Atmospheric pressure PE-CVD of fluorocarbon thin films by means of glow dielectric barrier discharges

Plasma Processes and Polymers

Volumn 4, Issue 9, 2007, Pages 797-805

  Fanelli, Fiorenza ^a   d'Agostino, Riccardo ^a   Fracassi, Francesco ^a  

^a UNIVERSITY OF BARI   (Italy)

Author keywords

Atmospheric pressure glow discharges (APGD); Dielectric barrier discharges (DBD); Fluoropolymers; Plasma enhanced chemical vapor deposition (PE CVD)

Indexed keywords

ATMOSPHERIC PRESSURE; FLUORINE CONTAINING POLYMERS; FLUOROCARBONS; GAS MIXTURES; GLOW DISCHARGES; THIN FILMS;

ATMOSPHERIC PRESSURE GLOW DISCHARGES; DIELECTRIC BARRIER DISCHARGES; FLUOROCARBON FILMS;

PLASMA ENHANCED CHEMICAL VAPOR DEPOSITION;

EID: 36348994282     PISSN: 16128850     EISSN: 16128869     Source Type: Journal    
DOI: 10.1002/ppap.200700059     Document Type: Article

References (54)

1. R. d'Agostino, F. Cramarossa, F. Fracassi, F. Illuzzi, "Plasma Deposition, Treatment and Etching of Polymers", R. d'Agostino, Ed., Academic Press, New York 1990, p. 95.
2. R. d'Agostino, "Plasma Processing of Polymers" R. d'Agostino, P. Favia, F. Fracassi, Eds., NATO ASI Ser., Ser. E Appl. Sci. 346 ib, Kluwer Acad. Publ., Dordrecht 1997.
3. R. d'Agostino, F. Cramarossa, S. De Benedictis, G. Ferraro, J. Appl. Phys. 1981, 52, 1259.
4. R. d'Agostino, F. Cramarossa, F. Illuzzi, J. Appl. Phys. 1987, 61, 2754.
5. R. d'Agostino, F. Cramarossa, S. De Benedictis, Plasma Chem. Plasma Process. 1982, 2, 213.
6. P. Favia, V. H. Perez-Luna, T. Boland, D. G. Castner, B. D. Ratner, Plasma Polym. 1996, 1, 299.
7. H. Y. Kim, H. K. Yasuda, J. Vac. Sci. Technol. A 1997, 15, 1837.
8. M. D. Garrison, R. Luginbuhl, R. M. Overney, B. D. Ratner, Thin Solid Films 2000, 352, 13.
9. K. Takahashi, A. Itoh, T. Nakamurav, K. Tachibana, Thin Solid Films 2000, 374, 303.
10. D. Kiaei, A. S. Hoffman, B. D. Ratner, T. A. Horbett, J. Appl. Polym. Symp. 1988, 42, 269.
11. D. G. Castner, K. B. Lewis, D. A. Fisher, B. D. Ratner, J. L. Gland, Langmuir 1993, 9, 537.
12. N. M. Mackie, D. G. Castner, E. R. Fisher, Langmuir 1998, 14, 1227.
13. C. I. Butoi, N. M. Mackie, L. J. Gamble, D. G. Castner, Chem. Mater. 1999, 11, 862.
14. C. I. Butoi, N. M. Mackie, L. J. Gamble, D. G. Castner, J. Barnd, A. M. Miller, E. R. Fisher, Chem. Mater. 2000, 12, 2014.
15. N. M. Mackie, N. F. Dalleska, D. G. Castner, E. R. Fisher, Chem. Mater. 1997, 9, 349.
16. B. Cruden, K. Chu, K. K. Gleason, H. Sawin, J. Electrochem. Soc. 1999, 146, 4590.
17. P. Favia, G. Cicala, A. Milella, F. Palumbo, P. Rossini, R. d'Agostino, Surf. Coat. Technol. 2003, 169-170, 609.
18. G. Cicala, A. Milella, F. Palumbo, P. Favia, R. d'Agostino, Diamond Relat. Mater. 2003, 12, 2020.
19. A. Milella, F. Palumbo, P. Favia, G. Cicala, R. d'Agostino, Plasma Process. Polym. 2004, 1, 171.
20. R. Chen, V. Gorelik, M. S. Silverstein, J. Appl. Polym. Sci. 1995, 56, 615.
21. R. Chen, M. S. Silverstein, J. Appl. Polym. Sci. A. Polym. Chem. 1996, 34, 207.
22. M. S. Silverstein, R. Chen, O. Kesler, Polym. Eng. Sci. 1996, 36, 2542.
23. L. Sandrin, M. S. Silverstein, E. Sacher, Polymer 2001, 42, 3761.
24. T. Yokoyama, M. Kogoma, S. Kanazawa, T. Moriwaki, S. Okazaki, J. Phys. D: Appl. Phys. 1990, 23, 374.
25. M. Kogoma, R. Prat, T. Suwa, A. Takeda, S. Okazaki, T. Inomata, " Plasma Processing of Polymers", R. d'Agostino, P. Favia, F. Fracassi, Eds., NATO ASI Ser., Ser. E Appl. Sci. 346, Kluwer Acad. Publ., Dordrecht 1997.
26. M. Kogoma, "Plasma Polymer Films", H. Biederman, Ed., Imperial College Press, London, UK 2004.
27. Y. Sawada, M. Kogoma, Powder Technol. 1997, 90, 245.
28. Y. Babukutty, R. Prat, K. Endo, M. Kogoma, S. Okasaki, M. Kodama, Langmuir 1999, 15, 7055.
29. R. Prat, Y. J. Koh, Y. Babukutty, M. Kogoma, S. Okasaki, M. Kodama, Polymer 2000, 41, 7360.
30. K. Tanaka, M. Kogoma, Y. Ogawa, Thin Solid Films, 2006, 506-507, 159.
31. R. Thyen, A. Weber, C.-P. Klages, Surf. Coat Technol. 997, 97, 426.
32. I. P. Vinogradov, A. Dinkelmann, A. Lunk, Proc. 15th Int Symp. Plasma Chem., Orleans, France, 2001, p. 263.
33. I. P. Vinogradov, A. Dinkelmann, A. Lunk, Surf. Coat. Technol. 2003, 174-175, 509.
34. I. P. Vinogradov, A. Dinkelmann, A. Lunk, J. Phys. D: Appl. Phys. 2004, 37, 3000.
35. I. P. Vinogradov, A. Lunk, Plasma Process. Polym. 2005, 2, 201.
36. F. Fanelli, F. Fracassi, R. d'Agostino, Plasma Process. Polym. 2007, 4, S430.
37. F. Fanelli, F. Fracassi, R. d'Agostino, Plasma Process. Polym. 2005, 2, 688.
38. G. Beamson, D. Briggs, "High Resolution XPS of Organic Polymers", J. Wiley & Sons, Chichester, UK 1992.
39. F. Massines, G. Gouda, J. Phys. D: Appl. Phys. 1998, 31, 3411.
40. W. K. Fisher, J. C. Corelli, J. Polym. Sci. Polym Chem. Ed. 1981, 19, 2465.
41. L. Martinu, H. Biederman, J. Nedbal, Thin Solid Films 1986, 136, 11.
42. S. F. Durrant, E. C. Ranger, N. C. da Cruz, S. G. Castro, M. Bica de Moraes, Surf. Coat. Technol. 1996, 86-87, 443.
43. S. J. Limb, K. K. Gleason, D. J. Edell, E. F. Gleason, J. Vac. Sci. Technol. A. 1997, 15, 1814.
44. S. J. Limb, K. K. S. Lau, D. J. Edell, E. F. Gleason, K. K. Gleason, Plasmas Polym. 1999, 4, 21.
45. J. Seth, S. V. Babu, Thin Solid Films 1993, 230, 90.
46. M. A. Golub, T. Wydeven, L. S. Finney, Plasmas Polym. 1996, 1, 173.
47. H. Geigenback, D. Hinze, Phys. Stat Sol. A 1959, 81, 1045.
48. R. d'Agostino, F. Cramarossa, F. Fracassi, E. Desimoni, L. Sabbatini, P. G. Zambonin, G. Capriccio, Thin Solid Fims 1986, 143, 163.
49. N. Cioffi, I. Losito, L. Torsi, I. Farella, A. Valentini, L. Sabbatini, P. G. Zambonin, T. Bleve-Zacheo, Chem. Mater. 2002, 14, 804.
50. A. R. Striganov, N. S. Sventiskii, "Tables of Spectral Lines of Neutral and Ionized Atoms", IFI/Plenum, New York - Washington 1968.
51. R. W. B. Pearse, A. G. Gaydon, "The Identification of Molecular Spectra", 4th edition, Chapman and Hall, London 1976.
52. D. S. King, P. K. Schenck, J. C. Stephenson, J. Molec. Spectrosc. 1979, 78, 1.
53. J. Bretagne, F. Epaillard, A. Ricard, J. Polym. Sci. A: Polym. Chem. 1992, 30, 323.
54. P. Venkateswarlu, Phys. Rev. 1950, 77, 676.