Ultrathin fullerene films as high-resolution molecular resists for low-voltage electron-beam lithography

Small

Volumn 2, Issue 8-9, 2006, Pages 1003-1006

  Gibbons, Francis P ^a   Robinson, Alex P G ^a   Palmer, Richard E ^a   Manickam, Mayanditheuar ^a   Preece, Jon A ^a  

^a UNIVERSITY OF BIRMINGHAM   (United Kingdom)

Author keywords

Electron beams; Fullerenes; Lithography; Resists; Thin films

Indexed keywords

ARRAYS; ELECTRON BEAM LITHOGRAPHY; ELECTRON BEAMS; ELECTRONICS INDUSTRY; FULLERENES; MOLECULAR PHYSICS;

BEAM SPLITTING; RESISTS; SEMICONDUCTOR INDUSTRY; ULTRATHIN FULLERENE FILMS;

ULTRATHIN FILMS;

FULLERENE DERIVATIVE;

ARTICLE; ELECTRONICS;

ELECTRONICS; FULLERENES;

EID: 33747155307     PISSN: 16136810     EISSN: 16136829     Source Type: Journal    
DOI: 10.1002/smll.200500443     Document Type: Article

References (25)

1. H.W. Kroto, J. R. Heath, S. C. O'Brien, R. F. Curl, R.E. Smalley, Nature 1985, 318, 162.
2. a) W. Krätschmer, L. D. Lamb, K. Fostiropoulos, D. R. Huffman, Nature 1990, 347, 354;
3. b) R. C. Haddon, A. F. Hebard, M. J. Ros-seinsky, D. W. Murphy, S. J. Duclos, K. B. Lyons, B. Miller, J. M. Rosamilia, R. M. Fleming, A. R. Kortan, S. H. Glarum, A. V. Makhija, Nature 1991, 350, 320;
4. Y. Wang, Nature 1992, 356, 585.
5. a) A. Al-Mohamad, A.W. Allaf, Synth. Met. 1999, 104, 39;
6. b) C. J. Brabec, C. Winder, N. S. Sariciftci, J. C. Hummelen, A. Dhanabalan, P. A. van Hal, R. A. J. Janssen, Adv. Funct. Mater. 2002, 12, 709;
7. T. D. Anthopoulos, D. M. de Leeuw, E. Cantatore, S. Setayesh, E. J. Meijer, C. Tanase, J. C. Hummelen, P.W. M. Blom, Appl. Phys. Lett. 2004, 85, 4205.
8. a) T. H. P. Chang, D. P. Kern, L. P. Murray, J. Vac. Sci. Technol. B 1992, 10, 2743;
9. b) T. H. P. Chang, M. G. R. Thomson, M. L. Yu, E. Kratschmer, H. S. Kim, K.Y. Lee, S.A. Rishton, S. Zolgharnain, Microelectron. Eng. 1996, 32, 113.
10. B. J. Kampherbeek, M. J. Wieland, A. van Zuuk, P. Kruit, Microelectron. Eng. 2000, 53, 279.
11. a) R. Saini, D. Tuggle, Z. Jandric, K. Tsui, T. Udeshi, J. Vac. Sci. Technol. 8 2004, 22, 3168;
12. b) H. Kim, C. Han, J. Kim, H. Kim, K Chun, J. Vac. Sci. Technol. B 2004, 22, 2912;
13. R. Saini, D. Tuggle, Z. Jandric, K. Tsui, T. Udeshi, Microelectron. Eng. 2005, 78-79, 62.
14. T. Tada, T. Kanayama, Jpn. J. Appl. Phys. 1996, 35, L63.
15. a) A. P. G. Robinson, R. E. Palmer, T. Tada, T. Kanayama, J. A. Preece, Appl. Phys. Lett. 1998, 72, 1302;
16. b) A. P. G. Robinson, R. E. Palmer, T. Tada, T. Kanayama, J. A. Preece, D. Philp, E. J. Shelley, Chem. Phys. Lett. 1999, 312, 469;
17. A. P. G. Robinson, R. E. Palmer, T. Tada, T. Kanayama, E. J. Shelley, J.A. Preece, MRS Symposium Proceedings, Vol. 546, MRS, Boston, 1999, p. 219.
18. A. P. G. Robinson, R. E. Palmer, T. Tada, T. Kanayama, J.A. Preece, D. Philp, U. Jonas, F. Deiderich, Chem. Phys. Lett. 1998, 289, 586.
19. A. P. G. Robinson, H. M. Zaid, M. Manickam, J. A. Preece, R. E. Palmer, unpublished.
20. S. Manako, J.-I. Fujita, Y. Ochiai, E. Nomura. S Matsui, Jpn. J. Appl. Phys. 1997, 36, 7773.
21. P.A. Peterson, Z. J. Radzimski, S.A. Schwalm, P.E. Russell, J. Vac. Sci. Technol. B 1992. 10, 3088
22. M. A. McCord, T. H. Newman, J. Vac. Sci. Technol. B 1992, 10, 3083.
23. A. P. G. Robinson, R. E. Palmer, T. Tada, T. Kanayama, M. T. Allen, J. A. Preece, K. D. M. Harris, J. Phys. D Appl. Phys. Rapid Commun. 1999, 32, L75.
24. A. P. G. Robinson, R. E. Palmer, T. Tada, T. Kanayama, M. T. Allen, J. A. Preece, K. D. M. Harris, J. Vac. Sci. Technol. B 2000, 18, 2730.
25. M. A. McCord, M.J. Rooks, Handbook of Microlithography, Micromachining and Microfabrication, Vol.1 (Ed.: P. Rai-Choudhury). IEE, London, 1997, p. 211.