SCOPUS 정보 검색 플랫폼

Volumn 16, Issue 39, 2006, Pages 3854-3860

Liquid injection ALD and MOCVD of lanthanum aluminate using a bimetallic alkoxide precursor

(10) Gaskell, Jeffrey M a Jones, Anthony C a,b Aspinall, Helen C a Przybylak, Szymon a Chalker, Paul R a Black, Kate a Davies, Hywel O b Taechakumput, Pouvanart a Taylor, Stephen a Critchlow, Gary W c

a UNIVERSITY OF LIVERPOOL (United Kingdom)

b Epichem Ltd (United Kingdom)

c LOUGHBOROUGH UNIVERSITY (United Kingdom)

Author keywords

[No Author keywords available]

Indexed keywords

AUGER ELECTRON SPECTROSCOPY; LEAKAGE CURRENTS; METALLIC COMPOUNDS; METALLORGANIC CHEMICAL VAPOR DEPOSITION; THIN FILMS; X RAY DIFFRACTION ANALYSIS;

BIMETALLIC ALKOXIDE; GROWTH RATE; LIQUID INJECTION;

LANTHANUM COMPOUNDS;

EID: 33749345715 PISSN: 09599428 EISSN: 13645501 Source Type: Journal
DOI: 10.1039/b609129f Document Type: Article

Times cited : (27)

References (34)

1
- 2342479853
- G. Vellianitis G. Apostolopoulos G. Mavrou K. Argyropoulos A. Dimoulas J. C. Hooker T. Conard M. Butcher Mater. Sci. Eng., B 2004 109 85
- (2004) Mater. Sci. Eng., B , vol.109 , pp. 85
- Vellianitis, G.¹ Apostolopoulos, G.² Mavrou, G.³ Argyropoulos, K.⁴ Dimoulas, A.⁵ Hooker, J.C.⁶ Conard, T.⁷ Butcher, M.⁸

2
- 36149033081
- E. Sader H. Schmidt K. Hradil W. Wersing Supercond. Sci. Technol. 1991 4 371
- (1991) Supercond. Sci. Technol. , vol.4 , pp. 371
- Sader, E.¹ Schmidt, H.² Hradil, K.³ Wersing, W.⁴

3
- 0000031769
- S. S. Shoup M. Paranthaman D. B. Beach E. D. Specht R. K. Williams J. Mater. Res. 1997 12 1017
- (1997) J. Mater. Res. , vol.12 , pp. 1017
- Shoup, S.S.¹ Paranthaman, M.² Beach, D.B.³ Specht, E.D.⁴ Williams, R.K.⁵

4
- 0035891960
- D. J. Won C. H. Wang D. J. Choi Jpn. J. Appl. Phys., Part 2 2001 40 1235
- (2001) Jpn. J. Appl. Phys., Part 2 , vol.40 , pp. 1235
- Won, D.J.¹ Wang, C.H.² Choi, D.J.³

5
- 0031147161
- M. F. Ng M. J. Cima J. Mater. Res. 1997 12 1306
- (1997) J. Mater. Res. , vol.12 , pp. 1306
- Ng, M.F.¹ Cima, M.J.²

6
- 0032139641
- C. M. Carlson J. C. Price P. A. Parilla D. S. Ginley D. Niles R. D. Blaugher A. Goyal M. Paranthaman D. M. Kroeger D. K. Christen Physica C 1998 304 82
- (1998) Physica C , vol.304 , pp. 82
- Carlson, C.M.¹ Price, J.C.² Parilla, P.A.³ Ginley, D.S.⁴ Niles, D.⁵ Blaugher, R.D.⁶ Goyal, A.⁷ Paranthaman, M.⁸ Kroeger, D.M.⁹ Christen, D.K.¹⁰

7
- 0000542092
- A. A. Molodyk I. E. Korsakov M. A. Novojilov I. E. Graboy A. R. Kaul G. Wahl Chem. Vap. Deposition 2000 6 133
- (2000) Chem. Vap. Deposition , vol.6 , pp. 133
- Molodyk, A.A.¹ Korsakov, I.E.² Novojilov, M.A.³ Graboy, I.E.⁴ Kaul, A.R.⁵ Wahl, G.⁶

8
- 0000543069
- G. Malandrino I. L. Fragala P. Scardi Chem. Mater. 1998 10 3765
- (1998) Chem. Mater. , vol.10 , pp. 3765
- Malandrino, G.¹ Fragala, I.L.² Scardi, P.³

9
- 0035872897
- G. D. Wilk R. M. Wallace J. M. Anthony J. Appl. Phys. 2001 89 5243
- (2001) J. Appl. Phys. , vol.89 , pp. 5243
- Wilk, G.D.¹ Wallace, R.M.² Anthony, J.M.³

10
- 0035897237
- M. Nieminen M. Putkonen L. Niinisto Appl. Surf. Sci. 2001 174 155
- (2001) Appl. Surf. Sci. , vol.174 , pp. 155
- Nieminen, M.¹ Putkonen, M.² Niinisto, L.³

11
- 0242582877
- T. Gougousi D. Niu R. W. Ashcraft G. N. Parsons Appl. Phys. Lett. 2003 83 3543
- (2003) Appl. Phys. Lett. , vol.83 , pp. 3543
- Gougousi, T.¹ Niu, D.² Ashcraft, R.W.³ Parsons, G.N.⁴

12
- 2942672871
- J. B. Cheng A. D. Li Q. Y. Shao H. Q. Ling D. Wu Y. Wang Y. J. Bao M. Wang Z. G. Liu N. B. Ming Appl. Surf. Sci. 2004 233 91
- (2004) Appl. Surf. Sci. , vol.233 , pp. 91
- Cheng, J.B.¹ Li, A.D.² Shao, Q.Y.³ Ling, H.Q.⁴ Wu, D.⁵ Wang, Y.⁶ Bao, Y.J.⁷ Wang, M.⁸ Liu, Z.G.⁹ Ming, N.B.¹⁰

13
- 0040374471
- B. E. Park H. Ishiwara Appl. Phys. Lett. 2001 79 806
- (2001) Appl. Phys. Lett. , vol.79 , pp. 806
- Park, B.E.¹ Ishiwara, H.²

14
- 0035477585
- J. P. Maria D. Wicaksana A. I. Kingon B. Busch H. Schulte E. Garfunkel T. Gustafsson J. Appl. Phys. 2001 90 3476
- (2001) J. Appl. Phys. , vol.90 , pp. 3476
- Maria, J.P.¹ Wicaksana, D.² Kingon, A.I.³ Busch, B.⁴ Schulte, H.⁵ Garfunkel, E.⁶ Gustafsson, T.⁷

15
- 3042541331
- L. F. Edge D. G. Schlom R. T. Brewer Y. J. Chabal J. R. Williams S. A. Chambers C. Hinkle G. Lucovsky Y. Yang S. Stemmer M. Copel B. Hollander J. Schubert Appl. Phys. Lett. 2004 84 4629
- (2004) Appl. Phys. Lett. , vol.84 , pp. 4629
- Edge, L.F.¹ Schlom, D.G.² Brewer, R.T.³ Chabal, Y.J.⁴ Williams, J.R.⁵ Chambers, S.A.⁶ Hinkle, C.⁷ Lucovsky, G.⁸ Yang, Y.⁹ Stemmer, S.¹⁰ Copel, M.¹¹ Hollander, B.¹² Schubert, J.¹³

16
- 0042267252
- X. B. Lu Z. G. Liu Y. P. Wang Y. Yang X. P. Wang H. W. Zhou B. Y. Nguyen J. Appl. Phys. 2003 94 1229
- (2003) J. Appl. Phys. , vol.94 , pp. 1229
- Lu, X.B.¹ Liu, Z.G.² Wang, Y.P.³ Yang, Y.⁴ Wang, X.P.⁵ Zhou, H.W.⁶ Nguyen, B.Y.⁷

17
- 0028485718
- V. Sandu J. Jaklovszky D. Miu D. Dragulinescu C. Grigoriu M. C. Bunescu J. Mater. Sci. Lett. 1994 13 1222
- (1994) J. Mater. Sci. Lett. , vol.13 , pp. 1222
- Sandu, V.¹ Jaklovszky, J.² Miu, D.³ Dragulinescu, D.⁴ Grigoriu, C.⁵ Bunescu, M.C.⁶

18
- 0003898288
- A. E. Lee C. E. Platt J. F. Burch R. W. Simon J. P. Goral M. M. Aljassim Appl. Phys. Lett. 1990 57 2019
- (1990) Appl. Phys. Lett. , vol.57 , pp. 2019
- Lee, A.E.¹ Platt, C.E.² Burch, J.F.³ Simon, R.W.⁴ Goral, J.P.⁵ Aljassim, M.M.⁶

19
- 0028400151
- P. Peshev V. Slavova Mater. Res. Bull. 1994 29 255
- (1994) Mater. Res. Bull. , vol.29 , pp. 255
- Peshev, P.¹ Slavova, V.²

20
- 0028547537
- H. Ichinose H. Katsuki M. Nagano J. Cryst. Growth 1994 144 59
- (1994) J. Cryst. Growth , vol.144 , pp. 59
- Ichinose, H.¹ Katsuki, H.² Nagano, M.³

21
- 0028530029
- H. Ichinose Y. Shiwa M. Nagano Jpn. J. Appl. Phys., Part 2 1994 33 5907
- (1994) Jpn. J. Appl. Phys., Part 2 , vol.33 , pp. 5907
- Ichinose, H.¹ Shiwa, Y.² Nagano, M.³

22
- 0031274848
- M. V. Cabanas C. V. Ragel F. Conde J. M. Gonzalez-Calbet M. Vallet-Regi Solid State Ionics 1997 101 191
- (1997) Solid State Ionics , vol.101 , pp. 191
- Cabanas, M.V.¹ Ragel, C.V.² Conde, F.³ Gonzalez-Calbet, J.M.⁴ Vallet-Regi, M.⁵

23
- 0000292184
- G. Malandrino A. Frassica I. L. Fragala Chem. Vap. Deposition 1997 3 306
- (1997) Chem. Vap. Deposition , vol.3 , pp. 306
- Malandrino, G.¹ Frassica, A.² Fragala, I.L.³

24
- 24944575155
- T. D. Manning Y. F. Loo A. C. Jones H. C. Aspinall P. R. Chalker J. F. Bickley L. M. Smith G. W. Critchlow J. Mater. Chem. 2005 15 3384
- (2005) J. Mater. Chem. , vol.15 , pp. 3384
- Manning, T.D.¹ Loo, Y.F.² Jones, A.C.³ Aspinall, H.C.⁴ Chalker, P.R.⁵ Bickley, J.F.⁶ Smith, L.M.⁷ Critchlow, G.W.⁸

25
- 0034843809
- M. Nieminen T. Sajavaara E. Rauhala M. Putkonen L. Niinisto J. Mater. Chem. 2001 11 2340
- (2001) J. Mater. Chem. , vol.11 , pp. 2340
- Nieminen, M.¹ Sajavaara, T.² Rauhala, E.³ Putkonen, M.⁴ Niinisto, L.⁵

26
- 2942535005
- B. S. Lim A. Rahtu P. de Rouffignac R. G. Gordon Appl. Phys. Lett. 2004 84 3957
- (2004) Appl. Phys. Lett. , vol.84 , pp. 3957
- Lim, B.S.¹ Rahtu, A.² De Rouffignac, P.³ Gordon, R.G.⁴

27
- 33645574909
- K. Kukli M. Ritala V. Pore M. Leskela T. Sajavaara R. I. Hegde D. C. Gilmer P. J. Tobin A. C. Jones H. C. Aspinall Chem. Vap. Deposition 2006 12 158
- (2006) Chem. Vap. Deposition , vol.12 , pp. 158
- Kukli, K.¹ Ritala, M.² Pore, V.³ Leskela, M.⁴ Sajavaara, T.⁵ Hegde, R.I.⁶ Gilmer, D.C.⁷ Tobin, P.J.⁸ Jones, A.C.⁹ Aspinall, H.C.¹⁰

28
- 29044435964
- D. H. Triyoso R. I. Hegde J. M. Grant J. K. Schaeffer D. Roan B. E. White P. J. Tobin J. Vac. Sci. Technol., B 2005 23 288
- (2005) J. Vac. Sci. Technol., B , vol.23 , pp. 288
- Triyoso, D.H.¹ Hegde, R.I.² Grant, J.M.³ Schaeffer, J.K.⁴ Roan, D.⁵ White, B.E.⁶ Tobin, P.J.⁷

29
- 0036189583
- S. Mathur M. Veith H. Shen S. Hufner M. H. Jilavi Chem. Mater. 2002 14 568
- (2002) Chem. Mater. , vol.14 , pp. 568
- Mathur, S.¹ Veith, M.² Shen, H.³ Hufner, S.⁴ Jilavi, M.H.⁵

30
- 9144230851
- S. Mathur H. Shen R. Rapalaviciute A. Kareiva N. Donia J. Mater. Chem. 2004 14 3259
- (2004) J. Mater. Chem. , vol.14 , pp. 3259
- Mathur, S.¹ Shen, H.² Rapalaviciute, R.³ Kareiva, A.⁴ Donia, N.⁵

31
- 0032673573
- P. Bailey T. C. Q. Noakes D. P. Woodruff Surf. Sci. 1999 426 358
- (1999) Surf. Sci. , vol.426 , pp. 358
- Bailey, P.¹ Noakes, T.C.Q.² Woodruff, D.P.³

32
- 21244473070
- R. J. Potter P. R. Chalker T. D. Manning H. C. Aspinall Y. F. Loo A. C. Jones L. M. Smith G. W. Critchlow M. Schumacher Chem. Vap. Deposition 2005 11 159
- (2005) Chem. Vap. Deposition , vol.11 , pp. 159
- Potter, R.J.¹ Chalker, P.R.² Manning, T.D.³ Aspinall, H.C.⁴ Loo, Y.F.⁵ Jones, A.C.⁶ Smith, L.M.⁷ Critchlow, G.W.⁸ Schumacher, M.⁹

33
- 0004028474
- H. S. Nalwa, Academic Press, San Diego
- M. Leskelä and M. Ritala, in Handbook of Thin Film Materials, vol. 1, ed., H. S. Nalwa, Academic Press, San Diego, 2001
- (2001) Handbook of Thin Film Materials, Vol. 1, Ed.
- Leskelä, M.¹ Ritala In, M.²

34
- 0002376288
- M. J. Crosbie P. J. Wright H. O. Davies A. C. Jones T. J. Leedham P. O'Brien G. W. Critchlow Chem. Vap. Deposition 1999 5 9
- (1999) Chem. Vap. Deposition , vol.5 , pp. 9
- Crosbie, M.J.¹ Wright, P.J.² Davies, H.O.³ Jones, A.C.⁴ Leedham, T.J.⁵ O'Brien, P.⁶ Critchlow, G.W.⁷

* 이 정보는 Elsevier사의 SCOPUS DB에서 KISTI가 분석하여 추출한 것입니다.