Probe-induced native oxide decomposition and localized oxidation on 6H-SiC (0001) surface: An atomic force microscopy investigation

Journal of the American Chemical Society

Volumn 126, Issue 24, 2004, Pages 7665-7675

  Xie, Xian Ning ^a   Chung, Hong Jing ^a   Xu, Hai ^a   Xu, Xin ^a   Sow, Chorng Haur ^a   Wee, Andrew Thye Shen ^a  

^a NATIONAL UNIVERSITY OF SINGAPORE   (Singapore)

Author keywords

[No Author keywords available]

Indexed keywords

ANISOTROPY; ATOMIC FORCE MICROSCOPY; CRYSTALS; DECOMPOSITION; DIFFUSION; HYDROGEN; OXIDATION;

EMISSION CURRENTS; NONPOLAR DIRECTIONS;

SILICON CARBIDE;

OXIDE; SILICON CARBIDE;

ANISOTROPY; ARTICLE; ATOMIC FORCE MICROSCOPY; CRYSTAL; DECOMPOSITION; DEGRADATION; DIELECTRIC CONSTANT; DIFFUSION; ELECTRON TRANSPORT; OXIDATION; STRESS; SURFACE PROPERTY;

EID: 2942718587     PISSN: 00027863     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.1021/ja049560e     Document Type: Article

References (52)

1. Neudeck, P. G. J. Electron Mater. 1995, 24, 283.
2. Shenoy, J. N.; Das, M. K.; Cooper, J. A., Jr.; Melloch, M. R. J. Appl. Phys. 1996, 79, 3042.
3. Xie, W.; Cooper, J. A., Jr.; Melloch, M. R. IEEE Trans. Electron Device Lett. 1994, 15, 455.
4. Chang, K. C.; Nuhfer, N. T.; Porter, L. M.; Wahab, Q. Appl. Phys. Lett. 2000, 77, 2186.
5. Yano, H.; Kimoto, T.; Matsunami, H. Appl. Phys. Lett. 2002, 81, 301.
6. Yano, H.; Hirao, T.; Kimoto, T.; Matsunami, H. Appl. Phys. Lett. 2001, 78, 374.
7. Friedrichs, P.; Burte, E. P.; Schörner, R. Appl. Phys. Lett. 1994, 65, 1665.
8. Alok, D.; McLarty, P. K.; Baliga, B. J. Appl. Phys. Lett. 1994, 65, 2177.
9. Piner, R. D.; Zhu, J.; Xu, F.; Hong, S.; Mirkin, C. A. Science 1999, 283, 661.
10. Hong, S.; Zhu, J.; Mirkin, C. A. Science 1999, 286, 523.
11. Ivanisevic, A.; Mirkin, C. A. J. Am. Chem. Soc. 2001, 123, 7887.
12. Agarwal, G.; Sowards, L. A.; Naik, R. R.; Stone, M. O. J. Am. Chem. Soc. 2003, 125, 580.
13. Gordon, A. E.; Fayfield, R. T.; Litfin, D. D.; Higman, T. K. J. Vac. Sci. Technol. B 1995, 13, 2805.
14. Snow, E. S.; Campbell, P. M. Appl. Phys. Lett. 1994, 64, 1932.
15. Legrand, B.; Stievenard, D. Appl. Phys. Lett. 1999, 74, 4049.
16. Ph. Avouris, Hertel, T.; Martel, R. Appl. Phys. Lett. 1997, 71, 285.
17. Snow, E. S.; Jernigan, G. G.; Campbell, P. M. Appl. Phys. Lett. 2000, 76, 1782.
18. Dtievenard, D.; Fontaine, P. A.; Dubois, E. Appl. Phys. Lett. 1997, 70, 3272.
19. Dagata, J. A.; Inoue, T.; Yokoyama, H. Appl. Phys. Lett. 1998, 73, 271.
20. Dagata, J. A.; Perez-Murano, F.; Abadal, G.; Morimoto, K.; Inoue, T.; Itoh, J.; Yokoyama, H. Appl. Phys. Lett. 2000, 76, 2710.
21. Wacaser, B. A.; Maughan, M. J.; Mowat, I. A.; Niederhauser, T. L.; Linford, M. R.; Davis, R. C. Appl. Phys. Lett. 2003, 82, 808.
22. Lee, H.; Kim, S. A.; Ahn, S. J.; Lee, H. Appl. Phys. Lett. 2002, 81, 138.
23. Ahn, S. J.; Jang, Y. K.; Lee, H.; Lee, H. Appl. Phys. Lett. 2002, 80, 2592.
24. Kim, D.-H.; Koo, J.-Y.; Kim, J.-J. Phys. Rev. B 2003, 68, 113406.
25. Olbrich, A.; Ebersberger, B.; Boit, C. Appl. Phys. Lett. 1998, 73, 3114.
26. Porti, M.; Nafría, M.; Aymerich, X. Appl. Phys. Lett. 1998, 73, 3114.
27. Blasco, X.; Nafría, M.; Aymerich, X. Surf. Sci. 2003, 532-535, 732.
28. F. Chien, S.-S.; Chou, Y. C.; Chen, T. T.; Hsieh, W.-F.; Chao, T.-S.; Gwo, S. J. Appl. Phys. 2001, 89, 2465.
29. Cooper, E. B.; Manalis, S. R.; Fang, H.; Dai, H.; Matsumoto, K.; Minne, S. C.; Hunt, T.; Quate, C. F. Appl. Phys. Lett. 1999, 75, 3566.
30. Sakurai, T.; Nishiyama, M.; Nishioka, Y.; Kobayashi, H. Appl. Phys. Lett. 2002, 81, 271.
31. Ishikawa, Y.; Matsumoto, Y.; Nishida, Y.; Taniguchi, S.; Watanabe, J. J. Am. Chem. Soc. 2003, 125, 6558.
32. Lide, D. R., Editor-in-Chief. CRC Handbook of Chemistry and Physics, 84th ed., 2003-2004, CRC Press: Boca Raton, FL, 2003.
33. Negoro, Y.; Miyamoto, N.; Kimoto, T.; Matsunami, H. Appl. Phys. Lett. 2002, 80, 240.
34. Klauser, R.; Hong, I.-H.; Su, H.-J.; Chen, T. T.; Gwo, S.; Wang, S.-C.; Chuang, T. J.; Gritsenko, V. A. Appl. Phys. Lett. 2001, 79, 3143.
35. Gwo, S.; Wu, C.-L.; F. Chien, S.-S.; Yasuda, T.; Yamasaki, S. Jpn. J. Appl. Phys. 2001, 40, 4368.
36. Buckzo, R.; Pennycook, S.; Pantelides, S. T. Phys. Rev. Lett. 2000, 84, 943.
37. Vickridge, I. C.; Trimaille, I.; Ganem, J.-J.; Rigo, S.; Radtke, C.; Baumvol, I. J.; Stedile, F. C. Phys. Rev. Lett. 2002, 89, 256102.
38. Cao, X. P.; Hamers, R. J. J. Am. Chem. Soc. 2001, 123, 10988.
39. Chen, W.; Loh, K. P.; Xu, H.; Wee, A. T. S. Appl. Phys. Lett. 2004, 84, 281.
40. Xie, X. N.; Wang, H. Q.; Wee, A. T. S.; Loh, K. P. Surf Sci. 2001, 478, 57.
41. O'Shea, S. J.; Atta, R. M.; Murrell, M. P.; Welland, M. E. J. Vac. Sci. Technol. B 1995, 13, 1945.
42. Yasue, T.; Koyama, H.; Kato, T. J. Vac. Sci. Technol. B 1997, 15, 614.
43. Liu, D.; Benstetter, G.; Frammelsberger, W. Appl. Phys. Lett. 2003, 82, 3898.
44. Ph. Avouris, Martel, R.; Hertel, T.; Sandstrom, R. Appl. Phys. A 1998, 66, S659.
45. Vaughan, W. E. Digest Lit. Dielectr. 1969, 33, 21-83.
46. Mott, N. F. Philos. Mag. B 1987, 55, 117.
47. Kim, H. J.; Shao, Q.; Kim, Y.-H. Surf Coat. Technol. 2003, 171, 39.
48. Tello, M.; Garcia, R. Appl. Phys. Lett. 2003, 83, 2339.
49. Fowler, R. H.; Nordheim, L. Proc. R. Soc. London, Ser. A 1928, 119, 173.
50. Kremmer, S.; Teichert, C.; Pischler, E.; Gold, H.; Kuchar, F.; Schatzmayr, M. Surf. Interface Anal. 2002, 33, 168.
51. Stathis, J. H. J. Appl. Phys. 1999, 86, 5757.
52. Dimaria, D. J.; Stathis, J. H. Appl. Phys. Lett. 1997, 71, 3230.