Slow charge relaxation in ionizable alkanethiols and its role in modulating electric characteristics of molecules and passivated gold nanoparticles

Journal of Physical Chemistry C

Volumn 113, Issue 9, 2009, Pages 3683-3690

  Xie, Xian Ning ^a   Sivaramakrishnan, Sankaran ^a   Song, Q ^a   Gao, Xingyu ^a   K H Ho, Peter ^a   Ong, C K ^a   Wee, Andrew Thye Shen ^a  

^a NATIONAL UNIVERSITY OF SINGAPORE   (Singapore)

Author keywords

[No Author keywords available]

Indexed keywords

ALKANE-THIOLS; ALKYL-THIOLS; BINARY SYSTEMS; CHARGE CONDUCTIONS; CHARGE RELAXATIONS; CHARGE TRANSPORTS; ELECTRIC BEHAVIORS; ELECTRIC CHARACTERISTICS; ELECTRIC CONDUCTIONS; GOLD NANOPARTICLES; GOLD NPS; IONIC MOTIONS; IONIC PROCESS; MEMORY EFFECTS; NEW APPLICATIONS; SENSOR DEVICES; TRANSIENT CURRENTS;

HYSTERESIS; IONIZATION; LIGANDS; MOLECULAR ELECTRONICS; NANOPARTICLES; PASSIVATION; SELF ASSEMBLED MONOLAYERS; SENSORS;

GOLD;

EID: 65249118244     PISSN: 19327447     EISSN: 19327455     Source Type: Journal    
DOI: 10.1021/jp810850e     Document Type: Article

References (49)

1. Ulman, A. Thin Films: Self-Assembled Monolayers of Thiols, Academic Press: San Diego, CA, 1998.
2. Nishi, N.; Hobara, D.; Yamamoto, M.; Kakiuchi, T. J. Chem. Phys. 2003, 118, 1904.
3. Loglio, F.; Schweizer, M.; Kolb, D. M. Langmuir 2003, 19, 830.
4. Poirier, G. E. Chem. Rev. 1997, 97, 1117.
5. Boldt, F. M.; Baltes, N.; Borgwarth, K.; Heinze, J. Surf. Sci. 2005, 597, 51.
6. York, R. L.; Slowinski, K. J. Electroanal. Chem. 2003, 327, 550-551.
7. Rampi, M. A.; Schueller, O. J. A.; Whitesides, G. M. Appl. Phys. Lett. 1998, 72, 1871.
8. Holmlin, R. E.; Haag, R.; Chabinyc, M. L.; Ismagilov, R. F.; Cohen, A. E.; Terfort, A.; Rampi, M. A.; Whitesides, G. M. J. Am. Chem. Soc. 2001, 123, 5075.
9. Slowinski, K.; Majda, M. J. Electroanal. Chem. 2000, 491, 139.
10. Fan, F. R. F.; Yang, J. P.; Cai, L. T.; Price, D. W.; Dirk, S. M.; Kosynkin, D. V.; Yao, Y. X.; Rawlett, A. M.; Tour, J. M.; Bard, A. J. J. Am. Chem. Soc. 2002, 124, 5550.
11. Wold, D. J.; Haag, R.; Rampi, M. A.; Frisbie, C. D. J. Phys. Chem. B 2002, 106, 2813.
12. Love, J. C.; Estroff, L. A.; Kriebel, J. K.; Nuzzo, R. G.; Whitesides, G. M. Chem. Rev. 2005, 105, 1103.
13. Chu, C. W.; Na, J. S.; Parsons, G. N. J. Am. Chem. Soc. 2005, 129, 2287.
14. Chabinyc, M. L.; Chen, X.; Holmlin, R. E.; Jacobs, H.; Skulason, H.; Frisbie, C. D.; Mujica, V.; Ratner, M. A.; Rampi, M. A.; Whitesides, G. M. J. Am. Chem. Soc. 2002, 124, 11730.
15. Aviram, A.; Ratner, M. A. Chem. Phys. Lett. 1974, 29, 277.
16. Wang, B.; Luo, J.; Wang, X.; Wang, H.; Hou, J. G. Langmuir 2004, 20, 5007.
17. Slowinski, K.; Hong, H. K. Y.; Majda, M. J. Am. Chem. Soc. 1999, 121, 7257.
18. Boubour, E.; Lennox, R. B. Langmuir 2000, 16, 4222.
19. Haick, H.; Ambrico, M.; Ghabboun, J.; Ligonzo, T.; Cahen, D. Phys. Chem. Chem. Phys. 2004, 6, 4538.
20. Haick, H.; Niitsoo, O.; Ghabboun, J.; Cahen, D. J. Phys. Chem. C 2007, 111, 2318.
21. Haick, H.; Ghabboun, J.; Cahen, D. Appl. Phys. Lett. 2005, 86, 042113.
22. Baletto, F.; Ferrando, R. Rev. Mod. Phys. 2005, 77, 371.
23. Link, S.; El-Sayed, M. Annu. Rev. Phys. Chem. 2003, 54, 331.
24. Daniel, M.-C.; Astruc, D. Chem. Rev. 2004, 104, 293.
25. Brust, M.; Walker, M.; Bethell, D.; Schiffrin, D.; Whyman, R. J. Chem. Soc., Chem. Commun. 1994, 801.
26. Chen, S.; Kimura, K. Langmuir 1999, 15, 1075.
27. Sivaramakrishnan, S.; Chia, P.-J.; Yeo, Y.-C.; Chua, L.-L.; Ho, P. K.-H. Nat. Mater. 2007, 6, 149.
28. Terrill, R. H.; Postlethwaite, T. A.; Chen, C.-H.; Poon, C.-D.; Terzis, A.; Chen, A.; Hutchison, J. E.; Clark, M. R.; Wignall, G.; Londono, J. D.; Superfine, R.; Falvo, M., Jr.; Samulski, E. T.; Murray, R. W. J. Am.Chem. Soc. 1995, 117, 12537.
29. Li, C.; Pobelov, I.; Wandlowski, T.; Bagrets, A.; Arnold, A.; Evers, F. J. Am. Chem. Soc. 2008, 130, 318.
30. Chaki, N. K.; Aslam, M.; Gopakumar, T. G.; Sharma, J.; Pasricha, R.; Mulla, I. S.; Vijayamohanan, K. J. Phys. Chem. B 2003, 107, 13567.
31. Chu, C. W.; Na, J. S.; Parsons, G. N. J. Am. Chem. Soc. 2007, 129, 2287.
32. Biancardo, M.; Quinn, A. J.; Floyd, L.; Mendes, P. M.; Briggs, S. S.; Preece, J. A.; Bignozzi, C. A.; Redmond, G. J. Phys. Chem. B 2005, 109, 8718.
33. Ouyang, J.; Chu, C.-W.; Szmanda, C. R.; Ma, L.; Yang, Y. Nat. Mater. 2004, 3, 918.
34. Ouyang, J.; Chu, C.-W.; Sieves, D.; Yang, Y. Appl. Phys. Lett. 2005, 86, 123507.
35. Kim, W.; Javey, A.; Vermesh, O.; Wang, Q.; Li, Y.; Dai, H. Nano Lett. 2003, 3, 193.
36. Fuhrer, M. S.; Kim, B. M.; Durkop, T.; Brintlinger, T. Nano Lett. 2002, 2, 755.
37. Bradley, K.; Cumings, J.; Star, A.; Gabriel, J.-C. P.; Gruner, G. Nano Lett. 2003, 3, 639.
38. Carot, M. L.; Macagno, V. A.; Paredes-Olivera, P.; Patrito, E. M. J. Phys. Chem. C 2007, 1118, 4294.
39. Calvente, J. J.; Lopez-Perez, G.; Ramirez, P.; Fernandez, H.; Zon, M. A.; Mulder, W. H.; Andreu, R. J. Am. Chem. Soc. 2005, 127, 6474.
40. Ramirez, P.; Andreu, R.; Cuesta, A.; Calzado, C. J.; Calvente, J. J. Anal. Chem. 2007, 79, 6473.
41. Gressus, C. L.; Blaise, G. IEEE Trans. Electr. Insul. 1992, 27, 472.
42. Wilk, G. D.; Wallace, R. M.; Anthony, J. M. J. Appl. Phys. 2001, 89, 5243.
43. Waser, R.; Lohse, O. Integr. Ferroelectr. 1998, 21, 27.
44. Fleming, R. M.; Lang, D. V.; Jonse, C. D., W.; Steigerwald, M. L.; Murphy, D. W.; Alers, G. B.; Wong, Y.-H.; van Dover, R. B.; Kwo, J. R.; Sergent, A. M. J. Appl. Phys. 2000, 88, 850.
45. Luo, W.; Kuo, Y.; Kuo, W. IEEE Trans. DeVice Mater. Reliab. 2004, 4, 488.
46. http://www.ac.wwu.edu/̃vawter/PhysicsNet/Topics/ACCircuit/Impedance. html.
47. Xie, X. N.; Deng, M.; Xu, H.; Yang, S. W.; Qi, D. C.; Gao, X. Y.; Chung, H. J.; Sow, C. H.; Tan, B. C.; Wee, A. T. S. J. Am. Chem. Soc. 2006, 128, 2738.
48. Xie, X. N.; Chung, H. J.; Sow, C. H.; Bettiol, A. A.; Wee, A. T. S. Adv. Mater. 2005, 17, 1386.
49. Xie, X. N.; Chung, H. J.; Xu, H.; Xu, X.; Sow, C. H.; Wee, A. T. S. J. Am. Chem. Soc. 2004, 126, 7665.