, 041202.
13. D. V. Lang, X. Chi, T. Siegrist, A. M. Sergent and A. P. Ramirez, Phys. Rev. Lett. 2004, 93, 076601.
14. P. Stallinga, H. L. Gomes, F. Biscarini, M. Murgia and D. M. de Leeuw, J. Appl. Phys. 2004, 96, 5277.
15. H. L. Gomes, P. Stallinga, F. Dinelli, M. Murgia, F. Biscarini, D. M. de Leeuw, T. Muck, J. Geurts, L. W. Molenkamp and V. Wagner, Appl. Phys. Lett. 2004, 84, 3184.
16. W. A. Schoonveld, J. B. Oostinga, J. Vrijmoeth and T. M. Klapwijk, Synth. Met. 1999, 101, 608.
17. R. Chesterfield, J. C. McKeen, C. R. Newman, C. D. Frisbie, P. C. Ewbank, K. R. Mann and L. L. Miller, J. Appl. Phys. 2004, 95, 6396.
18. M. Matters, D. M. de Leeuw, P. Herwig and A. R. Brown, Synth. Met. 1999, 102, 998.
19. A. Salleo, F. Endicott and R. A. Street, Appl. Phys. Lett. 2005, 86, 263505.
20. R. A. Street, A. Salleo and M. L. Chabinyc, Phys. Rev. B 2003, 68, 085316.
21. A. R. Brown, C. P. Jarrett, D. M. de Leeuw and M. Matters, Synth. Met. 1997, 88, 37.
22. A. Salleo and R. A. Street, Phys. Rev. B 2004, 70, 235324.
23. A. Salleo, M. L. Chabinyc, M. S. Yang and R. A. Street, Appl. Phys. Lett. 2002, 81, 4383.
24. S. Scheinert, T. Doll, A. Scherer, G. Paasch and I. Hoerselmann, Appl. Phys. Lett. 2004, 84, 4427.
25. M. C. Hamilton and J. Kanicki, IEEE J. Select. Topics Quantum Electron. 2004, 10, 840.
26. T. Tsukada, Active-Matrix Liquid-Crystal Displays in Technology and Applications of Amorphous Silicon, R. A. Street (Ed), Springer Verlag, Heidelberg, 2000.
27. W. E. Howard and O. F. Prache, IBM J. Res. Dev. 2001, 45, 1.
28. N. C. Greenham and R. H. Friend, Solid State Physics 1996, 49, 1.
29. R. D. Scurlock, B. Wang, P. R. Ogilby, J. R. Sheats and R. L. Clough, J. Am. Chem. Soc. 1995, 117, 10194.
30. H. Aziz and Z. D. Popovic, Chem. Mat. 2004, 16, 4522.
31. R. H. Friend, R. W. Gymer, A. B. Holmes, J. H. Burroughes, R. N. Marks, C. Taliani, D. D. C. Bradley, D. A. dosSantos, J. L. Bredas, M. Logdlund and W. R. Salaneck, Nature 1999, 397, 121.
32. B. Crone, A. Dodabalapur, A. Gelperin, L. Torsi, H. E. Katz, A. J. Lovinger, R. Sarpeshkar and Z. Bao, Appl. Phys. Lett. 2001, 78, 2229.
33. L. Torsi, A. J. Lovinger, B. Crone, T. Someya, A. Dodabalapur, H. E. Katz and A. Gelperin, J. Phys. Chem. B. 2002, 106, 12563.
34. K. J. Albert, N. S. Lewis, C. L. Schauer, G. A. Soltzing, S. E. Stitzel, T. P. Vaid and D. R. Walt, Chem. Rev. 2000, 100, 2595.
35. L. H. Sperling, Introduction to Physical Polymer Science, John Wiley & Sons, New York, 1992.
36. R. D. McCullough, Adv. Mater. 1998, 10, 93.
37. R. J. Kline, M. D. McGehee, E. N. Kadnikova, J. Liu and J. M. J. Fréchet, Adv. Mater. 2003, 15, 1519.
38. M. Jeffries-EL, G. Sauvé and R. D. McCullough, Adv. Mater. 2004, 16, 1017.
39. H. H. Wasserman and B. H. Lipshutz, Reactions of Singlet Oxygen with Heterocyclic Systems in Singlet Oxygen, H. H. Wasserman and R. W. Murray (Eds.), Academic Press, New York, 1979.
40. A. Kohler, J. S. Wilson and R. H. Friend, Adv. Mater. 2002, 14, 701.
41. M. S. A. Abdou and S. Holdcroft, Can. J. Chem. 1995, 73, 1893.
42. J. Ficker, H. vonSeggern, H. Rost, W. Fix, W. Clemens and I. McCulloch, Appl. Phys. Lett. 2004, 85, 1377.
43. J. L. Brédas, R. Silbey, D. S. Boudreaux and R. R. Chance, J. Am. Chem. Soc. 1983, 105, 6555.
44. D. M. de Leeuw, M. M. J. Simenon, A. R. Brown and R. E. F. Einerhand, Synth. Met. 1997, 87, 53.
45. K. J. Vetter, Electrochemical Kinetics, Academic Press, New York, 1967.
46. T. A. Skotheim, R. L. Elsenbaumer and J. R. Reynolds, Handbook of Conducting Polymers, Marcel Dekker, Inc., New York, 1998.
47. D. M. Taylor, H. L. Gomes, A. E. Underhill, S. Edge and P. I. Clemenson, J. Phys. D.: Appl. Phys. 1991, 24, 2032.
48. M. S. A. Abdou, F. P. Orfino, Y. Son and S. Holdcroft, J. Am. Chem. Soc. 1997, 119, 4518.
49. E. J. Meijer, A. V. G. Mangnus, B.-H. Huisman, G. W. t'Hooft, D. M. deLeeuw and T. M. Kapwijk, Synth. Met. 2004, 142, 53.
50. E. J. Meijer, C. Tanase, P. W. M. Blom, E. van Veenendaal, B. H. Huisman, D. M. de Leeuw and T. M. Klapwijk, Appl. Phys. Lett. 2002, 80, 3838.
51. M. Heeney, C. Bailey, K. Genevicius, M. Shkunov, D. Sparrowe, S. Tierney and I. McCulloch, J. Am. Chem. Soc. 2005, 127, 1078.
52. W. B. Jackson and N. M. Amer, Phys. Rev. B. 1982, 25, 5559.
53. J. Manca, L. Goris, E. Kesters, L. Lutsen, T. Martens, K. Haenen, M. Nesladek, O. Sanna, D. Vanderzande, J. D'Haen and L. DeSchepper, Mat. Res. Soc. Symp. Proc. 2003, 771, L12.3.1.
54. D. J. Brennan, Y. Chen, S. Feng, J. P. Godschalx, G. E. Spilman, P. H. Townsend, S. R. Kisting, M. G. Dibbs, J. M. Shaw, D. M. Welsh, J. L. Miklovich and D. Stutts, Mater. Res. Soc. Symp. Proc. 2004, 814, 319.
55. I. McCulloch, C. Bailey, M. Giles, M. Heeney, I. Love, M. Shkunov, D. Sparrowe and S. Tierney, Chem. Mater. 2005, 17, 1381.
56. R. A. Street, Hydrogenated amorphous silicon, Cambridge University Press, Cambridge, 1991.
57. S. Hoshino, M. Yoshida, S. Uemura, T. Kodzasa, N. Takada, T. Kamata and K. Yase, J. Appl. Phys. 2004, 95, 5088.
58. M. L. Chabinyc, F. Endicott, D. M. DeLongchamp, B. D. Vogt and E. K. Lin, manuscript in preparation.
59. L. Torsi, M. C. Tanese, N. Cioffi, M. C. Gallazzi, L. Sabbatini, P. G. Zambonin, G. Raos, S. V. Meille and M. M. Giangregorio, J. Phys. Chem. B. 2003, 107, 7589.
60. D. B. A. Rep, A. F. Morpurgo, W. G. Sloof and T. M. Kapwijk, J. Appl. Phys. 2003, 93, 2082.
61. G. H. Gelinck, H. E. A. Huitema, E. van Veenendaal, E. Cantatore, L. Schrijnemakers, J. B. P. H. van der Putten, T. C. T. Geuns, M. Beenhakkers, J. B. Giesbers, B.-H. Huisman, E. J. Meijer, E. M. Benito, F. J. Touwslager, A. W. Marsman, B. J. E. van Rens and D. M. de Leeuw, Nature Mat. 2004, 3, 106.
62. A. C. Arias and R. B. Apte, personal communication.