Effects of electron irradiation on the structure and morphology of CaF2/Si(111)

Applied Surface Science

Volumn 162, Issue , 2000, Pages 309-318

  Wollschlager J ^a   Hildebrandt, T ^a   Kayser, R ^a   Viernow, J ^a   Klust, A ^a   Batjer J ^b   Hille, A ^b   Schmidt, T ^b   Falta, J ^b  

^a LEIBNIZ UNIVERSITY HANNOVER   (Germany)

^b DESY   (Germany)

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ATOMIC FORCE MICROSCOPY; CALCIUM COMPOUNDS; COLLOIDS; COLOR CENTERS; CRYSTAL ORIENTATION; ELECTRON IRRADIATION; EPITAXIAL GROWTH; MONOLAYERS; MORPHOLOGY; SILICON; SURFACE STRUCTURE; X RAY ANALYSIS;

ELECTRON BOMBARDMENT; ELECTRON-STIMULATED DESORPTION (ESD); X RAY STANDING WAVES (XSW);

INTERFACES (MATERIALS);

EID: 0038484569     PISSN: 01694332     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.1016/S0169-4332(00)00209-9     Document Type: Article

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