Novel ALD process for depositing CaF2 thin films

Chemistry of Materials

Volumn 19, Issue 14, 2007, Pages 3387-3392

  Pilvi, Tero ^a   Arstila, Kai ^a,b   Leskelä, Markku ^a   Ritala, Mikko ^a  

^a UNIVERSITY OF HELSINKI   (Finland)

^b IMEC   (Belgium)

Author keywords

[No Author keywords available]

Indexed keywords

ATOMIC LAYER DEPOSITION; CALCIUM FLUORIDE; DIELECTRIC MATERIALS; OPTICAL FILTERS; REFRACTIVE INDEX; ULTRAVIOLET RADIATION; WAVELENGTH;

FLUORIDE PRECURSOR; METAL FLUORIDES; OPTICALLY TRANSPARENT; RECOIL DETECTION ANALYSIS;

THIN FILMS;

EID: 34547325103     PISSN: 08974756     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.1021/cm0629412     Document Type: Article

References (68)

1. Sokolov, N. S.; Suturin, S. M. Thin Solid Films 2000, 367, 112.
2. Maki, T.; Okamoto, K.; Sugiura, M.; Hosomi, T.; Kobayashi, T. Appl. Surf. Sci. 2002, 197-198, 448.
3. Engelhardt, J. B.; Dabringhaus, H.; Wandelt, K. Surf. Sci. 2000, 448, 187.
4. Ylilammi, M.; Ranta-aho, T. J. Electrochem. Soc. 1994, 141, 1278.
5. Tsai, R. Y.; Shiau, S. C.; Lin, D. D.; Ho, F. C.; Hua, M. Y. Appl. Opt. 1999, 38, 5452.
6. Rieger, D.; Himpsel, F. J.; Karlsson, U. O.; McFeely, F. R.; Morar, J. F.; Yarmoff, J. A. Phys. Rev. B 1986, 34, 7295.
7. Gribelyuk, M. A.; WiIk, G. D. Thin Solid Films 1999, 339, 51.
8. Wollschlager, J.; Deiter, C.; Bierkandt, M.; Gerdes, A.; Baumer, M.; Wang, C R.; Muller, B. H.; Hofmann, K. R. Surf. Sci. 2006, 600, 3637.
9. Kim, D. Y.; Ahn, B. J.; Moon, S. I.; Won, C Y.; Yi, J. Sol. Energy Mater. Sol. Cells 2002, 70, 415.
10. Kobayashi, K.; Sunohara, T.; Umada, M.; Yanagihara, H.; Kita, E.; Suemasu, T. Thin Solid Films 2006, 508, 78.
11. Mattoso, N.; Mosca, D. H.; Schreiner, W. H.; Lepienski, C. M.; Mazzaro, I.; Teixeira, S. R. Thin Solid Films 1998, 323, 178.
12. Mattoso, N.; Mosca, D. H.; Schreiner, W. H.; Mazzaro, I.; Teixeira, S. R. Thin Solid Films 1996, 272, 83.
13. Mosca, D. H.; Mattoso, N.; Kakuno, E. M.; Schreiner, W. H.; Mazzaro, I.; Teixeira, S. R. J. Magn. Magn. Mater. 1996, 756, 391.
14. Zarraga-Colina, J.; Nix, R. M.; Weiss, H. Surf. Sci. 2004, 563, L251.
15. Koike, K.; Komuro, T.; Ogata, K.; Sasa, S.; Inoue, M.; Yano, M. Physica E 2004, 21, 679.
16. Wu, Y.; Qi, J.; Lee, C H.; Hung, L. S.; Zhang, W. J.; Bello, I.; Lifshitz, Y.; Lee, S. T. Diamond Relat. Mater. 2003, 12, 1675.
17. Mattoso, N.; Mosca, D. H.; Mazzaro, I.; Teixeira, S. R.; Schreiner, W. H. J. Appl. Phys. 1995, 77, 2831.
18. Shusterman, Y. V.; Yakovlev, N. L.; Dovidenko, K.; Schowalter, L. J. Thin Solid Films 2003, 443, 23.
19. Pasquali, L.; Doyle, B. P.; Borgatti, F.; Giglia, A.; Mahne, N.; Pedio, M.; Nannarone, S.; Kaveev, A. K.; Balanev, A. S.; Krichevtsov, B. B. Surf. Sci. 2006, 600, 4170.
20. Yakovlev, N. L.; Banshchikov, A. G.; Moisseeva, M. M.; Sokolov, N. S.; Beeby, J. L.; Maksym, P. A. Surf. Interface Anal. 1999, 28, 264.
21. Calleja, F.; Hinarejos, J. J.; Vazquez de Parga, A. L.; Suturin, S. M.; Sokolov, N. S.; Miranda, R. Surf. Sci. 2005, 582, 14.
22. Lin, J. L.; Petrovykh, D. Y.; Kirakosian, A.; Rauscher, H.; Himpsel, F. J.; Dowben, P. A. Appl. Phys. Lett. 2001, 78, 829.
23. Fedtke, P.; Wienecke, M.; Bunescu, M. C.; Pietrzak, M.; Deistung, K.; Borchardt, E. Sens. Actuators B 2004, 100, 151.
24. Wang, C R.; Muller, B. H.; Hofmann, K. R. Thin Solid Films 2002, 470, 72.
25. Sata, N.; Eberman, K.; Ebert, K.; Maier, J. Nature 2000, 408, 946.
26. Daniluk, A.; Mazurek, P.; Paprocki, K.; Mikolajczak, P. Phys. Rev. B 1998, 57, 12443.
27. Sugiyama, M.; Oshima, M. Microelectron. J. 1996, 27, 361.
28. Huang, K. G.; Zegenhagen, J.; Phillips, J. M.; Patel, J. R. Physica B 1996, 227, 192.
29. Hessinger, U.; Leskovar, M.; Olmstead, M. A. Phys. Rev. Lett. 1995, 75, 2380.
30. Denlinger, J. D.; Rotenberg, E.; Hessinger, U.; Leskovar, M.; Olmstead, M. A. Phys. Rev. B 1995, 51, 5352.
31. Lucas, C A.; Loretto, D.; Wong, G. C. L. Phys. Rev. B 1994, 50, 14340.
32. Aleksandrov, V. V.; Potapova, J. B.; Diakonov, A. M.; Yakovlev, N. L. Thin Solid Films 1994, 237, 25.
33. Lucas, C. A.; Wong, G. C. L.; Loretto, D. Phys. Rev. Lett. 1993, 70, 1826.
34. Lucas, C. Á.; Loretto, D. Appl. Phys. Lett. 1992, 60, 2071.
35. Fathauer, R. W.; Schowalte, L. J. Appl. Phys. Lett. 1984, 45, 519.
36. Lee, C. H.; Qi, J.; Lee, S. T.; Hung, L. S. Diamond Relat. Mater. 2003, 72, 1335.
37. Klust, A.; Bierkandt, M.; Wollschläger, J.; Müller, B.; Schmidt, T.; Falta, J. Phys. Rev. B 2002, 65, 193404.
38. Wollschlager, J.; Hildebrandt, T.; Kayser, R.; Viernow, J.; Klust, A.; Batjer, J.; Hille, A.; Schmidt, T.; Falta, J. Appl. Surf. Sci. 2000, 162-163, 309.
39. Klust, A.; Kayser, R.; Wollschläger, J. Phys. Rev. B 2000, 62, 2158.
40. Kruschwitz, J. D. T.; Pawlewicz, W. T. Appl. Opt. 1997, 36, 2157.
41. Ko, J. K.; Kim, D. Y.; Park, J. H.; Choi, S. W.; Park, S. H.; Yi, J. Thin Solid Films 2003, 427, 259.
42. Ahn, B. J.; Kim, D. Y.; Yoo, J. S.; Yi, J. Proc. 28th IEEE Photovolt. Spec. Conf. 2000, 841.
43. Kaiser, U.; Kaiser, N. Thin Solid Films 1994, 237, 250.
44. Kaiser, U.; Kaiser, N.; Weisbrodt, P.; Mademann, U.; Hacker, E.; Muller, H. Thin Solid Films 1992, 217, 7.
45. Hopkins, R. H.; Hoffman, R. A.; Kramer, W. E. Appl. Opt. 1975, 14, 2631.
46. Cook, J. G.; Yousefi, G. H.; Das, S. R.; Mitchell, D. F. Thin Solid Films 1992, 217, 87.
47. Purdy, A. P.; Berry, A. D.; Holm, R. T.; Fatemi, M.; Gaskill, D. K. Inorg. Chem. 1989, 28, 2799.
48. Singh, R.; Sinha, S.; Chou, P.; Hsu, N. J.; Radpour, F.; Ullal, H. S.; Nelson, A. J. J. Appl. Phys. 1989, 66, 6179.
49. Gardiner, R.; Brown, D. W.; Kirlin, P. S.; Rheingold, A. L. Chem. Mater. 1991, 3, 1053.
50. Lingg, L. J.; Berry, A. D.; Purdy, A. P.; Ewing, K. J. Thin Solid Films 1992, 209, 9.
51. Sato, H.; Sugawara, S. Jpn. J. Appl. Phys. 1993, 32, L799.
52. Sato, H.; Sugawara, S. Inorg. Chem. 1993, 32, 1941.
53. Samuels, J. A.; Chiang, W. C.; Yu, C. P.; Apen, E.; Smith, D.; Baxter, D. V.; Caulton, K. G. Chem. Mater. 1994, 6, 1684.
54. Kawamoto, Y.; Kanno, R.; Konisher, A. J. Mater. Sci. 1998, V33, 5607.
55. Shojiya, M.; Kawamoto, Y.; Konishi, A.; Wakabayashi, H. Thin Solid Films 2000, 358, 99.
56. Shojiya, M.; Takahashi, S.; Teramoto, M.; Konishi, A.; Kawamoto, Y. J. Non-Cryst. Solids 2001, 284, 153.
57. Takahashi, S.; Shojiya, M.; Kawamoto, Y.; Konishi, A. Thin Solid Films 2003, 429, 28.
58. Fujiura, K.; Ohishi, Y.; Takahashi, S. Jpn. J. Appl. Phys. 1989, 28, L147.
59. Fujiura, K.; Nishida, Y.; Kobayashi, K.; Takahashi, S. Jpn. J. Appl. Phys. 1991, 30, L1498.
60. Fujiura, K.; Nishida, Y.; Kobayashi, K.; Takahashi, S. Jpn. J. Appl. Phys. 1991, 30, L2113.
61. Leskelä, M.; Ritala, M. Angew. Chem., Int. Ed. Engl. 2003, 42, 5548.
62. Ritala, M.; Leskelä, M. In Handbook of Thin Film Materials; Nalwa, H. S., Ed.; Academic Press: San Diego, 2002; p 103.
63. Pore, V.; Ritala, M.; Leskelä, M. Poster session in Baltic Conference on Atomic Layer Deposition 2006, Oslo, Norway; P12.
64. Tammenmaa, M.; Antson, H.; Asplund, M.; Hiltunen, L.; Leskelä, M.; Ristolainen, E. J. Cryst. Growth 1987, 84, 151.
65. Nilsen, O.; Fjellvag, H.; Kjekshus, A. Thin Solid Films 2004, 450, 240.
66. Ylilammi, M.; Ranta-aho, T. Thin Solid Films 1993, 232, 56.
67. Putkonen, M.; Sajavaara, T.; Niinistö, L.; Keinonen, J. Anal. Bioanal. Chem. 2005, 382, 1791.
68. Physical Constants of Organic Compounds. In CRC Handbook of Chemistry and Physics, Internet Version 2007, 87th ed.; Lide, D. R., Ed.; Taylor and Francis: Boca Raton, FL, 2007.