Effect of thermal annealing on emission characteristics of nanoelectron source fabricated using beam-assisted process

Journal of Vacuum Science and Technology B: Microelectronics and Nanometer Structures

Volumn 23, Issue 2, 2005, Pages 759-761

  Murakami, K ^a   Yamasaki, N ^a   Abo, S ^a   Wakaya, F ^a   Takai, M ^a  

^a OSAKA UNIVERSITY   (Japan)

Author keywords

[No Author keywords available]

Indexed keywords

ANNEALING; CATHODES; IMPURITIES; NANOTECHNOLOGY;

FIELD EMITTERS; SINGLE FIELD EMITTERS;

ELECTRON SOURCES;

EID: 31144467804     PISSN: 10711023     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.1116/1.1884117     Document Type: Conference Paper

References (14)

1. K. Murakami, W. Jarupoonphol, K. Sakata, and M. Takai, Jpn. J. Appl. Phys., Part 1 42, 4037 (2003).
2. K. Murakami and M. Takai, J. Vac. Sci. Technol. B 22, 1266 (2004).
3. R. Kometani, T. Morita, K. Watanabe, T. Hoshino, K. Kondo, K. Kanda, Y. Haruyama, T. Kaito, J. Fujita, M. Ishida, Y. Ochiai, and S. Matsui, J. Vac. Sci. Technol. B 22, 257 (2004).
4. H. W. P. Koops, O. E. Hoinkis, M. E. W. Honsberg, R. Schmidt, R. Blum, G. Böttger, A. Kuligk, C. Liguda, and M. Eich, Microelectron. Eng. 57/58, 995 (2001).
5. H. Morimoto, T. Kishimoto, M. Takai, S. Yura, A. Hosono, S. Okuda, S. Lipp, L. Frey, and H. Ryssel, Jpn. J. Appl. Phys., Part 1 35, 6623 (1996).
6. O. Yavas, C. Ochiai, M. Takai, Y. K. Park, C. Lehrer, S. Lipp, L. Frey, H. Ryssel, A. Hosono, and S. Okuda, J. Vac. Sci. Technol. B 18, 976 (2000).
7. O. Yavas, C. Ochiai, M. Takai, A. Hosono, and S. Okuda, Appl. Phys. Lett. 76, 3319 (2000).
8. C. Ochiai, O. Yavas, M. Takai, A. Hosono, and S. Okuda, J. Vac. Sci. Technol. B 19, 933 (2001).
9. W. Jarupoonphol, C. Ochiai, M. Takai, A. Hosono, and S. Okuda, Jpn. J. Appl. Phys., Part 1 41, 4311 (2002).
10. W. Jarupoonphol, K. Murakami, K. Sakata, and M. Takai, J. Vac. Sci. Technol. B 21, 1598 (2003).
11. C. Lehrer, L. Frey, S. Petersen, H. Ryssel, M. Schäfer, and T. Sulzbach, J. Vac. Sci. Technol. B 22, 1402 (2004).
12. F. Ito, K. Konuma, A. Okamoto, and A. Yano, J. Vac. Sci. Technol. B 16, 783 (1998).
13. P. R. Schwoebel, C. A. Spindt, C. E. Holland, and J. A. Panitz, J. Vac. Sci. Technol. B 19, 980 (2001).
14. W. P. Kang, A. Wisitsora-at, J. L. Davidson, O. K. Tan, W. G. Zhu, Q. Li, and J. F. Xu, J. Vac. Sci. Technol. B 21, 453 (2003).