X-Ray Reflectivity and FTIR Measurements of N2 Plasma Effects on the Density Profile of Hydrogen Silsesquioxane Thin Films

Journal of the Electrochemical Society

Volumn 148, Issue 10, 2001, Pages

  Lee, H J ^a   Lin, E K ^a   Wu, W L ^a   Fanconi, B M ^a   Lan, J K ^b,c   Cheng, Y L ^b,c   Liou, H C ^d   Wang, Y L ^b   Feng, M S ^c   Chao, C G ^c  

^a NATIONAL INSTITUTE OF STANDARDS AND TECHNOLOGY   (United States)

^b TAIWAN SEMICONDUCTOR MANUFACTURING COMPANY   (Taiwan)

^c NATIONAL CHIAO TUNG UNIVERSITY   (Taiwan)

^d Dow Corning   (United States)

Author keywords

[No Author keywords available]

Indexed keywords

EID: 18044401653     PISSN: 00134651     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.1149/1.1396338     Document Type: Article

References (16)

1. P. T. Liu, T. C. Chang, Y. L. Yang, Y. F. Cheng, F. Y. Shih, J. K. Lee, E. Tsai, and S. M. Sze, Jpn. J. Appl. Phys., Part 1, 38, 6247 (1999).
2. K. M. Chang, I. C. Deng, S. J. Yeh, and Y. P. Tsai, Electrochem. Solid-State Lett., 2, 634 (1999).
3. S. W. Chung, J. H. Shin, N. H. Park, and J. W. Park, Jpn. J. Appl. Phys., Part 1, 38, 5214 (1999).
4. P. T. Liu, T. C. Chang, S. M. Sze, F. M. Pan, Y. J. Mei, W. F. Wu, M. S. Tsai, B. T. Dat, C. Y. Chang, F. Y. Shih, and H. D. Huang, Thin Solid Films, 332, 345 (1998).
5. T. C. Chang, M. F. Chou, Y. J. Mei, J. S. Tsang, F. M. Pan, W. F. Wu, M. S. Tsai, C. Y. Chang, F. Y. Shih, and H. D. Huang, Thin Solid Films, 332, 351 (1998).
6. P. T. Liu, T. C. Chang, Y. L. Yang, Y. F. Cheng, J. K. Lee, F. Y. Shih, E. Tsai, G. Chen, and S. M. Sze, J. Electrochem. Soc., 147, 1186 (2000).
7. W. L. Wu, W. E. Wallace, E. K. Lin, G. W. Lynn, C. J. Glinka, E. T. Ryan, and H. M. Ho, J. Appl. Phys., 87, 1193 (2000).
8. W. L. Wu and H. C. Liou, Thin Solid Films, 312, 73 (1998).
9. L. G. Parratt, Phys. Rev., 95, 359 (1954).
10. G. S. Lodha, K. Yamashita, H. Kunieda, Y. Tawara, J. Yu, Y. Namba, and J. M. Bennett, Appl. Opt. 37, 5239 (1998).
11. S. Santucci, A. V. L. Cecilia, A. R. Phani, R. A. Alfonsetti, G. Moccia, and M. D. Biase, Appl. Phys. Lett., 76, 52 (2000).
12. W. E. Wallace, W. L. Wu, and R. A. Carpio, Thin Solid Films, 280, 37 (1996).
13. M. J. Loboda, C. M. Grove, and R. F. Schneider, J. Electrochem. Soc., 145, 2861 (1998).
14. M. G. Albrecht and C. Blanchette, J. Electrochem. Soc., 145, 4019 (1998).
15. P. A. Agaskar, V. W. Day, and W. G. Klemperer, J. Am. Chem. Soc., 109, 5554 (1987).
16. G. Lucovski, J. Yang, S. S. Chao, J. E. Tyler, and W. Czubatyi, Phys. Rev. B, 28, 3225 (1983).