Maskless fabrication of field-emitter array by focused ion and electron beam

Applied Physics Letters

Volumn 76, Issue 22, 2000, Pages 3319-3321

  Yavas, O ^a   Ochiai, C ^a   Takai, M ^a   Hosono, A ^b   Okuda, S ^b  

^a OSAKA UNIVERSITY   (Japan)

^b MITSUBISHI ELECTRIC CORPORATION   (Japan)

Author keywords

[No Author keywords available]

Indexed keywords

EID: 0001375399     PISSN: 00036951     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.1063/1.126638     Document Type: Article

References (14)

1. T. Tao, W. Wilkinson, and J. Melngailis, J. Vac. Sci. Technol. B 9, 162 (1991).
2. H. C. Petzold and P. J. Heard, Microelectron. Eng. 11, 421 (1990).
3. H. Schaffer and B. Breithaupt, Microelectron. Eng. 13, 275 (1991).
4. M. Takai, T. Kishimoto, M. Yamashita, H. Morimoto, S. Yura, A. Hosono, S. Okuda, S. Lipp, L. Frey, and H. Ryssel, J. Vac. Sci. Technol. B 14, 1973 (1996).
5. P. G. Blauner, J. Ro, Y. Butt, and J. Melngailis, J. Vac. Sci. Technol. B 7, 609 (1989).
6. J. Puretz and L. L. W. Swanson, J. Vac. Sci. Technol. B 10, 2695 (1992).
7. K. Gamo, D. Takehara, and Y. Hamamura, Microelectron. Eng. 5, 163 (1986).
8. M. Komuro and H. Hiroshima, Microelectron. Eng. 35, 273 (1997).
9. R. J. Young and J. Puretz, J. Vac. Sci. Technol. B 13, 2576 (1995).
10. S. Lipp, L. Frey, C. Lehrer, B. Frank, E. Demm, S. Pauthner, and H. Ryssel, J. Vac. Sci. Technol. B 14, 3920 (1996).
11. T. Sakai, T. Ono, M. Nakamoto, and N. Sakuma, J. Vac. Sci. Technol. B 16, 770 (1998).
12. H. Morimoto, M. Yamashita, T. Kishimoto, M. Takai, S. Yura, A. Hosono, S. Okuda, S. Lipp, L. Frey, and H. Ryssel, Jpn. J. Appl. Phys., Part 1 35, 6623 (1996).
13. O. Yavas, C. Ochiai, M. Takai, Y. K. Park, C. Lehrer, S. Lipp, L. Frey, H. Ryssel, A. Hosono, and S. Okuda, J. Vac. Sci. Technol. B 18, 976 (2000).
14. M. Takai, T. Kishimoto, H. Morimoto, Y. K. Park, S. Lipp, C. Lehrer, L. Frey, H. Ryssel, A. Hosono, and S. Kawabuchi, Microelectron. Eng. 41/42, 453 (1998).