Development of EUV resists at Selete

Proceedings of SPIE - The International Society for Optical Engineering

Volumn 7273, Issue , 2009, Pages

  Oizumi, Hiroaki ^a   Kawamura, Daisuke ^a   Kaneyama, Koji ^a   Kobayashi, Shinji ^a   Itani, Toshiro ^a  

^a SEMICONDUCTOR LEADING EDGE TECHNOLOGIES INC   (Japan)

Author keywords

EUV lithography (EUVL); EUV resists; Line width roughness (LWR); Resolution; Sensitivity

Indexed keywords

EUV LITHOGRAPHY (EUVL); EUV RESISTS; LINE-WIDTH-ROUGHNESS (LWR); RESOLUTION; SENSITIVITY;

ELECTRON BEAM LITHOGRAPHY; RESINS; ROUGHNESS MEASUREMENT; STANDARDIZATION; ULTRAVIOLET DEVICES;

EXTREME ULTRAVIOLET LITHOGRAPHY;

EID: 65849530152     PISSN: 0277786X     EISSN: None     Source Type: Conference Proceeding    
DOI: 10.1117/12.812937     Document Type: Conference Paper

References (20)

1. I. Mori, O. Suga, H. Tanaka, I. Nishiyama, T. Terasawa, H. Shigemura, T. Taguchi, T. Tanaka and T. Itani: Proc. SPIE 6921 (2008) 692102.
2. H. Meiling, E. Boon, N. Buzing, K. Cummings, O. Frijns, J. Galloway, M. Goethals, N. Harned, B. Hultermans, R. de Jonge, B. Kessels, P. Kürz, S. Lok, M. Lowisch, J. Mailman, B. Pierson, K. Ronse, J. Ryan, E. SmittWeaver, M. Tittnich, C. Wagner, A. van Dijk, J. Zimmerman: Proc. SPIE 6921 (2008) 6921OL.
3. G. Lorusso, J. Hermans, A. Goethals, B. Baudemprez, F. Van Roey, A. Myers, I. Kim, B. Kim, R. Jonckheere, A. Niroomand, S. Lok, A. Van Dijk, J.-F. de Marneffe, S. Demuynck, D. Goossens, K. Ronse: Proc. SPIE 6921 (2008) 692100.
4. B. LaFontaine, Y. Deng, R. Kim, H. Levinson, S. McGowan, U. Okoroanyanwu, R. Seitmann, C. Tabery, A. Tchikoulaeva, T. Wallow, O. Wood, J. Arnold, D. Canaperi, M. Colburn, K. Kimmel, C. Koay, E. Mclellan, D. Medeiros, S. Rao, K. Perrillo, Y Yin, H. Mizuno, S. Bouten, M. Crouse, A. van Dijk, Y van Dommelen, J. Galloway, S. Han, B. Kessels, B. Lee, S. Lok, B. Niekrewicz, B. Pierson, R. Routh, E. SchmitWeaver, K. Cummings, J. Word: Proc. SPIE 6921 (2008) 69210P.
5. S. Wurm, presented at the 7th International EUV Symposium, Sep.28 - Oct.31, 2008, Lake Tahoe, CA.
6. P. Naulleau, K. A. Goldberg, E. H. Anderson. K. Bradley, R. Delano, P. Denham, B. Gunion, B. Harteneck, Brian Hoef; Hanjing Huang; Keith Jackson, G. Jones, D. Kemp, J. A. Liddle, R. Oort, A. Rawlins, S. Rekawa, F. Salmassi, R. Tackaberry, C. Chung, L. Hale, D. Phillion, G. Sommargren, J. Taylor: Proc. SPIE 5374 (2004) 881.
7. M. Booth; O. Brisco, A. Brunton, J. Cashmore, P Elbourn, G. Elliner, M. Gower, J. Greuters, P. Grunewald, R. Gutierrez, T. Hill, J. Hirsch, L. Kling, N. McEntee, S. Mundair, P. Richards, V Truffert, I. Wallhead, M. Whitfield, R. Hudyma: Proc. SPIE 5751 (2005) 78.
8. H. Oizumi, Y Tanaka, F. Kumasaka, I. Nishiyama, H. Kondo, M. Shiraishi, T. Oshino, K. Sugisaki and K. Murakami, Proc. SPIE 5751 (2005) 102.
9. S. Uzawa, H. Kubo, Y Miwa, T. Tsuji, and H. Morishima: Proc. SPIE 6517 (2007) 651708.
10. K. Tawarayama, S. Magoshi, Y Tanaka, S. Shirai, and H. Tanaka, Jpn. J. Appl. Phys. 47 (2008) 4866.
11. K. Tawarayama, S. Magoshi, H. Aoyama, Y Tanaka, S. Shirai, and H. Tanaka: Proc. SPIE 6921(2008) 69212V
12. Y Tanaka, H. Aoyama, K. Tawarayama, S. Magoshi, S. Shirai, and H. Tanaka: Proc. SPIE 6921 (2008) 6921ID.
13. D. Kawamura, K. Kaneyama, S. Kobayashi, J. J. Santillan, and T. Itani: Proc. SPIE 6923 (2008) 692313.
14. T. Itani, K. Kaneyama, T. Kozawa, and S. Tagawa: J. Vac. Sci. Technol. B26 (2008) 2261.
15. D. Kawamura, K. Kaneyama, S. Kobayashi, H. Oizumi and T. Itani: Proc. SPIE 7140 (2008) 714008.
16. T. Kozawa, Y Yoshida, M. Uesaka and S. Tagawa: Jpn. J. Appl. Phys. 31, 4301 (1992).
17. S. Tagawa, S. Nagahara, T. Iwamoto, M. Wakita, T. Kozawa, Y Yamamoto, D. Werst and A. D. Trifunac: Proc. SPIE 3999 (2000) 204.
18. T. Kozawa, S. Tagawa, H. Oizumi, and I. Nishiyama: J. Vac. Sci. Technol. B24 (2006) L27.
19. T. Kozawa, A. Saeki, and S. Tagawa: Appl. Phys. Express 1 (2008) 027001.
20. K. Kaneyama and T. Itani: to be submited to Jpn. J. Appl. Phys.